JPS6235300U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6235300U JPS6235300U JP12799985U JP12799985U JPS6235300U JP S6235300 U JPS6235300 U JP S6235300U JP 12799985 U JP12799985 U JP 12799985U JP 12799985 U JP12799985 U JP 12799985U JP S6235300 U JPS6235300 U JP S6235300U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- degassing
- electrons
- ultra
- high vacuum
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は、本考案の脱ガス装置の使用を示す概
略断面図である。 １…脱ガス装置、２…電子銃、３…集束マグネ
ツト、４，４′…偏向マグネツト、５…排気系、
６…電子銃電源、１０…超高真空ダクト。
略断面図である。 １…脱ガス装置、２…電子銃、３…集束マグネ
ツト、４，４′…偏向マグネツト、５…排気系、
６…電子銃電源、１０…超高真空ダクト。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 電子ビームを照射することによつて超高真空用
部品を脱ガスする装置であつて、 (1) 電子を発生させる電子銃、 (2) 電子を集束させる集束マグネツト、および (3) 電子ビームを偏向させる２組の偏向マグネ
ツト を有することを特徴とする脱ガス装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12799985U JPS6235300U (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12799985U JPS6235300U (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6235300U true JPS6235300U (ja) | 1987-03-02 |
Family
ID=31023269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12799985U Pending JPS6235300U (ja) | 1985-08-21 | 1985-08-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6235300U (ja) |
-
1985
- 1985-08-21 JP JP12799985U patent/JPS6235300U/ja active Pending