JPS6240140B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6240140B2 JPS6240140B2 JP54030252A JP3025279A JPS6240140B2 JP S6240140 B2 JPS6240140 B2 JP S6240140B2 JP 54030252 A JP54030252 A JP 54030252A JP 3025279 A JP3025279 A JP 3025279A JP S6240140 B2 JPS6240140 B2 JP S6240140B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- magnetic disk
- substrate
- disk substrate
- surface roughness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高密度磁気デイスク用基板の如き高精
度の加工が要求される基板の鏡面仕上げ法に関す
るものである。
度の加工が要求される基板の鏡面仕上げ法に関す
るものである。
磁気デイスク基板は記録媒体の種類に対応し
て、アルミニウム合金面またはアルミニウム合金
面上に形成された金属メツキ面あるいはアルミニ
ウム合金面上に形成された陽極酸化面を所要表面
あらさに仕上げたものが使用される。磁気デイス
ク基板の所要表面あらさは記録媒体の厚い通常の
磁気デイスクに対しては、比較的大きな値（0.1
〜0.2μｍRmax以下）で良いが、記録媒体が極め
て薄い高密度磁気デイスクに対しては非常に小さ
な値（0.01μｍRmax以下）にする必要がある上
に、磁気デイスク基板表面の微小欠陥がそのまま
磁気デイスクの記録機能を損なうことになるの
で、基板表面に研摩軌跡、穴、突起などのない仕
上げ法が必要になる。
て、アルミニウム合金面またはアルミニウム合金
面上に形成された金属メツキ面あるいはアルミニ
ウム合金面上に形成された陽極酸化面を所要表面
あらさに仕上げたものが使用される。磁気デイス
ク基板の所要表面あらさは記録媒体の厚い通常の
磁気デイスクに対しては、比較的大きな値（0.1
〜0.2μｍRmax以下）で良いが、記録媒体が極め
て薄い高密度磁気デイスクに対しては非常に小さ
な値（0.01μｍRmax以下）にする必要がある上
に、磁気デイスク基板表面の微小欠陥がそのまま
磁気デイスクの記録機能を損なうことになるの
で、基板表面に研摩軌跡、穴、突起などのない仕
上げ法が必要になる。
従来、記録媒体の厚い通常の磁気デイスクの基
板はアルミニウム合金面を旋盤によつて片面づつ
切削加工して仕上げられたものが用いられている
が、高密度磁気デイスク基板としてはアルミニウ
ム合金面上に形成された非磁性金属メツキ膜ある
いは陽極酸化膜を平面工具にすり合せて加工する
研削、ラツピング、ポリシング加工により仕上げ
られたものが用いられている。
板はアルミニウム合金面を旋盤によつて片面づつ
切削加工して仕上げられたものが用いられている
が、高密度磁気デイスク基板としてはアルミニウ
ム合金面上に形成された非磁性金属メツキ膜ある
いは陽極酸化膜を平面工具にすり合せて加工する
研削、ラツピング、ポリシング加工により仕上げ
られたものが用いられている。
しかしながら、研削、ラツピング、ポリシング
加工による仕上げ面には微小な研摩軌跡が残る。
研削、ラツピング、ポリシング加工のうち、比較
的良い仕上げ面が得られるポリシング加工におい
てアルミニウム合金面上に形成された非磁性ニツ
ケルーリン・メツキ膜を粒子径0.3μｍの酸化ア
ルミナ砥粒を用いてポリシング仕上した面の表面
あらさを表面あらさ測定機（商品名；
TALYSTEP）で測定した結果を第１図に示す。
第１図の表面あらさ曲線１１とその記録縦倍率１
２および横倍率１３により、ポリシング仕上した
面の表面あらさは0.03μｍRmax程度である。こ
の基板は、比較的深い研摩軌跡のへこみ１４部分
では加工歪が大きい為、記録媒体処理時に媒体面
に微小な突起またはへこみを生じることがあり、
磁気ヘツドに対する耐クラツシユ性およびエラー
特性等の信頼性に問題が残り、高密度磁気デイス
クの基板としては必ずしも十分満足できるもので
はない。
加工による仕上げ面には微小な研摩軌跡が残る。
研削、ラツピング、ポリシング加工のうち、比較
的良い仕上げ面が得られるポリシング加工におい
てアルミニウム合金面上に形成された非磁性ニツ
ケルーリン・メツキ膜を粒子径0.3μｍの酸化ア
ルミナ砥粒を用いてポリシング仕上した面の表面
あらさを表面あらさ測定機（商品名；
TALYSTEP）で測定した結果を第１図に示す。
第１図の表面あらさ曲線１１とその記録縦倍率１
２および横倍率１３により、ポリシング仕上した
面の表面あらさは0.03μｍRmax程度である。こ
の基板は、比較的深い研摩軌跡のへこみ１４部分
では加工歪が大きい為、記録媒体処理時に媒体面
に微小な突起またはへこみを生じることがあり、
磁気ヘツドに対する耐クラツシユ性およびエラー
特性等の信頼性に問題が残り、高密度磁気デイス
クの基板としては必ずしも十分満足できるもので
はない。
本発明の目的は高密度磁気デイスク基板の如
く、高精度仕上面を要求される基板加工におい
て、以上のような従来の欠点に鑑み、研摩軌跡の
ない表面あらさが極めて小さい（0.005μｍRmax
以下）、基板の鏡面仕上げ方法を提供することに
ある。
く、高精度仕上面を要求される基板加工におい
て、以上のような従来の欠点に鑑み、研摩軌跡の
ない表面あらさが極めて小さい（0.005μｍRmax
以下）、基板の鏡面仕上げ方法を提供することに
ある。
本発明によれば磁気デイスク基板を研摩液とし
て無水硅酸の超微粒子をコロイド溶液としたコロ
イダルシリカを用いて、研摩クロスにより該磁気
デイスク基板の両面を同時に研摩し、鏡面仕上げ
する方法によつて従来の欠点を除去し、高密度磁
気デイスク基板として十分満足する基板を達成す
ることができる。
て無水硅酸の超微粒子をコロイド溶液としたコロ
イダルシリカを用いて、研摩クロスにより該磁気
デイスク基板の両面を同時に研摩し、鏡面仕上げ
する方法によつて従来の欠点を除去し、高密度磁
気デイスク基板として十分満足する基板を達成す
ることができる。
次に第２図および第３図に示す本発明の実施例
について説明する。第２図は本発明による方法で
磁気デイスク基板の両面を鏡面仕上げを行つてい
る状態を示しており、ａは正面図、ｂは磁気デイ
スク基板、研摩クロスおよびローラだけを示す側
面図である。研摩装置は先に本発明者によつて提
案された円板研摩装置（特願昭52―148382号）を
用いる。
について説明する。第２図は本発明による方法で
磁気デイスク基板の両面を鏡面仕上げを行つてい
る状態を示しており、ａは正面図、ｂは磁気デイ
スク基板、研摩クロスおよびローラだけを示す側
面図である。研摩装置は先に本発明者によつて提
案された円板研摩装置（特願昭52―148382号）を
用いる。
第２図において磁気デイスク基板２０はローラ
２１，２２，２３，２４によつて鉛直状態に支持
され、磁気デイスク基板２０の板面の両側に対向
して設けた工具台２５，２６にそれぞれ接着され
た研摩クロス２７，２８により磁気デイスク基板
２０を挾着加圧し、研摩液供給パイプ２９，３０
から研摩液としてコロイダルシリカ溶液（たとえ
ばSnowtex―Ｎ；商品名）３１，３２を供給しな
がら、ベルト３３，３４により研摩クロス２７，
２８を回転させることにより磁気デイスク基板２
０の両面を同時に研摩仕上げしている。
２１，２２，２３，２４によつて鉛直状態に支持
され、磁気デイスク基板２０の板面の両側に対向
して設けた工具台２５，２６にそれぞれ接着され
た研摩クロス２７，２８により磁気デイスク基板
２０を挾着加圧し、研摩液供給パイプ２９，３０
から研摩液としてコロイダルシリカ溶液（たとえ
ばSnowtex―Ｎ；商品名）３１，３２を供給しな
がら、ベルト３３，３４により研摩クロス２７，
２８を回転させることにより磁気デイスク基板２
０の両面を同時に研摩仕上げしている。
第３図はアルミニウム合金面上に形成された非
磁性ニツケルーリン・メツキ膜を上記の本発明の
方法で平均相対速度15cm／sec、平均加工圧力10
ｇ／cm2の研摩条件で仕上げた面の表面あらさ測定
機で測定した結果を表わす。第３図の表面あらさ
曲線３７とその記録縦倍率３８および横倍率３９
により、仕上面の表面あらさは0.005μｍRmaxで
あり、微小な研摩軌跡もなく、金属の仕上面とし
てはかつてない最高のものが達成された。
磁性ニツケルーリン・メツキ膜を上記の本発明の
方法で平均相対速度15cm／sec、平均加工圧力10
ｇ／cm2の研摩条件で仕上げた面の表面あらさ測定
機で測定した結果を表わす。第３図の表面あらさ
曲線３７とその記録縦倍率３８および横倍率３９
により、仕上面の表面あらさは0.005μｍRmaxで
あり、微小な研摩軌跡もなく、金属の仕上面とし
てはかつてない最高のものが達成された。
これは、研摩液として用いたコロイダルシリカ
溶液中の無水硅酸の粒子径は0.01〜0.02μｍと研
摩砥粒としては極めて小さく、かつ超微粒子は球
形であるので、比較的低い加工圧力（たとえば10
ｇ／cm2）では微小な研摩軌跡が生じることなく、
良好に鏡面仕上できることによるものである。本
実施例でコロイダルシリカ溶液として用いた
Snowtex―Ｎはコロイド溶液をアンモニアで安定
化してあるため、アルカリ性であるが乾燥すれば
アルカリ分を残さない特徴をもつており、鏡面仕
上げ後に純水で洗浄し、乾燥させれば十分であ
り、乾燥後もアルカリ分が残る他のコロイダルシ
リカ溶液（たとえばSnowtex―20，30，40）に比
較して洗浄が容易である。また、磁気デイスク基
板は基板の両面とも記録媒体処理して使用するの
で、片面毎に研摩する方法では被仕上げ面の反対
面を接着または真空吸着等を行うので接着した面
または真空吸着した面にキズ、汚れ等が生じる問
題があつて、磁気デイスク基板の両面とも高精度
な表面あらさ値0.005μｍRmax以下に仕上げるに
は片面毎に研摩する方法は不適切であり、両面を
同時に研摩することが必要である。
溶液中の無水硅酸の粒子径は0.01〜0.02μｍと研
摩砥粒としては極めて小さく、かつ超微粒子は球
形であるので、比較的低い加工圧力（たとえば10
ｇ／cm2）では微小な研摩軌跡が生じることなく、
良好に鏡面仕上できることによるものである。本
実施例でコロイダルシリカ溶液として用いた
Snowtex―Ｎはコロイド溶液をアンモニアで安定
化してあるため、アルカリ性であるが乾燥すれば
アルカリ分を残さない特徴をもつており、鏡面仕
上げ後に純水で洗浄し、乾燥させれば十分であ
り、乾燥後もアルカリ分が残る他のコロイダルシ
リカ溶液（たとえばSnowtex―20，30，40）に比
較して洗浄が容易である。また、磁気デイスク基
板は基板の両面とも記録媒体処理して使用するの
で、片面毎に研摩する方法では被仕上げ面の反対
面を接着または真空吸着等を行うので接着した面
または真空吸着した面にキズ、汚れ等が生じる問
題があつて、磁気デイスク基板の両面とも高精度
な表面あらさ値0.005μｍRmax以下に仕上げるに
は片面毎に研摩する方法は不適切であり、両面を
同時に研摩することが必要である。
なお、本発明の実施例ではコロイダルシリカ溶
液としてSnowtex―Ｎを用いた例について説明し
たが、他のコロイダルシリカ溶液（たとえば
Snowtex―20，30，40）を用いても、アルカリ性
または酸性の洗浄液で研摩後に洗浄すれば同様に
磁気デイスク基板の鏡面仕上げを行うことができ
る。
液としてSnowtex―Ｎを用いた例について説明し
たが、他のコロイダルシリカ溶液（たとえば
Snowtex―20，30，40）を用いても、アルカリ性
または酸性の洗浄液で研摩後に洗浄すれば同様に
磁気デイスク基板の鏡面仕上げを行うことができ
る。
以上のように本発明の鏡面仕上げ法により、磁
気デイスク基板の表面あらさを0.005μｍRmax以
下に仕上げることができ、磁気デイスク表面の微
小な突起またはへこみに起因する磁気ヘツドに対
する耐フラツレユ性およびエラー特性の問題が解
決され、高密度磁気デイスク基板として十分満足
するものが達成された。
気デイスク基板の表面あらさを0.005μｍRmax以
下に仕上げることができ、磁気デイスク表面の微
小な突起またはへこみに起因する磁気ヘツドに対
する耐フラツレユ性およびエラー特性の問題が解
決され、高密度磁気デイスク基板として十分満足
するものが達成された。
第１図は従来のポリシング仕上面の表面あらさ
の測定結果を示す図、第２図ａは本発明の実施例
を示す正面図、第２図ｂは第２図ａにおける磁気
デイスク基板と研摩クロスおよびローラの位置関
係を示す部分側面図、第３図は本発明の鏡面仕上
げ法で仕上げた面の表面あらさの測定結果を示す
図である。なお図において、１１，３７は表面あ
らさ曲線、１２，３８は記録縦倍率、１３，３９
は記録横倍率、１４は研摩軌跡のへこみ、２０は
磁気デイスク基板、２１，２２，２３，２４はロ
ーラ、２５，２６は工具台、２７，２８は研摩ク
ロス、２９，３０は研摩液供給パイプ、３１，３
２はコロイダルシリカ溶液、３３，３４はベル
ト、３５はエアーシリンダ、３６は基体を表わ
す。
の測定結果を示す図、第２図ａは本発明の実施例
を示す正面図、第２図ｂは第２図ａにおける磁気
デイスク基板と研摩クロスおよびローラの位置関
係を示す部分側面図、第３図は本発明の鏡面仕上
げ法で仕上げた面の表面あらさの測定結果を示す
図である。なお図において、１１，３７は表面あ
らさ曲線、１２，３８は記録縦倍率、１３，３９
は記録横倍率、１４は研摩軌跡のへこみ、２０は
磁気デイスク基板、２１，２２，２３，２４はロ
ーラ、２５，２６は工具台、２７，２８は研摩ク
ロス、２９，３０は研摩液供給パイプ、３１，３
２はコロイダルシリカ溶液、３３，３４はベル
ト、３５はエアーシリンダ、３６は基体を表わ
す。
Claims (1)
- １ 無水硅酸の超微粒子をコロイド溶液としたコ
ロイダルシリカを研摩液として用い、基板の両面
を同時に研摩することを特徴とする基板の鏡面仕
上げ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3025279A JPS55125976A (en) | 1979-03-15 | 1979-03-15 | Method for finishing base plate to mirror finished surface |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3025279A JPS55125976A (en) | 1979-03-15 | 1979-03-15 | Method for finishing base plate to mirror finished surface |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55125976A JPS55125976A (en) | 1980-09-29 |
| JPS6240140B2 true JPS6240140B2 (ja) | 1987-08-26 |
Family
ID=12298512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3025279A Granted JPS55125976A (en) | 1979-03-15 | 1979-03-15 | Method for finishing base plate to mirror finished surface |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55125976A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57144654A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-07 | Nec Corp | Polishing method for high density magnetic disk substrate |
| JPS6148123A (ja) * | 1984-08-15 | 1986-03-08 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 記録デイスク用基板の製造方法 |
| US6236542B1 (en) | 1994-01-21 | 2001-05-22 | International Business Machines Corporation | Substrate independent superpolishing process and slurry |
| CN115139191B (zh) * | 2022-09-05 | 2022-11-22 | 歌尔光学科技有限公司 | 光学镜片模仁的抛光方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5380897A (en) * | 1976-12-27 | 1978-07-17 | Fujitsu Ltd | Method for grinding ferrite sintered bodies |
-
1979
- 1979-03-15 JP JP3025279A patent/JPS55125976A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55125976A (en) | 1980-09-29 |
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