JPS6235212A - 観察装置 - Google Patents
観察装置Info
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- JPS6235212A JPS6235212A JP17437085A JP17437085A JPS6235212A JP S6235212 A JPS6235212 A JP S6235212A JP 17437085 A JP17437085 A JP 17437085A JP 17437085 A JP17437085 A JP 17437085A JP S6235212 A JPS6235212 A JP S6235212A
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- JP
- Japan
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- wafer
- stage
- inspection
- motor
- alignment
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、半導体ウェハを検査するウェハ検査装置など
において使用される観察装置に関するものである。
において使用される観察装置に関するものである。
例えば、ウェハ検査装置では1つのステージを用いて半
導体ウェハを一枚づつ検査するものが一般的であシ、I
Cなどの生産を行う工場のクリーンルームなどでかなり
のスペースを有しているのが現状である。
導体ウェハを一枚づつ検査するものが一般的であシ、I
Cなどの生産を行う工場のクリーンルームなどでかなり
のスペースを有しているのが現状である。
そこで、最近では、複数ステージ(例えば2つ〕を有す
る検査装置が提案されるようにな夛、これによれば従来
の装置と比較してかな)省スペースとなると考えられて
いる。
る検査装置が提案されるようにな夛、これによれば従来
の装置と比較してかな)省スペースとなると考えられて
いる。
また、ウェハ検査装置においては、ウエノ・のICバッ
トにプローブビンを接触させる針合わせと称させる工程
があり、この工程ではウニノー検査装置に付属している
顕微鏡等を用いて作業者の目視によシ作業が行なわれて
いる。最近では、かかる工程の自動化を図る工夫もなさ
れているものの、実際のICバットとプローブビンの接
触具合を目視によシ確認するという作業は、今後も必要
不可決である。
トにプローブビンを接触させる針合わせと称させる工程
があり、この工程ではウニノー検査装置に付属している
顕微鏡等を用いて作業者の目視によシ作業が行なわれて
いる。最近では、かかる工程の自動化を図る工夫もなさ
れているものの、実際のICバットとプローブビンの接
触具合を目視によシ確認するという作業は、今後も必要
不可決である。
ところが、ステージが複数ある場合に、各ステ−ジ毎に
顕微鏡などを設けることは必ずしも必要ではない。別言
すれば、各ステージ毎に顕微鏡などの観察手段を設ける
とすれば、1つのウェハ検査装置に複数のステージを設
けたことの意義が低減することとなる。
顕微鏡などを設けることは必ずしも必要ではない。別言
すれば、各ステージ毎に顕微鏡などの観察手段を設ける
とすれば、1つのウェハ検査装置に複数のステージを設
けたことの意義が低減することとなる。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、複数の
ステージを有するウェハ検査装置などに好適であり、構
造が使易で作業、メンテナンスに有利な観察装置を提供
することをその目的とするものである。
ステージを有するウェハ検査装置などに好適であり、構
造が使易で作業、メンテナンスに有利な観察装置を提供
することをその目的とするものである。
本発明は、光学系を含む1つの観察手段例えば顕微鏡を
備え、これを移動手段によっていずれかの観察対象の観
察位置に移動させるとともに、回転手段によって顕微鏡
をその光学系の光軸を中心として回転できるようにし、
1つの観察手段によって2つ以上の観察対象を観察でき
るようにしたことを技術的要点とするものである。
備え、これを移動手段によっていずれかの観察対象の観
察位置に移動させるとともに、回転手段によって顕微鏡
をその光学系の光軸を中心として回転できるようにし、
1つの観察手段によって2つ以上の観察対象を観察でき
るようにしたことを技術的要点とするものである。
以下、図面を参照しながら本発明の実施例を詳細に説明
する。
する。
第1図には、本発明にかかる観察装置を有するウェハ検
査装置の一実施例の平面が示されている。
査装置の一実施例の平面が示されている。
また、第2図には、ケーシング内の特にステージ部分の
正面図が示されてbp、第6図には、第1図のA−A線
に沿った断面のうちローディング機構の部分が示されて
いる。
正面図が示されてbp、第6図には、第1図のA−A線
に沿った断面のうちローディング機構の部分が示されて
いる。
これら第1図ないし第6図において、1は架台部、2及
び6は架台部1上にそれぞれ別個独立に設けられた防振
機構である。ベース4は防振機構2上に固定されている
。XYステージ5はベース4上に設けられベース4上を
X、Y方向に移動可能である02ステージ6はXYステ
ージ5上に設けられXYステージ上をZ方向に移動可能
である。
び6は架台部1上にそれぞれ別個独立に設けられた防振
機構である。ベース4は防振機構2上に固定されている
。XYステージ5はベース4上に設けられベース4上を
X、Y方向に移動可能である02ステージ6はXYステ
ージ5上に設けられXYステージ上をZ方向に移動可能
である。
θ回転ステージ7は2ステージ6上に設けられZステー
ジ6上で回転(自転)可能である0各ステージ(XY、
Z、θ)はそれぞれ不図示のモータによシ駆動されるも
のである。ウェハ8はθ回転ステージ7上に配置される
。そしてθ回転ステージ7は不図示の吸着機構を有し、
該吸着機構により面上にウェハ8を真空吸着することが
できる。
ジ6上で回転(自転)可能である0各ステージ(XY、
Z、θ)はそれぞれ不図示のモータによシ駆動されるも
のである。ウェハ8はθ回転ステージ7上に配置される
。そしてθ回転ステージ7は不図示の吸着機構を有し、
該吸着機構により面上にウェハ8を真空吸着することが
できる。
プローブカード9はベース4から立ち上がった支持台1
0に固定される。ウェハ8は上述したXYステージ5、
zステージ6(の微動)、θ回転ステージ7によりx、
y、z、θ方向のアライメントを制御される。13はウ
ェハ8を上述の如くアライメントする為にウェハ8上に
形成されたチップの位置を検出するセンサ(受光部)で
ある。ウェハ8に形成されたICチップは、Zステージ
乙の上下動(粗動)によりプローブ針9aに接触される
。プローブ針9aよジ得られた信号はプローブカード9
含介してウェハ検査装置とは別に設けられたテスターへ
入力され、テスターにてウェハ8に関する検査出力が得
られる。もちろんテスターは上述したウェハ検査装置と
一体に設けてもよい。本実施例では以上述べた要素4〜
7.9〜11.13にて右側検査部が構成されている。
0に固定される。ウェハ8は上述したXYステージ5、
zステージ6(の微動)、θ回転ステージ7によりx、
y、z、θ方向のアライメントを制御される。13はウ
ェハ8を上述の如くアライメントする為にウェハ8上に
形成されたチップの位置を検出するセンサ(受光部)で
ある。ウェハ8に形成されたICチップは、Zステージ
乙の上下動(粗動)によりプローブ針9aに接触される
。プローブ針9aよジ得られた信号はプローブカード9
含介してウェハ検査装置とは別に設けられたテスターへ
入力され、テスターにてウェハ8に関する検査出力が得
られる。もちろんテスターは上述したウェハ検査装置と
一体に設けてもよい。本実施例では以上述べた要素4〜
7.9〜11.13にて右側検査部が構成されている。
ベース14、XYステージ15、Zステージ16、θ回
転ステージ17、プローブカード19、支持台20、セ
ンサ22はそれぞれ右側検査部の要素4〜7.9〜11
.13と同様に構成されておp1左側検査部を構成して
いる。18はθ回転ステージ上に配置されたウェハを示
している。上述した右側検査部と左側検査部とは架台部
1上に独立して設けられた防振機構2.6にそれぞれ支
持されておシ、この防振機構2.6によシ相互に振動が
伝達されないよう構成されている。制御ユニット23は
、演算処理部、メモリ一部、工10部等からなるマイク
ロコンピュータ(以下MCUと称す)23aを備え、上
述したステージ5〜7.15〜17、後述するウェハキ
ャリアの搬送機構、後述するウェハローディング機構等
の駆動を制御する。
転ステージ17、プローブカード19、支持台20、セ
ンサ22はそれぞれ右側検査部の要素4〜7.9〜11
.13と同様に構成されておp1左側検査部を構成して
いる。18はθ回転ステージ上に配置されたウェハを示
している。上述した右側検査部と左側検査部とは架台部
1上に独立して設けられた防振機構2.6にそれぞれ支
持されておシ、この防振機構2.6によシ相互に振動が
伝達されないよう構成されている。制御ユニット23は
、演算処理部、メモリ一部、工10部等からなるマイク
ロコンピュータ(以下MCUと称す)23aを備え、上
述したステージ5〜7.15〜17、後述するウェハキ
ャリアの搬送機構、後述するウェハローディング機構等
の駆動を制御する。
次に、検査装置の平面中央背後には、中心軸21B−を
中心にして揺動可能な振シ分は機構21が設けられてお
シ、そのアーム21Aの先端には観察手段として、の顕
微鏡11が設けられている。
中心にして揺動可能な振シ分は機構21が設けられてお
シ、そのアーム21Aの先端には観察手段として、の顕
微鏡11が設けられている。
顕微鏡11は、アーム21Aの先端に対して、移動平面
内で、前記中心軸21Bと平行な対物レンズ11A(第
2図参照)の光軸を中心に回動可能となっている。これ
によp1アーム21Aが回転しても顕微鏡11の接眼レ
ンズ11Bが正面を向くようになっている。
内で、前記中心軸21Bと平行な対物レンズ11A(第
2図参照)の光軸を中心に回動可能となっている。これ
によp1アーム21Aが回転しても顕微鏡11の接眼レ
ンズ11Bが正面を向くようになっている。
すなわち顕微鏡11は中心軸21Bのまわりを公転可能
であると共に、対物レンズ11Aの光軸を中心に自転可
能に構成されている。
であると共に、対物レンズ11Aの光軸を中心に自転可
能に構成されている。
次にウェハキャリアの搬送機構及びウェハローディング
機構について述べる。ウェハキャリアの搬送機構は第1
図の61で示した部分に、またウニハローディング機構
は第1図の62で示した部分に配置されている。ウェハ
を複数枚収納したウェハキャリア33g、33bは不図
示の搬送機構により順次B位置へ搬送される。B位置に
もたらされたキャリア33aは第6図に示した載置台3
4aK載せられ昇降機64により破線位置まで上昇せし
められる。第6図に示したモータ65は昇降機34の載
置台34a’に上下動させるものである。この昇降機6
4及びモータ65は上述した搬送機構の一部を構成する
ものである。架台部1に固定された支持台36は案内部
材67とウオーム38を有し、ウオーム68はモータ6
9により回転される。モータ40けウオーム38と噛み
合う不図示のウオーム歯車を有し、モータ39の正逆回
転により案内部材37に案内されて第6図中左右力向(
X方向)へ移動する。七−り40は回転軸41を有し、
アーム42はこの回転軸41に固設されている。そして
アーム42はモータ40の正逆回転により回転軸41を
中心にして第1図中時計方向及び反時計方向に回転可能
である。本実施例では上述し九要素66〜42にてウェ
ハのローディング機構′fr構成している。支持台4ろ
は架台部1に固定され、モータ44はこの支持台43に
固定されている。ウェハのプリアライメントを行なう為
のステージ45はモータ44によって回転(自転)可能
である。
機構について述べる。ウェハキャリアの搬送機構は第1
図の61で示した部分に、またウニハローディング機構
は第1図の62で示した部分に配置されている。ウェハ
を複数枚収納したウェハキャリア33g、33bは不図
示の搬送機構により順次B位置へ搬送される。B位置に
もたらされたキャリア33aは第6図に示した載置台3
4aK載せられ昇降機64により破線位置まで上昇せし
められる。第6図に示したモータ65は昇降機34の載
置台34a’に上下動させるものである。この昇降機6
4及びモータ65は上述した搬送機構の一部を構成する
ものである。架台部1に固定された支持台36は案内部
材67とウオーム38を有し、ウオーム68はモータ6
9により回転される。モータ40けウオーム38と噛み
合う不図示のウオーム歯車を有し、モータ39の正逆回
転により案内部材37に案内されて第6図中左右力向(
X方向)へ移動する。七−り40は回転軸41を有し、
アーム42はこの回転軸41に固設されている。そして
アーム42はモータ40の正逆回転により回転軸41を
中心にして第1図中時計方向及び反時計方向に回転可能
である。本実施例では上述し九要素66〜42にてウェ
ハのローディング機構′fr構成している。支持台4ろ
は架台部1に固定され、モータ44はこの支持台43に
固定されている。ウェハのプリアライメントを行なう為
のステージ45はモータ44によって回転(自転)可能
である。
次に第4図を弁皿して本装置の動作を説明する。
まず制御ユニット26内の八4CU(23+a )から
の指令によシ搬送機構は前述の如くキャリア33a、3
3bを順次3泣置へもたらし、B位置にきたキャリアを
昇降@64によシ第3図破線位置まで上昇する。M C
U 23 aは■θ回転ステージ7にウェハがあるか否
かを判別する。ステージ7にウェハがないと判断した場
合には■プリアライメント用ステージ45にウエノ為が
あるか否かを判別する。そしてステージ45にウニ/S
がないと判断した場合には■プリアライメント用ステー
ジ45ヘウエハをもってくるよう指令を出す。そしてM
CU 23 aのサブルーチン(不図示)に従ってロ
ーディング機構、プリアライメント用ステージは次のよ
うに動作する。まずモータ69が正回転しモータ40が
第6図左方向へ移動する。そしてアーム42上にキャリ
ア53a内に収納されたウェハのうちの一枚が載置され
る。それからモータろ9が逆回転を始め、モータ40と
ともにアーム42が、第1図及び第3図に図示した位置
を通って、さらに第3図中右方向へ移動する。そして適
当な位置でモータ40は移動を停止される。その後モー
タ40が回転を始め、アーム42が軸41を中心に18
0度回転する。こうしてウエノ1がプリアライメント用
ステージ45上にもたらされ、ウェハがステージ45上
に載置される。その後モータ40は、モータ39の回転
により第3図左方向へ移動し、第1図及び第6図に図示
し次位置にもどる。ただしアーム42はステージ45の
方へ向いたままである。一方つエバを載置したステージ
45は回転によシウェハのプリアライメントを行なう。
の指令によシ搬送機構は前述の如くキャリア33a、3
3bを順次3泣置へもたらし、B位置にきたキャリアを
昇降@64によシ第3図破線位置まで上昇する。M C
U 23 aは■θ回転ステージ7にウェハがあるか否
かを判別する。ステージ7にウェハがないと判断した場
合には■プリアライメント用ステージ45にウエノ為が
あるか否かを判別する。そしてステージ45にウニ/S
がないと判断した場合には■プリアライメント用ステー
ジ45ヘウエハをもってくるよう指令を出す。そしてM
CU 23 aのサブルーチン(不図示)に従ってロ
ーディング機構、プリアライメント用ステージは次のよ
うに動作する。まずモータ69が正回転しモータ40が
第6図左方向へ移動する。そしてアーム42上にキャリ
ア53a内に収納されたウェハのうちの一枚が載置され
る。それからモータろ9が逆回転を始め、モータ40と
ともにアーム42が、第1図及び第3図に図示した位置
を通って、さらに第3図中右方向へ移動する。そして適
当な位置でモータ40は移動を停止される。その後モー
タ40が回転を始め、アーム42が軸41を中心に18
0度回転する。こうしてウエノ1がプリアライメント用
ステージ45上にもたらされ、ウェハがステージ45上
に載置される。その後モータ40は、モータ39の回転
により第3図左方向へ移動し、第1図及び第6図に図示
し次位置にもどる。ただしアーム42はステージ45の
方へ向いたままである。一方つエバを載置したステージ
45は回転によシウェハのプリアライメントを行なう。
M CU 23 aはプリアライメントが終了したこと
を検出すると■0回転ステージ7ヘウエハをセットする
よう指令を出す。■の段階でステージ45にウェハがあ
ると判断された場合に、プリアライメントがすでに終了
していれば、即座に■の段階へ移行する。また■の段階
でステージ45にウェハがあると判断され、その時まだ
プリアライメントが終了していなければ、プリアライメ
ントの動作が続行さtlそのプリアライメントが終了し
た時点で■の段階へ移行する。■の段階でθ回転ステー
ジ7ヘウエハをセットする指令〃:出ると、MCU23
aのサブルーチン(不図示)に従ってローディング機構
、ファインアライメント用ステージ(XY、Z、θの各
ステー亡シ5〜7)は次のように動作する。まずモータ
69が逆回転を始め、モータ40はアーム42をプリア
ライメント用ステージ45に向けたまま、第6図右方向
へ移動する。そしてアーム42上にプリアライメントさ
れたウェハが載置されるとモータ39が正回転し、モー
タ40が第6図左方向へ移動する。
を検出すると■0回転ステージ7ヘウエハをセットする
よう指令を出す。■の段階でステージ45にウェハがあ
ると判断された場合に、プリアライメントがすでに終了
していれば、即座に■の段階へ移行する。また■の段階
でステージ45にウェハがあると判断され、その時まだ
プリアライメントが終了していなければ、プリアライメ
ントの動作が続行さtlそのプリアライメントが終了し
た時点で■の段階へ移行する。■の段階でθ回転ステー
ジ7ヘウエハをセットする指令〃:出ると、MCU23
aのサブルーチン(不図示)に従ってローディング機構
、ファインアライメント用ステージ(XY、Z、θの各
ステー亡シ5〜7)は次のように動作する。まずモータ
69が逆回転を始め、モータ40はアーム42をプリア
ライメント用ステージ45に向けたまま、第6図右方向
へ移動する。そしてアーム42上にプリアライメントさ
れたウェハが載置されるとモータ39が正回転し、モー
タ40が第6図左方向へ移動する。
こうしてモータ40は第1図及び第6図に図示した位置
に戻る。その後モータ40が正回転し、アーム42は第
1図にて時計方向に90度回転する。したがってウェハ
はC位置にもたらされる。
に戻る。その後モータ40が正回転し、アーム42は第
1図にて時計方向に90度回転する。したがってウェハ
はC位置にもたらされる。
この時XYステージ5はモータ(不図示)によシ駆動さ
れθ回転ステージ7もC位置まで移動してきている。よ
ってθ回転ステージZ上にウエノ為が載置される。ステ
ージ7はこのウェハを吸着し、面上に固定する。こうし
てステージZ上にウェハがセットされる。その後モータ
40の正回転によりアーム42は第1図時計方向に90
度回転し、第1図の状態に戻る。またθ回転ステージ7
もXYステージ5の移動によシ第1図及び第2図に図示
した位置に戻る。その後MCU23aはXYステージを
X、Y方向へ駆動するとともに、不図示の照明光学系に
ウェハを照明させ、ウェハからの反射光をセンサ16に
て受光させる。このようKしてウェハ上に形成されたチ
ップの位置に関する情報を得る。MCU 23 aは、
このセンサ13で得られたデータ等に基づいてステージ
5〜7を微動し、ウェハのファインアライメントがなさ
れる。第1図のウェハ8はこのようにしてもたらされた
ウェハである。MCU23aHウェハ8のファインアラ
イメントが終了すると不図示のテスターへ信号を送フ、
同時に2ステージ6を不図示のモータによシ駆動してθ
回転ステージ7を上昇せしめる。
れθ回転ステージ7もC位置まで移動してきている。よ
ってθ回転ステージZ上にウエノ為が載置される。ステ
ージ7はこのウェハを吸着し、面上に固定する。こうし
てステージZ上にウェハがセットされる。その後モータ
40の正回転によりアーム42は第1図時計方向に90
度回転し、第1図の状態に戻る。またθ回転ステージ7
もXYステージ5の移動によシ第1図及び第2図に図示
した位置に戻る。その後MCU23aはXYステージを
X、Y方向へ駆動するとともに、不図示の照明光学系に
ウェハを照明させ、ウェハからの反射光をセンサ16に
て受光させる。このようKしてウェハ上に形成されたチ
ップの位置に関する情報を得る。MCU 23 aは、
このセンサ13で得られたデータ等に基づいてステージ
5〜7を微動し、ウェハのファインアライメントがなさ
れる。第1図のウェハ8はこのようにしてもたらされた
ウェハである。MCU23aHウェハ8のファインアラ
イメントが終了すると不図示のテスターへ信号を送フ、
同時に2ステージ6を不図示のモータによシ駆動してθ
回転ステージ7を上昇せしめる。
このθ回転ステージの上昇によってウェハ8上に形成さ
れたテップがプローブ針9aに接触する。
れたテップがプローブ針9aに接触する。
このとき、オペレータは、第1図あるいは第2図の破線
め如く顕微鏡11を移動してチップとブロッグ針9aと
の接触状態を観察する。
め如く顕微鏡11を移動してチップとブロッグ針9aと
の接触状態を観察する。
次に、テスターによツブローブ針9aの接触し九テップ
の検査が行なわれる。そのチップの検査が終了すると、
MCU 23 aからの信号によ#)zステージ6が駆
動されθ回転ステージ7が下降する。そしてXYステー
ジ5が1チップ分移動された後、再びθ回転ステージ7
が上昇され次のチップがプローブ針9aに接触し、テス
ターによシ検査がなされる。このような動作が順次繰〕
返されることによりウェハ8上に形成された多数のチッ
プが検査されていく。MCU23aは■のウェハセット
命令を出すと、上述したウェハ検査が終了するのを待た
ず、即座にのの段階へ移行し、θ回転ステージ17にウ
ェハがあるか否かを判別することとなる。即ち上述し、
たウェハセット及びファインアライメント及びウェハ検
査の工程と、■の判別(及びそれ以降の工程)とは並行
してなされることになる。■の段階でθ回転ステージ7
にウェハがあると判断された場合にM CU 23 a
は■θ回転ステージZ上のウェハの検査が終わっている
か否かを判別する。その時まだウエノ1検査が終わって
いなければ、MCU23aは上述したステージ7へのウ
ェハセット及びそのウェハに関するファインアライメン
ト及びウェハ検査を続行させる。そしてウェハ検査の終
了を待たずに、即座に■の段階へ移行する。即ちウェハ
セット及びファインアライメント及びウェハ検査の工程
と、のの判別(及びそれ以降の工程)とは並行して行な
われることになる。■の段階でウェハの検査が終わって
いればMCU23aは■θ回転ステージ7上のウェハを
キャリア33aへ戻せという指令を出す。この指令が出
ると、MCU23aのサブルーチン(不図示)に従って
ローディング機構、ファインアライメント用ステージは
次のように動作する。まずモータ40が逆回転しアーム
42は第1図図示の位置から反時計方向に90度回転す
る。
の検査が行なわれる。そのチップの検査が終了すると、
MCU 23 aからの信号によ#)zステージ6が駆
動されθ回転ステージ7が下降する。そしてXYステー
ジ5が1チップ分移動された後、再びθ回転ステージ7
が上昇され次のチップがプローブ針9aに接触し、テス
ターによシ検査がなされる。このような動作が順次繰〕
返されることによりウェハ8上に形成された多数のチッ
プが検査されていく。MCU23aは■のウェハセット
命令を出すと、上述したウェハ検査が終了するのを待た
ず、即座にのの段階へ移行し、θ回転ステージ17にウ
ェハがあるか否かを判別することとなる。即ち上述し、
たウェハセット及びファインアライメント及びウェハ検
査の工程と、■の判別(及びそれ以降の工程)とは並行
してなされることになる。■の段階でθ回転ステージ7
にウェハがあると判断された場合にM CU 23 a
は■θ回転ステージZ上のウェハの検査が終わっている
か否かを判別する。その時まだウエノ1検査が終わって
いなければ、MCU23aは上述したステージ7へのウ
ェハセット及びそのウェハに関するファインアライメン
ト及びウェハ検査を続行させる。そしてウェハ検査の終
了を待たずに、即座に■の段階へ移行する。即ちウェハ
セット及びファインアライメント及びウェハ検査の工程
と、のの判別(及びそれ以降の工程)とは並行して行な
われることになる。■の段階でウェハの検査が終わって
いればMCU23aは■θ回転ステージ7上のウェハを
キャリア33aへ戻せという指令を出す。この指令が出
ると、MCU23aのサブルーチン(不図示)に従って
ローディング機構、ファインアライメント用ステージは
次のように動作する。まずモータ40が逆回転しアーム
42は第1図図示の位置から反時計方向に90度回転す
る。
同時にXYステージ5が駆動され、θ回転ステージ7F
iC位置に移動される。そして真空吸着が解除され、ア
ーム42上にウェハ8が載置される。
iC位置に移動される。そして真空吸着が解除され、ア
ーム42上にウェハ8が載置される。
この後ステージ7は第1図図示の位置に移動される。尚
ステージ7は次のウェハがくるまでC位置で待機するよ
うに設けてもよい。アーム42につエバ8が載置された
後、モータ4oは正回転し、アーム42は第1図時計方
向に90度回転して第1図図示の位置に戻る0そしてモ
ータ69が正回転しモータ40が第6図左方向へ移動さ
れ、ウェハがウェハキャリヤ33a内に戻される。その
後モータ39によQモータ40は第6図の位置に復帰す
る。モータ40がこの位置に復帰を完了するとM CU
23 aは■の段階へ戻ることになる。
ステージ7は次のウェハがくるまでC位置で待機するよ
うに設けてもよい。アーム42につエバ8が載置された
後、モータ4oは正回転し、アーム42は第1図時計方
向に90度回転して第1図図示の位置に戻る0そしてモ
ータ69が正回転しモータ40が第6図左方向へ移動さ
れ、ウェハがウェハキャリヤ33a内に戻される。その
後モータ39によQモータ40は第6図の位置に復帰す
る。モータ40がこの位置に復帰を完了するとM CU
23 aは■の段階へ戻ることになる。
M CU 23 aは■あるいは■から■の段階へ移行
するとθ回転ステージ17にウェハがあるか否が全判別
する。そしてステージ17にウェハがないと判断した場
合には■プリアライメント用ステージ45にウェハがあ
るか否かを判別する。そしてステージ45にウェハがな
いと判断した場合には■プリアライメント用ステージ4
5ヘウェハをもってくるよう指令を出す。そして■の段
階の動作と同様にしてキャリア33aに収納されたウェ
ハをプリアライメント用ステージ45へもたらし、ウェ
ハのプリアライメント、を行なう。こうしてプリアライ
メントが終了したことを検出すると[株]θ回転ステー
ジ17ヘウエハをセットするよう指令を出す。■の段階
でステージ45上にウェハがあると判断された場合の動
作は■の段階でステージ45上にウェハがあると判断さ
れた場合の動作を同様である。■の段階でθ回転ステー
ジ17ヘウエハをセットする指令が出ると、MCU23
aは不図示のサブルーチンに従ってローディング機構及
びステージ15〜17の制御を行なう。これは■の段階
でステージ45上のウェハをステージ7ヘセツトする制
御、セットされたウェハをファインアライメントする制
御、ウェハ検査の制御と同様にしてなされる。ただ■と
は、アーム42の回転力向、ステージ5〜7にかわって
ステージ15〜17が移動される点、ステージ17上に
ウェハをセットする時にステーi:/17がθ位置にも
たらされる点、ステージ17上のウェハはプローブ針1
9aにて検査される点がそれぞれ異なる。
するとθ回転ステージ17にウェハがあるか否が全判別
する。そしてステージ17にウェハがないと判断した場
合には■プリアライメント用ステージ45にウェハがあ
るか否かを判別する。そしてステージ45にウェハがな
いと判断した場合には■プリアライメント用ステージ4
5ヘウェハをもってくるよう指令を出す。そして■の段
階の動作と同様にしてキャリア33aに収納されたウェ
ハをプリアライメント用ステージ45へもたらし、ウェ
ハのプリアライメント、を行なう。こうしてプリアライ
メントが終了したことを検出すると[株]θ回転ステー
ジ17ヘウエハをセットするよう指令を出す。■の段階
でステージ45上にウェハがあると判断された場合の動
作は■の段階でステージ45上にウェハがあると判断さ
れた場合の動作を同様である。■の段階でθ回転ステー
ジ17ヘウエハをセットする指令が出ると、MCU23
aは不図示のサブルーチンに従ってローディング機構及
びステージ15〜17の制御を行なう。これは■の段階
でステージ45上のウェハをステージ7ヘセツトする制
御、セットされたウェハをファインアライメントする制
御、ウェハ検査の制御と同様にしてなされる。ただ■と
は、アーム42の回転力向、ステージ5〜7にかわって
ステージ15〜17が移動される点、ステージ17上に
ウェハをセットする時にステーi:/17がθ位置にも
たらされる点、ステージ17上のウェハはプローブ針1
9aにて検査される点がそれぞれ異なる。
この場合には、オペレータは第1図又は第2図の実線で
示すように顕微鏡11を移動させ、ウェハ上のチップと
プローブ針19のとの接触状態を観察しチェックする。
示すように顕微鏡11を移動させ、ウェハ上のチップと
プローブ針19のとの接触状態を観察しチェックする。
そして、このチェック後、該チップの検査が行なわれる
。尚、ウェハ検査は前述したテスターと同一のテスター
によシ行なわれる。M CU 23 aは@のウェハセ
ット命令を出すと、ウェハ検査が終了するのを待たずに
、即座VCoの段階へ移行し1、プリアライメント用ス
テージ45にウェハがあるか否かを判別することになる
。すなわち前述した■、の七同様に、ステージへのウェ
ハセット及びセットされたウェハのファインアライメン
ト及びウェハ検査の工程と、■の判別(及びそれ以降の
工程)とが並行して行なわれる。■の段階でプリアライ
メント用ステージ45にウェハがあると判断された場合
に、MC023aは00回軒テーブル17上のウェハの
検査が終わっているか否かを判別する。その時までにウ
ェハ検査が終わっていなければs M CU 25 a
はステージ17へのウェハセット及びそのウェハのファ
インアライメント及びウェハ検査を続行させる0そして
ウェハ検査の終了を待たずに、即座にのの段階へ移行す
る。すなわち前述したOlのと同様に、ウェハセット及
びファインアライメント及びウェハ検査の工程と、Oの
判別(及びそれ以降の工程)とは並行して行なわれる。
。尚、ウェハ検査は前述したテスターと同一のテスター
によシ行なわれる。M CU 23 aは@のウェハセ
ット命令を出すと、ウェハ検査が終了するのを待たずに
、即座VCoの段階へ移行し1、プリアライメント用ス
テージ45にウェハがあるか否かを判別することになる
。すなわち前述した■、の七同様に、ステージへのウェ
ハセット及びセットされたウェハのファインアライメン
ト及びウェハ検査の工程と、■の判別(及びそれ以降の
工程)とが並行して行なわれる。■の段階でプリアライ
メント用ステージ45にウェハがあると判断された場合
に、MC023aは00回軒テーブル17上のウェハの
検査が終わっているか否かを判別する。その時までにウ
ェハ検査が終わっていなければs M CU 25 a
はステージ17へのウェハセット及びそのウェハのファ
インアライメント及びウェハ検査を続行させる0そして
ウェハ検査の終了を待たずに、即座にのの段階へ移行す
る。すなわち前述したOlのと同様に、ウェハセット及
びファインアライメント及びウェハ検査の工程と、Oの
判別(及びそれ以降の工程)とは並行して行なわれる。
0の段階でウェハの検査が終わっていればMCU23a
は@θ回転ステージ17上のウェハをキャリア33aへ
戻せという指令を出す。この指令が出ると、MCU23
aのサブルーチン(不図示)に従ってローディング機構
及びファインアライメント用ステージ15〜17が動作
し、6)と同様にしてステージ17上のウェハ18がキ
ャリア33a内に戻され、第1図及び第6図の状態が復
元される。ただ■とは、アーム42の回転力向、ステー
ジ15〜17が移動される点、ステージ17!>;D位
置にもたらされる点がそれぞれ異なる。MCU 23
aは、ローディング機構が第1図及び第3図の状態に復
元されると■の段階へ戻る゛。MCU 23 aは@あ
るいはOから00段階へ移行すると、プリアライメント
用ステ′−ジ45にウェハがあるか否か判別する。そし
てステージ45にウェハがないと判断した場合には0プ
リアライメント用ステージ45ヘウエハをもってぐるよ
う指令を出す。そしてM CU 25 aのサブルーチ
ンに従い■、■の段階の動作と同様にしてキャリア33
aに収納されたウェハをプリアライメント用ステージ4
5へもたらし、ウェハのプリアライメントを行なう。
は@θ回転ステージ17上のウェハをキャリア33aへ
戻せという指令を出す。この指令が出ると、MCU23
aのサブルーチン(不図示)に従ってローディング機構
及びファインアライメント用ステージ15〜17が動作
し、6)と同様にしてステージ17上のウェハ18がキ
ャリア33a内に戻され、第1図及び第6図の状態が復
元される。ただ■とは、アーム42の回転力向、ステー
ジ15〜17が移動される点、ステージ17!>;D位
置にもたらされる点がそれぞれ異なる。MCU 23
aは、ローディング機構が第1図及び第3図の状態に復
元されると■の段階へ戻る゛。MCU 23 aは@あ
るいはOから00段階へ移行すると、プリアライメント
用ステ′−ジ45にウェハがあるか否か判別する。そし
てステージ45にウェハがないと判断した場合には0プ
リアライメント用ステージ45ヘウエハをもってぐるよ
う指令を出す。そしてM CU 25 aのサブルーチ
ンに従い■、■の段階の動作と同様にしてキャリア33
aに収納されたウェハをプリアライメント用ステージ4
5へもたらし、ウェハのプリアライメントを行なう。
MCU23aは[相]の指令によシウエハのプリアライ
メントが終了するとω段階へ戻る。また00段階でステ
ージ45上にウェハがあると判断された場合の動作は、
2.8の段階でステージ45にウェハがあると判断され
た場合の動作と同様である。
メントが終了するとω段階へ戻る。また00段階でステ
ージ45上にウェハがあると判断された場合の動作は、
2.8の段階でステージ45にウェハがあると判断され
た場合の動作と同様である。
ただ1.McU23&はプリアライメントの終了ととも
に■へ戻る。
に■へ戻る。
本実施例において、ローティング機構がある指令(第1
の指令)に従って動作している時に、ローディング機構
を動作する別の指令(第2の指令)が出た時には(例え
ば■の指令と■の指令が出た時には)、ローディング機
構は第1の指令に従う動作が終了した後に第2の指令に
従う動作を行なうことはいうまでもない。しかしながら
θ回転ステージ7゜17にウェハがセットされてからそ
のウェハの検査が終了するまでの時間は、ローディング
機構の動作する時間に比べて非常に長い。したがってロ
ーディン機構に上述の如く2つの指令が同時に加えられ
ることはほとんどない。
の指令)に従って動作している時に、ローディング機構
を動作する別の指令(第2の指令)が出た時には(例え
ば■の指令と■の指令が出た時には)、ローディング機
構は第1の指令に従う動作が終了した後に第2の指令に
従う動作を行なうことはいうまでもない。しかしながら
θ回転ステージ7゜17にウェハがセットされてからそ
のウェハの検査が終了するまでの時間は、ローディング
機構の動作する時間に比べて非常に長い。したがってロ
ーディン機構に上述の如く2つの指令が同時に加えられ
ることはほとんどない。
また本実施例しこおいて■、0.■、■、0.0.0の
各判別は、MCU23a自身が第4図のフローチャート
に従ったローディング機構、プリアライメント用ステー
ジ、ファインアライメント用ステージ等の制御状態を判
別することによってなされる。例えば■の判別を行なう
場合には次の如くである。即ち、アーム42がθ回転ス
テージ7からウェハを受は取る動作が終了しており、そ
のアーム42からステージ7へ新たなウェハを供給する
動作が行なわれていなければ、MCU23aはθ回転ス
テージ7にウェハがないと判断する。
各判別は、MCU23a自身が第4図のフローチャート
に従ったローディング機構、プリアライメント用ステー
ジ、ファインアライメント用ステージ等の制御状態を判
別することによってなされる。例えば■の判別を行なう
場合には次の如くである。即ち、アーム42がθ回転ス
テージ7からウェハを受は取る動作が終了しており、そ
のアーム42からステージ7へ新たなウェハを供給する
動作が行なわれていなければ、MCU23aはθ回転ス
テージ7にウェハがないと判断する。
また55,39.40.44の各モータ及びステージ5
〜7.15〜17を移動する各モータ(不図示)はMC
U23 aから不図示のドライバーを介して伝達される
信号により駆動されることはいうまでもない。
〜7.15〜17を移動する各モータ(不図示)はMC
U23 aから不図示のドライバーを介して伝達される
信号により駆動されることはいうまでもない。
さらにウェハキャリアは、これに収納された多数のウェ
ハの検査が全て終了すると搬送機構によシB位置から退
避させられ、次の新しいウェハキャリアがB位置にもた
らされる。そして再び前述の如くローディング、プリア
ライメント、ウェハセット、ファインアライメント、ウ
ェハ検査等の動作が繰シ返される。
ハの検査が全て終了すると搬送機構によシB位置から退
避させられ、次の新しいウェハキャリアがB位置にもた
らされる。そして再び前述の如くローディング、プリア
ライメント、ウェハセット、ファインアライメント、ウ
ェハ検査等の動作が繰シ返される。
上述の如く本実施例は一刀の検査部でウェハの検査がな
されている間(■あるいは■の指令に基づく動作がなさ
れている間)に、他力の検査部ヘウエハをローディング
し検査する(の〜@アルイは■〜■の段階の動作〕場合
において、一つの顕微鏡11を移動させて共通使用する
ものである。
されている間(■あるいは■の指令に基づく動作がなさ
れている間)に、他力の検査部ヘウエハをローディング
し検査する(の〜@アルイは■〜■の段階の動作〕場合
において、一つの顕微鏡11を移動させて共通使用する
ものである。
尚、実施例においてはブローチヤードの■から■へ、■
からのへ移行する場合をしたが、■からのへ、■からの
へ移行するようにM CU 23 aを設けてもよい。
からのへ移行する場合をしたが、■からのへ、■からの
へ移行するようにM CU 23 aを設けてもよい。
また、第2図に破線で示した如く左右の検査部の間に電
磁遮開部材46.47を設ければ、−力の検査部で発生
する電磁的なノイズが他力の検査部に与える影響を小さ
くすることができる。したがって電磁的なノイズの影響
が大きい場合には上述の如く電磁遮開部材を設けるのが
望ましい。
磁遮開部材46.47を設ければ、−力の検査部で発生
する電磁的なノイズが他力の検査部に与える影響を小さ
くすることができる。したがって電磁的なノイズの影響
が大きい場合には上述の如く電磁遮開部材を設けるのが
望ましい。
更に、上記実施例は、本発明にかかる観察装置をウェハ
検査装置に適用したものであるが、本発明は何らこれに
限定されるものではなく、他の装置に対しても、適用可
能なものである。
検査装置に適用したものであるが、本発明は何らこれに
限定されるものではなく、他の装置に対しても、適用可
能なものである。
また、観察手段としては、顕微鏡の他にテレビカメラな
どを用いても同様の効果が得られる。
どを用いても同様の効果が得られる。
(発明の効果)
・以上説明したように、本発明によれば、簡易な構成で
あるとともに、作業、メンテナンスが容易であシ、操作
性もよいという効果がある。
あるとともに、作業、メンテナンスが容易であシ、操作
性もよいという効果がある。
第1図は本発明にかかる観烈装置の一実施例を備えたウ
ェハ検査装置の一例を示す平面図、第2図はケーシング
内のステージ部分を示す正面図、第3図は第1図の装置
のA−Aiiiljに沿ったローディング機構部分を示
す断面図、第4図は制御装置の動作を示すフローチャー
トである。 (主要部分の符号の説明) 5ないし7・・・ステージ機構、11・・・顕微鏡、1
5ないし17・・・ステージ機構、21・・1]分は機
構、21A・・・アーム、66ないし42・・・ローデ
ィング機構。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年第7図
ェハ検査装置の一例を示す平面図、第2図はケーシング
内のステージ部分を示す正面図、第3図は第1図の装置
のA−Aiiiljに沿ったローディング機構部分を示
す断面図、第4図は制御装置の動作を示すフローチャー
トである。 (主要部分の符号の説明) 5ないし7・・・ステージ機構、11・・・顕微鏡、1
5ないし17・・・ステージ機構、21・・1]分は機
構、21A・・・アーム、66ないし42・・・ローデ
ィング機構。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年第7図
Claims (3)
- (1)少なくとも2つの観察対象を観察する観察装置に
おいて、対物光学系を含む1つの観察手段と、該観察手
段を、前記各観察対象の間で揺動可能に支持する揺動手
段と、 該揺動手段の揺動中心軸と平行な前記対物光学系の光軸
を中心にして前記観察手段を回転させる手段とを具備す
ることを特徴とする観察装置。 - (2)前記観察手段は顕微鏡である特許請求の範囲第1
項記載の観察装置。 - (3)前記観察手段は、テレビカメラである特許請求の
範囲第1項記載の観察装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17437085A JPS6235212A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 観察装置 |
| US07/157,128 US4856904A (en) | 1985-01-21 | 1988-02-10 | Wafer inspecting apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17437085A JPS6235212A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | 観察装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6235212A true JPS6235212A (ja) | 1987-02-16 |
Family
ID=15977425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17437085A Pending JPS6235212A (ja) | 1985-01-21 | 1985-08-09 | 観察装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6235212A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01291440A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-24 | Tokyo Electron Ltd | プロービィング方法 |
| JPH0346248A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
| US5166603A (en) * | 1990-05-10 | 1992-11-24 | Tokyo Electron Limited | Probe method |
| CN104020553A (zh) * | 2009-10-19 | 2014-09-03 | 文塔纳医疗系统公司 | 成像系统和技术 |
| JP2023530641A (ja) * | 2020-06-10 | 2023-07-19 | ビージーアイ シェンチェン | 生体試料画像採取装置および遺伝子シーケンサー |
-
1985
- 1985-08-09 JP JP17437085A patent/JPS6235212A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01291440A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-24 | Tokyo Electron Ltd | プロービィング方法 |
| JPH0346248A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
| US5166603A (en) * | 1990-05-10 | 1992-11-24 | Tokyo Electron Limited | Probe method |
| CN104020553A (zh) * | 2009-10-19 | 2014-09-03 | 文塔纳医疗系统公司 | 成像系统和技术 |
| US9036255B2 (en) | 2009-10-19 | 2015-05-19 | Ventana Medical Systems, Inc. | Method and device for slide caching |
| US9575301B2 (en) | 2009-10-19 | 2017-02-21 | Ventana Medical Systems, Inc. | Device for a microscope stage |
| CN104020553B (zh) * | 2009-10-19 | 2017-06-16 | 文塔纳医疗系统公司 | 成像系统和技术 |
| US10061107B2 (en) | 2009-10-19 | 2018-08-28 | Ventana Medical Systems, Inc. | Method and device for slide scanning |
| JP2023530641A (ja) * | 2020-06-10 | 2023-07-19 | ビージーアイ シェンチェン | 生体試料画像採取装置および遺伝子シーケンサー |
| US12259310B2 (en) | 2020-06-10 | 2025-03-25 | Bgi Shenzhen | Biological sample image collection device and gene sequencer |
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