JPS623578B2 - - Google Patents

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JPS623578B2
JPS623578B2 JP58156260A JP15626083A JPS623578B2 JP S623578 B2 JPS623578 B2 JP S623578B2 JP 58156260 A JP58156260 A JP 58156260A JP 15626083 A JP15626083 A JP 15626083A JP S623578 B2 JPS623578 B2 JP S623578B2
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JP
Japan
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patterns
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standard
detecting
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Expired
Application number
JP58156260A
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English (en)
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JPS5981769A (ja
Inventor
Michihiro Mese
Seiji Kashioka
Masakazu Ejiri
Takafumi Myatake
Isamu Yamazaki
Toshimitsu Hamada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58156260A priority Critical patent/JPS5981769A/ja
Publication of JPS5981769A publication Critical patent/JPS5981769A/ja
Publication of JPS623578B2 publication Critical patent/JPS623578B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711Apparatus therefor

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はIC,LSIなどの半導体集積回路の組立
工程におけるワイヤボンデイングの位置測定の自
動化に関する。
従来、IC,LSIなどの半導体製品の組立工程に
おけるペレツトのダイボンデイング工程におい
て、ペレツトはかなり寸法が大きいものであり、
リードフレームと称する治具上にペレツトを熱圧
着する場合、その位置決め精度は±100μ以上で
あるため、その位置ずれ量は作業者の目視により
測定していたが、この目視作業はパターンがきわ
めて集積化しているため、作業者に精神的苦痛を
与えていた。また、このような精密作業において
は、わずかの測定ミスが製品の歩留り低下につな
がつてくるため、信頼性の高い自動位置測定装置
を必要としてきた。
このような自動位置検出のために、特開昭49−
11165号公報に示されるような方法があつた。こ
の方法では、汚れや欠けなどによつて、検出すべ
き本来のパターンとは別の部分のパターンが、標
準パターンと一致する場合があることを考慮し
て、一つろ標準パターンのみでなく他の標準パタ
ーンをも設定し、夫々の標準パターンの位置を求
め、求めた位置間の距離および方向が所定のもの
であるか否かにより、検出すべきパターンが検出
されたかを判定している。これにより、誤パター
ンを検出することなく精度よく位置検出を行なう
ものである。
しかし、このような方法では、パターンの位置
を検出した後、これらの位置間の距離判定等の処
理が必要となり、処理の高速化が図れなかつた。
本発明の目的は、複数の標準パターンを用いて
精度よく、対象物の位置を検出するとともに、位
置検出の処理を高速に行なう位置検出装置を提供
することにある。
本発明は、このような目的を達成するために、
複数の部分パターンを夫々の間の距離および方向
を一定に保つたまま対象物から位置をずらしなが
ら切出す。このようにして求めた複数の部分パタ
ーンを標準パターンと比較することにより、標準
パターンの一致検出と一致を検出したパターン間
距離および方向の判定を実質同時に行なうもので
ある。
すなわち、位置検出すべき対象物の像を2次元
パターン信号に変換する変換手段と、該対象物上
の互いに所定の距離および方向の位置関係にある
所定位置の複数の領域のパターンと夫々一致する
複数の標準パターンを記憶する手段と、前記変換
手段により得られた2次元パターン信号から、前
記所定の距離および方向の位置関係にある複数の
部分パターンを、位置をずらしながら順次切出す
手段と、前記記憶手段に記憶された複数の標準パ
ターンを前記切出し手段により順次切出した複数
の部分パターンを、対応するパターン同士で順次
比較する比較手段と、前記比較手段が一致を検出
したときに前記切出し手段が切出した部分パター
ンの位置に基き前記対象物の位置を検出する検出
手段とからなる。
第1図は、ワイヤボンデイングのなされる前
の、たとえばLSIペレツトのような半導体部品を
示す。同図中、1はLSIペレツト(以下ペレツト
と略記する)、2はタブと称されるペレツトの台
座部分、3−0,3−1,…(一部は図示せず)
はペレツト1内のボンデイングパツド(以下、パ
ツドと略記する)、4−0,4−1、等はリード
フレームの一部である外部電極で、パツド3−
0,3−1は同図には簡単のため3−0,3−1
の2個しか記載してないが、外部電極4−0,4
−1と同数だけ、実際には20〜40個程度設けてあ
り、ワイヤボンデイングによりそれぞれ対応する
パツドと外部電極とを金線やアルミ線で互いに接
続する。
ここで問題となるのは、ペレツト位置すなわち
直角座標で表わした場合の座標(X,Y)と、ペ
レツト方向すなわち角度(θ)のばらつきであ
る。この場合、ばらつきの大きさ、すなわちΔX
およびΔYは±100〜150μ,Δθは30′程度であ
り、自動的にワイヤボンデイングを行なうには、
各パツドの位置を±10μ程度で検出する必要があ
る。
本発明では、たとえば第2図に示すように、パ
ツドが存在するペレツド1の周辺部に少なくとも
二つの視野像5−0,5−1を設定し、その中の
パツド3−0,3−1を、本発明と同一出願人に
より既に出願された“特定パターンの認識方法”
(特願昭51−14031号)により検出する。上記視野
像の数としては、ペレツトの回転ずれΔθを検出
するために複数個必要であるが、説明を簡単にす
るため、便宜上2個としておく。なお視野像の大
きさとしては、ペレツトの位置ずれΔX,ΔYお
よび回転ずれΔθ等をカバーできるよう600μ程
度のものとする。また視野像の位置は可変で、
種々の大きさのペレツトに対してもパツド検出を
行なえるように、本発明の装置では、それぞれの
視野像の位置を任意に指定できるようにする。
第3図は本発明による位置検出装置の基本構成
を示す。同図中、6はリードフレームと称する金
属板で、前第1図に示したように、そのタブ2の
部分にペレツド1が一定ピツチで圧着されてい
る。7はフレーム送り機構で、図示の破線の矢印
の方向にリードフレーム6を間欠的に送り、光学
系の直下にペレツト1を1個づつ供給する。また
8はペレツト照明用光源、9は半透明鏡、10は
ペレツト1の拡大像を得るための対物レンズ、1
1は像分割用の反射鏡であり、ペレツト1からの
拡大像を少なくとも二つの部分像に分割する。同
図は二つの部分像に分割する場合を示し、これに
よつて図示の12−0,12−1の位置にペレツ
ト1の一部の拡大された実像が得られる。
13−0,13−1はリレーレンズ、14−
0,14−1は光学像を走査して時間的なアナロ
グ映像信号に変換するための光電変換装置で、一
例としてビジコン等のTVカメラなどを用いる。
15−0,15−1は上記のTVカメラ移動用の
載物台で、光電変換装置14−0,14−1の受
光面に平行な平面内で光電変換装置を移動するこ
とにより、ペレツト1の品種を変更した場合、ペ
レツトに応じて視野の位置を調節するためのもの
である。
16−0,16−1は光電変換装置15−0,
15−1からのアナログ映像信号、17は映像処
理装置で、アナログ映像信号16−0,16−1
の2値化、パツド検出処理等を行なう。21は計
算機のような制御装置で、パツド検出処理に必要
なデータ処理映像処理回路の制御等を信号18,
20およびインターフエイス19を介して行な
う。22はフレーム送り機構7及び載物台15−
0,15−1の駆動回路、23は駆動回路22を
制御するための回路で、信号24、インターフエ
イス19および信号20を介して計算機に接続さ
れている。
25は自動ワイヤボンダで、映像処理装置17
で求めたパツドの位置をもとに、計算機21です
べてのパツドの位置が求められ、この自動ワイヤ
ボンダ25で各パツドと外部電極とを金属線で自
動的に接続する。この場合、パツドの位置を検出
する速度と自動ワイヤボンデイングを行なう速度
とが整合しないときには自動ワイヤボンダ25に
カセツトテープのようなバツフアを付加して入力
信号を一時記憶させ、検出ステーシヨン26と自
動ワイヤボンダ25とをオフライン的に結合させ
るようなシステムも考えられる。
またパツド位置検出速度がフレーム送り速度に
比べて十分速い場合には、第4図に示すように、
1台の映像処理装置および計算機で複数台の検出
ステーシヨン26を制御するようにできる。本発
明では、1台の映像処理装置および計算機で少な
くとも4台の検出ステーシヨンをまかなうような
システムを提供する。
次に、本発明による映像処理の概要を示す。第
5図において、30は本発明の光学系における
TVカメラ等の光電変換器から得られるペレツト
の部分拡大像のアナログ映像を示す。同図中、正
方形の部分31はアルミニウムのパツド、32は
上記31の延長で内部配線への引出部、33は前
工程における検査用ブローバの傷跡である。
ペレツトは品種によつて種々の大きさのものが
あるが、いずれもパツドの正方形の部分31の大
きさは共通で、ほぼ120μ□である。この場合、
引出部32としてはLSIの品種やペレツト内の視
野の位置により、上下左右いずれの側にも出てい
る可能性がある。また、ブローバの傷跡33の大
きさはほぼ一定しているが、パツド内での位置は
不定である。なおパツド31の周辺部34は酸化
シリコンのコーテイング部、35はペレツトの縁
のシリコン部、36はペレツト外部の金−シリコ
ン共晶部である。
前記第3図に示したような落射照明の場合、パ
ツドのようなアルミ部が最も明るく、次いでシリ
コン部35、酸化シリコン部34の順に暗くな
る。金−シリコン共晶部36は、光学系の光軸方
向に傾斜があるため図示のようにペレツト近辺が
最も暗く、ペレツトから離れるにつれて除々に明
るくなる。また、プローバの傷跡33はくぼんで
いるため暗くなる。
第6図は第5図のアナログ映像30を、アルミ
部の明るさと酸化シリコン部の明るさとの中間の
明るさをしきい値として2値化した場合の2値化
映像である。図示のように、パツド41、引出部
42、シリコン部45および金−シリコン共晶部
46のペレツトから遠い部分46−1は白にな
り、プローバの傷跡43、酸化シリコン部44お
よび金−共晶部46のペレツトに近い部分46−
0は黒(ハツチング部分)になる。このように、
アナログ映像信号を2値化できれば、比較的簡単
な映像処理装置を実現できるため、本発明では処
理対象を2値化映像とする。
また、本発明では映像の電気的処理をさらに容
易にするため、2値化映像をたとえば第7図のよ
うにX方向に320絵素、Y方向に240絵素にサンプ
リングする。なお同図のX方向64絵素、Y方向20
絵素の部分は帰線区間であり、その中のX方向32
絵素、Y方向12絵素の帯状の部分はTVカメラの
外部同期信号のパルスが出る部分である。なお、
図示の分割された各格子点のX,Y両方向に1絵
素毎、2絵素毎、……に映像のサンプリングを行
なうことを、以降では“モード1”,“モード
2”,……と呼ぶことにする。第7図において、・
印はモード1のサンプリング、○†ぐ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 位置検出すべき対象物の像を2次元パターン
    信号に変換する変換手段と、該対象物上の互いに
    所定の距離および方向の位置関係にある所定位置
    の複数の領域のパターンと夫々一致する複数の標
    準パターンを記憶する手段と、前記変換手段によ
    り得られた2次元パターン信号から、前記所定の
    距離および方向の位置関係にある複数の部分パタ
    ーンを、その位置関係を保つたまま位置をずらし
    ながら順次切出す手段と、前記記憶手段に記憶さ
    れた複数の標準パターンと前記切出し手段により
    順次切出した複数の部分パターンを対応するパタ
    ーン同士で比較する比較手段と、前記比較手段が
    一致を検出した部分パターンの位置に基き前記対
    象物の位置を検出する検出手段とからなることを
    特徴とする位置検出装置。 2 前記標準パターンの一部分をマスクパターン
    としたことを特徴とする請求範囲第1項記載の位
    置検出装置。 3 前記検出手段は、上記複数個の標準パターン
    のうち上記切出した複数の部分パターンと所定個
    以上のパターンが一致したとき、上記対象物内の
    特定形状部位置を検出したと判定する手段からな
    ることを特徴とする請求範囲第1項又は第2項記
    載の位置検出装置。 4 前記切出手段は、上記所定の距離および方向
    がずれた位置関係にある複数部分パターンについ
    ても、上記変換手段で得られた映像パターンから
    位置をずらしながら切出し、前記検出手段は該切
    出されたパターンと上記標準パターンと比較し、
    前記検出手段は該比較の結果が所定の一致関係を
    満足したときに切出した部分パターンの位置から
    上記対象物内の特定形状部位置を検出することを
    特徴とする請求範囲第1項記載の位置検出装置。
JP58156260A 1983-08-29 1983-08-29 位置検出装置 Granted JPS5981769A (ja)

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JP58156260A JPS5981769A (ja) 1983-08-29 1983-08-29 位置検出装置

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JPS5981769A JPS5981769A (ja) 1984-05-11
JPS623578B2 true JPS623578B2 (ja) 1987-01-26

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