JPS6238457A - レジスト現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［＃梁上の利用分野］ 本発明は、レジストパターンの現像残りを少なくして良
好に現像を行うレジストの現像方法に関するものである
。

［従来の技術］ 一般に、基板−ヒにレジストパターンを形成するにあた
り、基板１：にレジストを一様に被着１７、そのトにパ
ターンマスクをあてて露光を行い、ｌ／ジストヲハター
ンに従って硬化させ、ついで、現像処理において、硬化
したレジストを残し、未硬化部分のレジストを除去し、
以て、レジストパターンを形成している。

このような現像工程において、レジストパターンの現像
残りを少なくして良好に現像を行うべく、従来は現像液
に超音波をかけたり、レジストパターンの形成されてい
る基板を揺動したりすることが行われている。超音波は
有効ではあるが。

現像むら、すなわち現像の不十分な個所ができやすいの
ｒ、ＰＢ−ｉ’ｉ波を超時間かける必要があり、その結
果、硬化部分のレジストが剥離することがあった。揺動
を行う場合には、揺動だけでは現像残りを皆無にするこ
とは到底不ｖｒ能であり、しかも超音波をかけたときに
比べ現像されたレジスト層のニー７ジ部に鈍りがあった
。

［発す１が解決しようとする問題点］ そこで、本発明の目的は、上述したような欠点を除去し
て、現像を良好に行うレジストの現像方法を提供するこ
とにある。

［問題を解決するための手段］ このような目的を達成するために、本発明は。

露光ずみレジスト層の形成されている基板を現像液中に
浸漬して現像処理を施すレジスト現像方法において、Ｘ
板を前記現像液に浸漬してから所定時間にわたって超音
波を基板にかけると共に、基板を現像液に浸漬している
間にわたって、基板を揺動させることを特徴とする。

ここで、超音波印加時間を全浸漬時間のうちの１／２０
〜１／２　とするのが好ましく、特に１／１５〜１／４
とするのがより良好である。また、基板の浸漬後直ちに
超音波を印加するのが好適である。

［作　用］ 未発明によれば、レジストのうち硬化させた部分が剥離
することなく未硬化部分をほぼ完全に除ノ５でき、以て
レジストのニー７ジ部分をシャープにしてレジストパタ
ーンを形成することができ、良好なレジスト現像を行う
ことができる。

［実施例１ 以下に、図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図は、未発Ｉｐ１により現像を行う場合に、露光ず
みレジスト層の形成されている基板１を浸漬する現像溶
槽２を示し、この槽ｚ内には超音波振動子３を配設して
、基板１に対して所定方向に超音波を伝播させる。４は
基板ｌを所定方向に揺動させる揺動装置である。

Ａ：発明では、現像中にレジス基板ｌに超音波振動子３
より超音波をかけ、およびその超音波と組合せて、揺動
波η４により基板１を揺動させる。

その場合に、超）′？波を印加する時間については、現
像の後段階で超音波をかけると、レジストの硬化部分の
剥離が多くなるので、好ましくは、現像「程の蒔１１；
１のうち１／２より前に超音波を印加する。より好まし
くは、前工程の１／４より前、さらに好ましくは現像の
最初の時点から超音波の印加を開始する０本発明では、
レジストに対して超音波を均一に作用させるために、ａ
音波の伝わる方向とほぼ同じ方向に基板ｌを機械的に揺
動する。

かかる揺動のピッチは、超音波の波長より艮い範囲で、
なるべく小さくすることが層２の効率に好ましい。好ま
しくは、 （波長）≦揺動ピッチ≦（波長）×２０とする。より好
ましくは、 ？×（波長）≦揺動ピッチ≦（波長）ＸＩＱとする。た
とえば、波長１３ｃｍに対して揺動ピッチを５ｃ＋ｓと
する。

揺動速度は、基板ｌに負荷をかけない範囲で可及的速い
方がよい、好ましくは、 ２ｃ厘７ｓｅｃ≦揺動線速度≦５０ｃ鳳／ｓｅａとする
。より好ましくは、 ５　ａｍ／ｓｅｅ　　≦拙動線速度≦２５ｃｍ／ｓｅｅ
とする。

さらにまた、超音波の強さや移動を変えたり、超音波源
３の位置を移動させることなども現像を良好に行うのに
有効であるが、槽２の構造などをも考慮すると、超音波
現像と揺動とを併用するのが最も好ましい。

次に未発用の態様を一層明確にするために実施例をあげ
て説明するが、未発１１は以ドの実施例にのみ限定され
るものではなく、種々の変形が１能であること勿論であ
る。

厚さ８０延層で、寸法６５０　Ｘ４００の銅箔上に「ナ
カセネガティブレジス）７４７Ｊを、硬化後の厚みが４
１Ｌｍになるように塗布し、ついでその−Ｌをマスクパ
ターンで覆って露光し、このレジストを硬化させた。そ
の後、上述のレジストについての専用の現像液を用いて
３つの槽において以下の条件で現像した。

第１〜第３槽のいずれにおいても、基板を底面と垂直方
向に固定し、縦方向にストローク１０ｃｍ、線速１（［
１５ｃｍ＋／ｓｅｅで揺動しながら３分間浸漬した。第
１槽のド部に超■波発振ｒ−を設け、５０ＫＨｚの超音
波を−１一方向へ伝搬させた。この超音波の発信時間は
、基板を浸漬した直後から１分間のみとした。液温は２
５℃とした。パターンとしては線幅３０勝厘で、６本／
鵬層の縞状パターンを用いた。ここで、第１槽では最初
の１分間だけ超音波をかけ、第１−第３槽のいずれも３
分間全体にわたって揺動を行った。基板は第１槽から順
次に第３槽まで各３分間浸漬した。

本発明の実施例と共に、比較例として、超音波印加時間
および揺動時間を種々変えた場合の結果を次の第１表に
示す。

＼へ、 ゛へ・２） ＼３、 ＼〜、 ゝ−８ Ｘ８５１２） 〜 ＼＼、 ＼３、 ゝ・１、 このように、本発明によれば、レジスト硬化部分の剥離
個所も、レジスト未硬化部分の現像残りの個所もない状
態でレジストパターンが現像された銅箔を得ることがで
きた。ここで、超音波の印加と揺動とを同時に行う時間
は、全浸漬時間１／２０〜１／２　とするのが好ましく
、特に１／１５〜１／４がよりＩｌ−／ましかった。

［発明の効果］ 以Ｉ−から明らかなように、本発明によれば、レジスト
のうち硬化させた部分が剥離することなく未硬化部分を
ほぼ完全に除去でき、以てレジストのエツジ部分をシャ
ープにしてレジストパターンを形成することができ、良
好なレジスト現像を行うことができる。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明を実施する現像液槽を示す線図である。 ■・・・レジスト基板、 ２・・・現像液槽。 ３・・・超音波振動子、 ４・・・揺動装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）露光ずみレジスト層の形成されている基板を現像液
   中に浸漬して現像処理を施すレジスト現像方法において
   、前記基板を前記現像液に浸漬してから所定時間にわた
   って超音波を前記基板にかけると共に、前記基板を前記
   現像液に浸漬している間にわたって、前記基板を揺動さ
   せることを特徴とするレジスト現像方法。 ２）特許請求の範囲第１項記載のレジスト現像方法にお
   いて、 前記所定時間は前記基板を前記現像液に浸漬している時
   間の１／２０〜１／２であることを特徴とするレジスト
   現像方法。 ３）特許請求の範囲第１項記載のレジスト現像方法にお
   いて、 前記所定時間は前記基板を前記現像液に浸漬している時
   間の１／１５〜１／４であることを特徴とするレジスト
   現像方法。 ４）特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかの項
   に記載のレジスト現像方法において、前記基板を前記現
   像液に浸漬した直後から前記超音波を前記基板にかける
   ことを特徴とするレジスト現像方法。