JPS6237628B2 - - Google Patents

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JPS6237628B2
JPS6237628B2 JP53113104A JP11310478A JPS6237628B2 JP S6237628 B2 JPS6237628 B2 JP S6237628B2 JP 53113104 A JP53113104 A JP 53113104A JP 11310478 A JP11310478 A JP 11310478A JP S6237628 B2 JPS6237628 B2 JP S6237628B2
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JP
Japan
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dihydro
oxo
carboxylic acid
quinolidine
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JP53113104A
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Hiroshi Ishikawa
Fujio Tafusa
Kazuyuki Nakagawa
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は、新規なベンゾヘテロ化合物に関す
る。 従来の技術 本発明のベンゾヘテロ化合物は、文献未記載の
新規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように抗菌剤を合成するた
めの中間体として有用な化合物を提供することを
目的とする。 問題点を解決するための手段 上記目的は、下記一般式()で表わされる新
規ベンゾヘテロ化合物により達成される。 即ち本発明は、一般式 〔式中Rは低級アルキルスルホニルオキシ基又
は低級アルキル置換フエニルスルホニルオキシ基
を示す。〕 で表わされるベンゾヘテロ化合物に係る。 上記一般式()で表わされる本発明化合物
は、抗菌剤を合成するための中間体として有用で
ある。例えば一般式()の本発明化合物は、抗
菌剤として有用な後記一般式()の化合物、一
般式()の化合物に誘導し得る〔後記反応行程
式−1、反応行程式−2参照〕。 本発明化合物は、一般式 〔式中、Rは前記に同じ。〕 で表わされる3,4−ジヒドロカルボスチリル誘
導体を還元することにより製造できる。 上記一般式()又は()において、Rで示
される低級アルキルスルホニルオキシ基にはメタ
ンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、
プロパンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホ
ニルオキシ、ブタンスルホニルオキシ、tert−ブ
タンスルホニルオキシ基等が、また低級アルキル
置換フエニルスルホニルオキシ基にはフエニル環
上にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、tert−ブチル基等の低級アルキル基が置
換したフエニルスルホニルオキシ基等がそれぞれ
包含される。 一般式()の化合物の還元には、接触還元方
法、水素化剤による還元方法等を適用し得る。水
素化剤による還元が好ましい。水素化剤としては
水素化ホウ素ナトリウムもしくは水素化リチウム
アルミニウムと酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピ
オン酸等の低級脂肪酸類とを適宜組合せた水素化
剤を挙げることができる。水素化ホウ素ナトリウ
ムもしくは水素化リチウムアルミニウム及び低級
脂肪酸類の使用量としては、それぞれ一般式
()の化合物に対して等モル〜過剰量、好まし
くは3〜5倍モル量とするのがよい。水素化剤に
よる還元反応は、不活性溶媒中にて行なわれる。
用いられる不活性溶媒としては、具体的にはジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素類、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸等
の低級脂肪酸類等を例示できる。該反応は通常室
温〜100℃、好ましくは50〜100℃にて行なわれ、
通常1〜6時間程度で反応は完結する。 上記還元反応により生成する一般式()の化
合物は、通常の分離手段により容易に単離、精製
できる。斯かる分離手段としては溶媒抽出法、溶
媒希釈法、再結晶法、蒸留法、シリカゲルカラム
クロマトグラフイー等を例示できる。 本発明で得られる一般式()の化合物は、通
常用いられる酸と容易に酸付加塩を形成し得る。
酸としては例えば塩化水素、臭化水素等のハロゲ
ン化水素、硫酸、硝酸等の無機酸を挙げることが
できる。 本発明で得られる一般式()の化合物は、例
えば反応行程式−1に示す如くして一般式()
の化合物に、また反応行程式−2に示す如くして
一般式()の化合物に誘導し得る。一般式
()及び()の化合物は、抗菌剤として有用
である。 反応行程式 1 〔式中Rは前記に同じ。〕 反応行程式 2 〔式中Rは前記に同じ。〕 実施例 本発明化合物を製造するための原料化合物の製
造例を参考例として掲げ、次に本発明化合物の製
造例を実施例として掲げ、更に本発明化合物から
の最終物質(抗菌剤)の合成例を参考例として掲
げる。 参考例 1 5−メタンスルホニルオキシ−3,4−ジヒド
ロカルボスチリルの合成 水酸化カリウム3.8gをメタノール100mlに溶か
した液に5−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル10gを加え、室温で30分間撹拌する。
減圧でメタノールを留去する。残渣にベンゼンを
加え、結晶化した後ベンゼンを留去する。残渣を
ジメチルホルムアミド50mlに懸濁させ、メタンス
ルホニルクロライド10.6gを氷水浴上冷却撹拌下
に滴下する。滴下後室温に戻し撹拌する。反応が
充分に進行しないためメタンスルホニルクロライ
ド3.5gを追加し、室温で4時間撹拌する。減圧
でジメチルホルムアミドを留去し、残渣をカラム
(シリカゲル、クロロホルム)分解する。エタノ
ール水溶液より再結晶する。 収量11.3g、mp227〜231℃、 無色柱状晶 上記参考例1と同様にして、5−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)−3,4−ジヒドロカルボ
スチリルを得る。 mp215〜216℃、収率78% 実施例 1 5−メタンスルホニルオキシ−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリンの合成 5−メタンスルホニルオキシ−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル4.5gをジオキサン90mlに懸濁
させ、水素化ホウ素ナトリウム35gを加え、酢酸
(d=1.05)5.3mlを滴下する。次いで油浴上で1
時間加熱還流した後、減圧で溶媒を留去し、残渣
に飽和硫酸ナトリウム水溶液を加える。析出する
沈澱を過、クロロホルムで洗浄する。液はク
ロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。溶媒を留去後残渣をカラム分離(シリカゲ
ル、ワコウC−200〔和光純薬工業(株)製〕、溶出液
クロロホルム)する。クロロホルムを留去後石油
エーテルを加えて結晶化する。石油エーテルで洗
浄しメタノールより再結晶する。 収量3.3g、mp74〜76℃ 無色プリズム状晶 実施例 2 5−(p−トルエンスルホニルオキシ)−1,
2,3,4−テトラヒドロキノリンの合成 5−(p−トルエンスルホニルオキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル10gをジオキサン100
mlに懸濁させ、次に水素化ホウ素ナトリウム11.5
gを加え、更にトリフルオロ酢酸34.5gを滴下す
る。次いで油浴上2.5時間加熱還流する。減圧下
ジオキサンを留去し、残渣に水を加える。冷却後
不溶物を過し、液をエーテル抽出する。無水
硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し、残渣を減
圧蒸留する。 mp112〜113℃、収率92% 参考例 2 5−(p−トルエンスルホニルオキシ)−1,
2,3,4−テトラヒドロキノリン30.0gにエチ
ルエトキシメチレンマロネート21.6gを加え、撹
拌下油浴上110℃にて30分間撹拌する。加熱後ポ
リリン酸240g(リン酸120g及び五酸化リン120
gより調製)を加え油浴上140℃にて40分間反応
させる。反応後室温まで冷却し、水400ml中に投
じた後40%苛性ソーダ水溶液で中和後、析出する
結晶を取する。得られた結晶に10%カセイソー
ダ水溶液150mlを加え40分間還流する。熱時活性
炭処理後過する。液を冷却し濃塩酸にてPH=
2としたのち析出晶を取する。粗結晶をジメチ
ルホルムアミドより再結晶して白色針状晶の8−
(p−トルエンスルホニルオキシ)−6,7−ジヒ
ドロ−1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕
キノリジン−2−カルボン酸を得る。 収量27.4g、mp300℃以上 参考例 3 8−(p−トルエンスルホニルオキシ)−6,7
−ジヒドロ−1−オキソ−1H,5H−ベンゾ
〔i,j〕キノリジン−2−カルボン酸20.0g及
びピペラジン12.9gを無水ジメチルスルホキシド
200mlに加え、窒素気流下10気圧、150〜160℃に
てオートクレーブ中で17時間加熱撹拌する。反応
終了後、溶媒及び過剰のピペラジンを減圧下留去
し、残渣にメタノール−エタノールを加えて析出
する沈澱を取し、エーテルで洗浄する。得られ
た結晶を水200ml及び10%塩酸水溶液40mlを加え
懸濁させ、不溶物を去し、液を飽和重曹水で
中和し、この溶液をアンバーライトLH−20〔東
京有機化学工業(株)製〕を充填し、カラムクロマト
グラフイー(溶出液、水、エタノール)で単離精
製後、ジメチルホルムアミドより再結晶して白色
針状晶の8−(1−ピペラジニル)−6,7−ジヒ
ドロ−1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕
キノリジン−2−カルボン酸を得る。 収量2.0g、mp267〜268℃ 次に参考例で得られた抗菌物質について抗菌作
用を調べた。 抗菌試験A 8−(1−ピペラジニル)−6,7−ジヒドロ−
1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリ
ジン−2−カルボン酸〔供試化合物)及び1−エ
チル−1,4−ジヒドロ−7−メチル−4−オキ
ソ−1,8−ナフチリデン−3−カルボン酸(ナ
リジクス酸、対照化合物)について、種々の菌に
対する抗菌作用を寒天希釈平板法により求めた
〔CHEMOTHERAPY,22,1126〜1128(1974)
参照〕。 グラム陽性菌の最少増殖阻止濃度を下記第1表
に、グラム陰性菌の最少増殖阻止濃度を下記第2
表にそれぞれ示す。尚、各種菌は1×108菌数/
ml(O.D.660mμ,0.13〜0.14)及び1×106
数/mlに調製した。
【表】
【表】
【表】
【表】 抗菌試験B 上記抗菌試験Aと同様にして、下記供試化合物
と対照化合物との比較試験を行なつた。 供試化合物 8−(1−ピペラジニル)−6,7−ジヒドロ−
1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノ
リジン−2−カルボン酸・4水和物 対照化合物 A:6,7−ジヒドロ−1−オキソ−1H,5H−
ベンゾ〔i,j〕キノリジン−2−カルボン
酸(特開昭50−24296号公報、特開昭48−
76898号公報及び特開昭51−146476号公報に
記載の化合物) B:9−クロロ−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン−
2−カルボン酸(特開昭48−76898号公報に
記載の化合物) C:9−メトキシ−6,7−ジヒドロ−1−オキ
ソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン
−2−カルボン酸(特開昭50−24296号公
報、特開昭48−76898号公報及び特開昭51−
146476号公報に記載の化合物) D:9−ニトロ−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン−
2−カルボン酸(特開昭48−76898号公報及
び特開昭51−146476号公報に記載の化合物) E:9−フルオロ−6,7−ジヒドロ−1−オキ
ソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン
−2−カルボン酸(特開昭48−76898号公報
及び特開昭51−146476号公報に記載の化合
物) F:9−メチル−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン−
2−カルボン酸(特開昭50−24296号公報、
特開昭48−76898号公報及び特開昭51−
146476号公報に記載の化合物) G:8,10−ジクロロ−6,7−ジヒドロ−1−
オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリ
ジン−2−カルボン酸(特開昭48−76898号
公報及び特開昭51−146476号公報に記載の化
合物) H:8−クロロ−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン−
2−カルボン酸(特開昭48−76898号公報及
び特開昭51−146476号公報に記載の化合物) I:9−クロロ−6−オキソ−1,2−ジヒドロ
−6H−ピロロ〔3,2,1−i,j〕キノ
リン−5−カルボン酸(米国特許第3917609
号明細書及び特開昭51−146476号公報に記載
の化合物) J:2−メチル−9−クロロ−6−オキソ−1,
2−ジヒドロ−6H−ピロロ〔3,2,1−
i,j〕キノリン−5−カルボン酸(米国特
許第3917609号明細書及び特開昭53−82799号
公報に記載の化合物) K:9−ヒドロキシ−6,7−ジヒドロ−1−オ
キソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジ
ン−2−カルボン酸(特開昭50−24296号公
報、特開昭48−76898号公報及び特開昭51−
146476号公報に記載の化合物) L:8−フルオロ−2−メチル−6−オキソ−
1,2−ジヒドロ−6H−ピロロ〔3,2,
1−i,j〕キノリン−5−カルボン酸(米
国特許第3917609号明細書及び特開昭53−
82799号公報に記載の化合物) M:5−メチル−6,7−ジヒドロ−1−オキソ
−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン−
2−カルボン酸(特開昭50−24296号公報及
び特開昭48−76898号公報に記載の化合物) N:8,9−ジクロロ−6,7−ジヒドロ−1−
オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリ
ジン−2−カルボン酸(特開昭48−76898号
公報及び特開昭51−146476号公報に記載の化
合物) O:8−ヒドロキシ−6,7−ジヒドロ−1−オ
キソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジ
ン−2−カルボン酸(特開昭50−24296号公
報、特開昭48−76898号公報及び特開昭51−
146476号公報に記載の化合物) P:8−メトキシ−6,7−ジヒドロ−1−オキ
ソ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キノリジン
−2−カルボン酸(特開昭50−24296号公
報、特開昭48−76898号公報及び特開昭51−
146476号公報に記載の化合物) Q:9−フルオロ−5−メチル−6,7−ジヒド
ロ−1−オキソ−1H,5H−ベンゾ〔i,
j〕キノリジン−2−カルボン酸(特開昭48
−76898号公報に記載の化合物) 供試菌は、以下の通りである。 供試菌 1:Staphylococcus aureus FDA 209 P 2:Streptcoccus pyogenes IID S−23 3:Escherichia coli NHHJ JC−2(IFO
12734) 4:Klebsiella pneumoniae 5:Proteus rettgeri NIH 96 6:Salmonella typhi 0−901(NCTC 8393) 7:Shigella sonnei EW 33 8:Serratia marcescens IFO 12648 9:Pseudomonas aeruginosa E−2 10:Pseudomonas aeruginosa NCTC 10490
【表】
【表】 上記第3表から、本発明の化合物から誘導され
る抗菌物質は、特にStreptcoccus pyogenes IID
S−23、Pseudomonas aeruginosa E−2及び
Pseudomonas aeruginosa NCTC 10490に対して
優れた抗菌活性を示すことがわかる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中Rは低級アルキルスルホニルオキシ基又
    は低級アルキル置換フエニルスルホニルオキシ基
    を示す。〕 で表わされるベンゾヘテロ化合物。
JP11310478A 1978-09-14 1978-09-14 Preparation of benzo-hetero-compound Granted JPS5540616A (en)

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