JPS623417A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS623417A JPS623417A JP14111485A JP14111485A JPS623417A JP S623417 A JPS623417 A JP S623417A JP 14111485 A JP14111485 A JP 14111485A JP 14111485 A JP14111485 A JP 14111485A JP S623417 A JPS623417 A JP S623417A
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- JP
- Japan
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- thin film
- film
- ferromagnetic
- plasma
- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は非磁性基体上に磁気記録層として強磁性金属薄
膜およびその上にプラズマ重合膜を設けてなる磁気記録
媒体に関し、特に潤滑性および電磁変換特性にすぐれる
磁気記録媒体に関する。
膜およびその上にプラズマ重合膜を設けてなる磁気記録
媒体に関し、特に潤滑性および電磁変換特性にすぐれる
磁気記録媒体に関する。
従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にr−
pe 203、coをドープしたγ−Fe2O3、Fe
3O4、CoをドープしたFe3O4、r−Fe 20
3とFe50.のベルトライド化合物、CrO2等の破
性粉末あるいは強磁性合金粉末等を粉末磁性材料を塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体ζスチレン−ブタジェン共
重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バイ
ンダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型
のものが広く使用されてきている。近年高密度記録への
要求の高まシと共に真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング等のペーパーデポジション法あるいは[
気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用
しない、いわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が注目を浴び
ており実用化への努力が種種行なわれている。
pe 203、coをドープしたγ−Fe2O3、Fe
3O4、CoをドープしたFe3O4、r−Fe 20
3とFe50.のベルトライド化合物、CrO2等の破
性粉末あるいは強磁性合金粉末等を粉末磁性材料を塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体ζスチレン−ブタジェン共
重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バイ
ンダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型
のものが広く使用されてきている。近年高密度記録への
要求の高まシと共に真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング等のペーパーデポジション法あるいは[
気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用
しない、いわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が注目を浴び
ており実用化への努力が種種行なわれている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。金属薄膜型の磁
気記録媒体では上記酸化物よシ大きな飽和磁化を有する
強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を含有しない
状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録化のた
めに超薄形にできるという利点を有し、しかもその製造
工程は簡単である。
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。金属薄膜型の磁
気記録媒体では上記酸化物よシ大きな飽和磁化を有する
強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を含有しない
状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録化のた
めに超薄形にできるという利点を有し、しかもその製造
工程は簡単である。
高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よシも一桁小さい薄
型化が容易で、飽和磁束密度も大きい金属薄膜型磁気記
録媒体への期待は大きい。
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よシも一桁小さい薄
型化が容易で、飽和磁束密度も大きい金属薄膜型磁気記
録媒体への期待は大きい。
さらに強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体にかかわる
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘッドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起ってはならない。
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘッドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起ってはならない。
上記の問題の改良のために強磁性金属薄膜にプラズマ重
合膜を保護層として設けることが提案されており、例え
ば特開昭j≠−2/2弘り号、同jターフ 2 A j
J’号、同!ター1r4At、弘/号、同よ?−/j弘
6≠3号、同19−/601コを号、同j?−1710
21号、同!ター/7/。
合膜を保護層として設けることが提案されており、例え
ば特開昭j≠−2/2弘り号、同jターフ 2 A j
J’号、同!ター1r4At、弘/号、同よ?−/j弘
6≠3号、同19−/601コを号、同j?−1710
21号、同!ター/7/。
2り号、同60−λ27JO号、同1.0−J!!30
号、同t 0−3j j J 7号、同40−3172
7号、同4O−31721r号、同40−!7j33号
、同60−17136号、同6O−J−7!37号、同
40−637λ参号、同AO−J9rJj号、同6O−
62t−26号等に開示されている。しかしながらプラ
ズマ重合膜を保護層として設けた従来の金属薄膜型磁気
記録媒体では潤滑性、特に繰返し摩擦における潤滑性が
不十分で、繰返し摩擦特性を向上させるにはプラズマ重
合膜の膜厚を厚くする方法が取り得るがこの場合には電
磁変換特性が劣化し金属薄膜型磁気記録媒体の特徴が生
かせないという問題があシ改良が強く望まれていた。
号、同t 0−3j j J 7号、同40−3172
7号、同4O−31721r号、同40−!7j33号
、同60−17136号、同6O−J−7!37号、同
40−637λ参号、同AO−J9rJj号、同6O−
62t−26号等に開示されている。しかしながらプラ
ズマ重合膜を保護層として設けた従来の金属薄膜型磁気
記録媒体では潤滑性、特に繰返し摩擦における潤滑性が
不十分で、繰返し摩擦特性を向上させるにはプラズマ重
合膜の膜厚を厚くする方法が取り得るがこの場合には電
磁変換特性が劣化し金属薄膜型磁気記録媒体の特徴が生
かせないという問題があシ改良が強く望まれていた。
本発明の目的は、上記の欠点の改良された磁気記録媒体
、すなわち潤滑性、特に繰返し摩擦特性にすぐれると共
に電磁変換特性にすぐれる磁気記録媒体を提供すること
Kある。
、すなわち潤滑性、特に繰返し摩擦特性にすぐれると共
に電磁変換特性にすぐれる磁気記録媒体を提供すること
Kある。
本発明は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を磁性層と
して有し、さらにその上にプラズマ重合膜を設けてなる
磁気記録媒体において、該強磁性金属薄膜表面に高さ!
0〜≠00^の突起が1000万〜rooo万個/罷2
存在していることを特徴とする磁気記録媒体に関する。
して有し、さらにその上にプラズマ重合膜を設けてなる
磁気記録媒体において、該強磁性金属薄膜表面に高さ!
0〜≠00^の突起が1000万〜rooo万個/罷2
存在していることを特徴とする磁気記録媒体に関する。
本発明者等はプラズマ重合保護膜を設けてなる金属薄膜
型磁気記録媒体の潤滑性改良について鋭意研究の結果、
上記微小突起を設けてなる強磁性金属薄膜表面上にプラ
ズマ重合膜を設けることにより繰返し摩擦におけるfr
4滑性が改良されることを見出し、本発明を達成した。
型磁気記録媒体の潤滑性改良について鋭意研究の結果、
上記微小突起を設けてなる強磁性金属薄膜表面上にプラ
ズマ重合膜を設けることにより繰返し摩擦におけるfr
4滑性が改良されることを見出し、本発明を達成した。
第1図は本発明による磁気記録媒体の構成を示している
。本発明による磁気記録媒体は適当な支持体l上に設け
られた強磁性金属薄膜λの表面に微小突起3が設けられ
ている。さらに強磁性金属薄膜コの上にはプラズマ重合
膜≠が設けられているものである。強磁性薄膜λ上に微
小突起3を形成させる方法としては金属合金、金属酸化
物、有機物等の微粒子あるいは微粒子状物あるいは島状
構造物を支持体上に、塗布、蒸着、スパッター、メッキ
、イオンプレーテング法、あるいはこれらとエツチング
、逆スノtツター1逆メッキ等との組合せの方法によっ
て形成せしめ、しかる後その上にメッキ、蒸着、ス/ぐ
ツタ−等の方法により強磁性金属薄膜を形成させて微小
突起を得る方法がある。さらに強磁性金属薄膜そのもの
の形成の際、形成条件の選択によシ直接微小突起を得る
方法あるいは強磁性金属薄膜の形成後イオンビームによ
る選択エッチ等により微小突起を得る方法等いずれでも
いい。本発明において微小突起の寸法は、種々検討の結
果高さくh)は10〜≠00^が好ましく、微小突起の
単位面積あたりの数p((In/−2)は/ 000万
〜rooo万個/n2が好ましい。
。本発明による磁気記録媒体は適当な支持体l上に設け
られた強磁性金属薄膜λの表面に微小突起3が設けられ
ている。さらに強磁性金属薄膜コの上にはプラズマ重合
膜≠が設けられているものである。強磁性薄膜λ上に微
小突起3を形成させる方法としては金属合金、金属酸化
物、有機物等の微粒子あるいは微粒子状物あるいは島状
構造物を支持体上に、塗布、蒸着、スパッター、メッキ
、イオンプレーテング法、あるいはこれらとエツチング
、逆スノtツター1逆メッキ等との組合せの方法によっ
て形成せしめ、しかる後その上にメッキ、蒸着、ス/ぐ
ツタ−等の方法により強磁性金属薄膜を形成させて微小
突起を得る方法がある。さらに強磁性金属薄膜そのもの
の形成の際、形成条件の選択によシ直接微小突起を得る
方法あるいは強磁性金属薄膜の形成後イオンビームによ
る選択エッチ等により微小突起を得る方法等いずれでも
いい。本発明において微小突起の寸法は、種々検討の結
果高さくh)は10〜≠00^が好ましく、微小突起の
単位面積あたりの数p((In/−2)は/ 000万
〜rooo万個/n2が好ましい。
さらに微小突起の2次元的大きさくa)は!00〜コo
oo^が好ましい。
oo^が好ましい。
本発明における強磁性金属薄膜としては、鉄、コバルト
、ニッケルその他の強磁性金属、あるいはFe−Co5
pe−Nis Co−Ni、 Fe−C□ −Ni、
Fe−Rh、Co−P、Co−BXCo−Cu。
、ニッケルその他の強磁性金属、あるいはFe−Co5
pe−Nis Co−Ni、 Fe−C□ −Ni、
Fe−Rh、Co−P、Co−BXCo−Cu。
Co−Zn、Co−Y、Co−La、Co−Ce、C。
PrXCo Gd、Co−8m、Co−Pi、Co−
MnXFe−Gd、 Fe−Tb、Fe−Cr、Co−
c、Ni−Cr、l;’e−co−Cr、Ni Co
Cr。
MnXFe−Gd、 Fe−Tb、Fe−Cr、Co−
c、Ni−Cr、l;’e−co−Cr、Ni Co
Cr。
Fe−N1−CrXpe−co−Ni c、co
NiNdXCo Ni Ce、co−Ni−ZnX
c、−Ni cu、co−Ni−wXCo Ni
Re等の強磁性合金を電気メッキ、無電解メッキ、ペ
ーパーデポジション法等の方法によって薄膜状に形成し
たもので、その膜厚としては磁気記録媒体として使用す
る場合0.02〜λμmの範囲であり、特に0.0!〜
0.参μ専の範囲が望ましい。上記の強磁性金属薄膜は
他に0% Nz C% Ga)As)Sr、Zr、Nb
、Mo、Sn、Sb、Te、0ssIr% Au、 A
g、PbXB1 等を含有しても良い。ペーパーデポ
ジション法とは気体あるいは真空空間中において物質を
蒸気あるいはイオン化した蒸気とし、これを基体上に付
着形成させる方法をいい、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーテング法、イオンビームデポジション
法、化学気相メッキ法などがある。
NiNdXCo Ni Ce、co−Ni−ZnX
c、−Ni cu、co−Ni−wXCo Ni
Re等の強磁性合金を電気メッキ、無電解メッキ、ペ
ーパーデポジション法等の方法によって薄膜状に形成し
たもので、その膜厚としては磁気記録媒体として使用す
る場合0.02〜λμmの範囲であり、特に0.0!〜
0.参μ専の範囲が望ましい。上記の強磁性金属薄膜は
他に0% Nz C% Ga)As)Sr、Zr、Nb
、Mo、Sn、Sb、Te、0ssIr% Au、 A
g、PbXB1 等を含有しても良い。ペーパーデポ
ジション法とは気体あるいは真空空間中において物質を
蒸気あるいはイオン化した蒸気とし、これを基体上に付
着形成させる方法をいい、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーテング法、イオンビームデポジション
法、化学気相メッキ法などがある。
本発明に用いられる非磁性支持体としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化
ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエ
チレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド等の
プラスチックベース、またはAJ、Ti、およびこれら
の合金、ステンレス鋼等である。
ンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化
ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエ
チレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド等の
プラスチックベース、またはAJ、Ti、およびこれら
の合金、ステンレス鋼等である。
本発明におけるプラズマ重合膜とは、有機モノマーガス
をDC,AC,高周波、マイクロ波等で誘起された放電
によるプラズマ中で強磁性金属薄膜上に重合形成させた
有機高分子材料の膜をいう。
をDC,AC,高周波、マイクロ波等で誘起された放電
によるプラズマ中で強磁性金属薄膜上に重合形成させた
有機高分子材料の膜をいう。
この際、有機モノマーガスを直接イオン化してもいいし
、Ars He% 02、N2、N2等のガス放電中に
有機上ツマーガスを導入させてもいい。
、Ars He% 02、N2、N2等のガス放電中に
有機上ツマーガスを導入させてもいい。
プラズマ重合時系の圧力は/〜10 Torrが好ま
しい。本発明におけるプラズマ重合膜の厚さは20〜参
〇〇又の範囲が好ましく特に20−コθ0^が好ましい
。有機モノマーガスとしては、テトラフロロメタン、テ
トラフロロエチレン、ヘキサフロロエタン、ノに一70
ロプロパン、オクタフロロシクロブタン、メタン、エチ
レン、プロピレン、スチレン、ビニルクロライド、スチ
レン、クロロベンゼン、ジメチルシロキサン、ヘキサメ
チルジシラザン、ジエチルアミノトリメチル7ラン等が
単独もしくは混合で使用される。
しい。本発明におけるプラズマ重合膜の厚さは20〜参
〇〇又の範囲が好ましく特に20−コθ0^が好ましい
。有機モノマーガスとしては、テトラフロロメタン、テ
トラフロロエチレン、ヘキサフロロエタン、ノに一70
ロプロパン、オクタフロロシクロブタン、メタン、エチ
レン、プロピレン、スチレン、ビニルクロライド、スチ
レン、クロロベンゼン、ジメチルシロキサン、ヘキサメ
チルジシラザン、ジエチルアミノトリメチル7ラン等が
単独もしくは混合で使用される。
さらに本発明においては、強磁性金属薄膜は単層あるい
は2層以上の多層構成としてもよい。
は2層以上の多層構成としてもよい。
強磁性薄膜を積層して設ける場合には間に非磁性層を介
在させても良い。非磁性中間層として好ましいのはcr
XS i、ACMn、 Bi、’ri。
在させても良い。非磁性中間層として好ましいのはcr
XS i、ACMn、 Bi、’ri。
5nXPb、In、ZnXCuあるいはこれらの酸化物
、窒化物より構成される層である。また上記非磁性層を
強磁性薄膜の下地層として基体上に設けても良い。
、窒化物より構成される層である。また上記非磁性層を
強磁性薄膜の下地層として基体上に設けても良い。
非磁性支持体の両面に磁性膜を設けてもよく、また非磁
性支持体の裏側にいわゆるパック層を設けるようにして
もよい。
性支持体の裏側にいわゆるパック層を設けるようにして
もよい。
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
実施例L
?、jμm厚のポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面に、各種サイズの炭酸カルシウム微粒子を下記結合
剤組成に分散せしめた液を塗布し喪。
表面に、各種サイズの炭酸カルシウム微粒子を下記結合
剤組成に分散せしめた液を塗布し喪。
溶剤としてはメチルエチルケトンを使用し、炭酸カルシ
ウム粉末の塗布密度を変えるため種々の希釈度にて塗布
を実施した。こうして得られた下塗りフィルム上に連続
蒸着機を用いてCoNi強磁性強磁性薄膜CN1量0 を斜め蒸着法により膜厚/100^として形成させ数種
の磁気テープ原反を作成した。得られた磁気テープの強
磁性金属薄膜の表面には微小突起が形成されておシ、そ
の高さくh)は下m9層から突出した炭酸カルシウム微
粒子の突出高さにほぼ等しく、その2次元寸法(a)は
下塗υ層からの突出炭酸カルシウム微粒子のλ次元寸法
の略コ。
ウム粉末の塗布密度を変えるため種々の希釈度にて塗布
を実施した。こうして得られた下塗りフィルム上に連続
蒸着機を用いてCoNi強磁性強磁性薄膜CN1量0 を斜め蒸着法により膜厚/100^として形成させ数種
の磁気テープ原反を作成した。得られた磁気テープの強
磁性金属薄膜の表面には微小突起が形成されておシ、そ
の高さくh)は下m9層から突出した炭酸カルシウム微
粒子の突出高さにほぼ等しく、その2次元寸法(a)は
下塗υ層からの突出炭酸カルシウム微粒子のλ次元寸法
の略コ。
コ倍になっていみ。次に連続プラズマ重合装置を用い上
記CoNi強磁性薄膜の上に膜厚コoogとなるようプ
ラズマ重合膜を設けて磁気記録媒体を作製した。プラズ
マ重合膜の形成はメタンおよびテト,770ロメタンの
l:lの混合ガスを圧力!xlO Torr 中コo
oWの高周波放電によりプラズマ重合させて行なった。
記CoNi強磁性薄膜の上に膜厚コoogとなるようプ
ラズマ重合膜を設けて磁気記録媒体を作製した。プラズ
マ重合膜の形成はメタンおよびテト,770ロメタンの
l:lの混合ガスを圧力!xlO Torr 中コo
oWの高周波放電によりプラズマ重合させて行なった。
こうして得られた磁気記録媒体の表面には高さくh)、
密度(p)が磁性膜表面と同じ微小突起が保たれていた
。
密度(p)が磁性膜表面と同じ微小突起が保たれていた
。
比較例り
実施例1においてポリエチレンテレフタレートフィルム
に下塗り層を設けず直接強磁性金属薄膜を形成させ、そ
の表面に微小突起を設けずに、プラズマ重合膜を厚み2
00大、!00^形成させたサンプルを゛作製した。
に下塗り層を設けず直接強磁性金属薄膜を形成させ、そ
の表面に微小突起を設けずに、プラズマ重合膜を厚み2
00大、!00^形成させたサンプルを゛作製した。
こうして得られ九原反をrwx.幅にスリットし次の方
法にて繰返し摩擦特性および電磁変換特性を測定した。
法にて繰返し摩擦特性および電磁変換特性を測定した。
l,繰返し摩擦特性
SUS 4!λOJのステンレス棒に対する走行速度1
4AWm/3ecでの1回目走行および2QQ回走行さ
せた時の摩擦係数μを調べた。
4AWm/3ecでの1回目走行および2QQ回走行さ
せた時の摩擦係数μを調べた。
2、電磁変換特性
ImVTR(富士写真フィルム■製FUJIX−rm7
)を用いてjMHzのビデオ信号の再生出力信号を上
記1回走行後お,よび200回走行後の場合について測
定した。
)を用いてjMHzのビデオ信号の再生出力信号を上
記1回走行後お,よび200回走行後の場合について測
定した。
結果は表7およびλに示すごとくであった。
このように高さto−4too^、密度1000万〜r
ooo万コ/細2の微小突起を設けてなるCoNi蒸着
磁性膜上にメタンおよびテトラフロロメタン混合ガスの
プラズマ重合膜を有する磁気記録媒体は繰返し摩擦にす
ぐれ、ビデオ信号再生出力特性にもすぐれるものである
。
ooo万コ/細2の微小突起を設けてなるCoNi蒸着
磁性膜上にメタンおよびテトラフロロメタン混合ガスの
プラズマ重合膜を有する磁気記録媒体は繰返し摩擦にす
ぐれ、ビデオ信号再生出力特性にもすぐれるものである
。
実施例2
12、jμm厚のポリイミドフィルム上に各種サイズの
酸化ケイ素微粒子を実施例1と同様の結合剤組成に分散
せしめた液を塗布した。溶剤としてはメチルエチルケト
/を使用し酸化ケイ素粉末の塗布密度をかえるため種々
の希釈度にて塗布を実施した。こうして得られた下塗ク
フイルム上に連続蒸着機を用いてCoCr合金(C:7
10重量%)よυ成る膜厚/100^の強磁性薄膜を形
成させ種々の磁気テープ原反を作成した。次に連続プラ
ズマ重合装置を用い上記C0Cr強磁性薄膜上に膜厚/
50^となるようプラズマ重合膜を形成させ磁気記録媒
体を作製した。プラズマ重合膜としてはスチレンをプラ
ズマ重合させたものを実施例1と同条件で形成した。実
施例!とrfiJ様にして繰返し摩擦での潤滑性、およ
び電磁変換%性を測定したところ表3に示すごとくてら
った。
酸化ケイ素微粒子を実施例1と同様の結合剤組成に分散
せしめた液を塗布した。溶剤としてはメチルエチルケト
/を使用し酸化ケイ素粉末の塗布密度をかえるため種々
の希釈度にて塗布を実施した。こうして得られた下塗ク
フイルム上に連続蒸着機を用いてCoCr合金(C:7
10重量%)よυ成る膜厚/100^の強磁性薄膜を形
成させ種々の磁気テープ原反を作成した。次に連続プラ
ズマ重合装置を用い上記C0Cr強磁性薄膜上に膜厚/
50^となるようプラズマ重合膜を形成させ磁気記録媒
体を作製した。プラズマ重合膜としてはスチレンをプラ
ズマ重合させたものを実施例1と同条件で形成した。実
施例!とrfiJ様にして繰返し摩擦での潤滑性、およ
び電磁変換%性を測定したところ表3に示すごとくてら
った。
このように高さ!O〜4tool、密度1000万〜r
ooo万個/、2の微小突起を有するCoCr蒸着fi
i性膜表面上にスチレンのプラズマ重合膜を形成してな
る磁気記録媒体は繰返し摩擦潤滑性にすぐれ、ビデオ信
号再生出力特性にもすぐれるものである。
ooo万個/、2の微小突起を有するCoCr蒸着fi
i性膜表面上にスチレンのプラズマ重合膜を形成してな
る磁気記録媒体は繰返し摩擦潤滑性にすぐれ、ビデオ信
号再生出力特性にもすぐれるものである。
本発明の磁気記録媒体は、繰返し摩擦における潤滑性お
よび電磁変換特性にすぐれるもので、従来より改良され
た金属薄膜型磁気記録媒体が得られるものである。
よび電磁変換特性にすぐれるもので、従来より改良され
た金属薄膜型磁気記録媒体が得られるものである。
第1図は本発明による磁気記録媒体の基本的構成を示し
ている。 /・・・・・・支持体 コ・・・・・・強磁性金属薄膜 3・・・・・・微小突起 ≠・・−・・・プラズマ重合膜 特許請求人 富士写真フィルム株式会社第1 図
ている。 /・・・・・・支持体 コ・・・・・・強磁性金属薄膜 3・・・・・・微小突起 ≠・・−・・・プラズマ重合膜 特許請求人 富士写真フィルム株式会社第1 図
Claims (1)
- 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜およびその上にプラズ
マ重合膜を設けてなる磁気記録媒体において、該強磁性
金属薄膜表面に高さ50〜400Åの突起が1,000
万〜8,000万個/mm^2存在していることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14111485A JPS623417A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14111485A JPS623417A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS623417A true JPS623417A (ja) | 1987-01-09 |
Family
ID=15284484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14111485A Pending JPS623417A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS623417A (ja) |
-
1985
- 1985-06-27 JP JP14111485A patent/JPS623417A/ja active Pending
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