JPS6240694A - リ−ク電流センス回路 - Google Patents

リ−ク電流センス回路

Info

Publication number
JPS6240694A
JPS6240694A JP60179696A JP17969685A JPS6240694A JP S6240694 A JPS6240694 A JP S6240694A JP 60179696 A JP60179696 A JP 60179696A JP 17969685 A JP17969685 A JP 17969685A JP S6240694 A JPS6240694 A JP S6240694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
signal
output
inverter
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60179696A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0520835B2 (ja
Inventor
Kazuhiro Sawada
沢田 和宏
Takayasu Sakurai
貴康 桜井
Kazutaka Nogami
一孝 野上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP60179696A priority Critical patent/JPS6240694A/ja
Priority to KR1019850005945A priority patent/KR910000384B1/ko
Publication of JPS6240694A publication Critical patent/JPS6240694A/ja
Publication of JPH0520835B2 publication Critical patent/JPH0520835B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は半導体記憶装置、特にダイナミック型RAM
(ランダムアクセスメモリ)のリフレッシュ回路に用い
られるリーク電流センス回路に関する。
[発明の技術的背景〕 最近のダイナミック型RAMには、リフレッシュ動作を
自動的に行なうための自動リフレッシュ回路をメモリチ
ップ上に搭載することにより、使い方、周辺回路の便宜
を図ったものがある。この自動リフレッシュ回路は、例
えば第8図に示すように発振器81とリフレッシュアド
レスカウンタ82とを有し、メモリが通常動作、すなわ
ちデータの書き込みや読み出しを行なっていないときに
自動的にリフレッシュアドレスを設定してリフレッシュ
動作を行なわせている。この場合、リフレッシュ動作と
してメモリセルのリーク電流を考慮していないと、リフ
レッシュ回路の消費電流が必要以上に大きくなる。すな
わち、上記リーク電流は周囲温度の上昇と共に大きくな
るので、全温度にわたって自動リフレッシュ動作を行な
わせるためには、リーク電流が最も大きくなった場合を
想定して一定の余裕を持った短いリフレッシュ周期に設
定しなければならないからである。
このような事情において、リフレッシュに要する消費電
力を低減化するために、リフレッシュ動作を必要最大の
周期で自動的に行なうように制御する完全自動リフレッ
シュ方式を採用したMO8記憶装置が特開昭59−56
291号公報により提案されている。ざらに、このMO
8記憶装置に比べて、より低Ir4費電力化が図られた
自動リフレッシュEl 御回路が本件出願の出願人によ
る特願昭59−172754号の出願により提案されて
いる。その一実施例に係る回路を第9図に示す。この自
動リフレッシュ方式の基本的な動作は、リークモニタ回
路中のキャパシタの保持電圧がリークにより低下し、こ
れが所定値以下になったことを検知することによりリフ
レッシュ動作の始動あるいは間欠的間隔を制御するもの
である。なお、第9図中、リークモニタ回路91は図示
しないメモリセルと同じ構成を持つように、1個の記憶
保持用キャパシタCと1個のNチャネルのMO8型トラ
ンスファゲートQとを直列に接続して構成されている。
なお、92はプリチャージ・ディスチャージ型のCMO
Sインバータである。
ところで、上記リークモニタ回路91のキャパシタCに
充電される電荷量が不適切なものであった場合、キャパ
シタCの保持電圧が所定値以下になるまでの時間、すな
わちリーク時間のモニタは、実際のメモリセルにおける
実際のリーク時間を正確に反映しているとは言えなくな
る。この点を考慮して、リークモニタ回路のキャパシタ
に対する適切な充電を行なうための具体例が、本件出願
の出願人による特願昭60−56503号「リーク電流
センス回路」の出願により提案されている。
このリーク電流センス回路の一実施例に係る回路構成を
第10図に示す。このリーク電流センス回路はダイナミ
ック型RAMの自動リフレッシュ制御部に設けられてり
、QlないしC4はMOSトランジスタ (絶縁ゲート
型電界効果トランジスタ)、C1,t>よびC2は第1
、第2のキャパシタであり、これらはリークモニタ回路
110およびプリチャージ・ディスチャージ型のインバ
ータ 120を構成している。すなわち、リークモニタ
回路110において、PチャネルMOSトランジスタQ
1はソースがvDD電源に接続され、ドレイン、ゲート
相互が接続されると共にトランスファゲートとしてのN
チャネルMOSトランジスタQ2のドレインに接続され
ている。このトランジスタQ2のソースにはキャパシタ
C1,C2の各一端が接続されている。ここで、上記ト
ランジスタQ2およびキャパシタCLC2は、ダイナミ
ック型RA〜1におけるメモリセルと同等の特性を持つ
ように構成されている。前記インバータ 120ではプ
リチャージ用のPチャネルMOSトランジスタQ3のソ
ースがVDD電源に、ドレインがディスチャージ用のN
チャネルMoSトランジスタC4のドレインに、ゲート
が上記第1、第2のキャパシタCL C2それぞれの一
端に接続され、1−ランジスタQ4のソースがVes電
源(II地電位)に接続されている。なお、第10図に
おいて、トランジスタQ2のドレインを第1のノードN
1.ゲートを第2のノードN2、ソースを第3のノード
N3とし、第1のキャパシタC1の他端を第4のノード
N4、第2のキャパシタC2の他端を第5のノードN5
、トランジスタQ3と04の共通ドレインを第6のノー
ドN6およびトランジスタQ4のゲートを第7のノード
N7としている。
このような構成のリーク電流センス回路において、トラ
ンジスタQ2のゲート、すなわちノードN2に所定のタ
イミングでパルス信号を供給して第3のノードN3に電
源vDDよりもPチャネルMOSトランジスタQ1の同
値電圧VTP分だけ低い電位Voo−VTR(以下、電
位vbと称する〉を印加する。次に第1のキャパシタC
1の他端、すなわちノードN4の電位を上昇させること
によってノードN3の電位をvbからVCにブートスト
ラップさせる。なお、第2のキャパシタC2の他端、す
なわち第5のノードN5には一定の電位例えばVCを常
時供給しておく。ノードN3の電位がブートストラップ
された後はこの状態で放置する。このとき、第1、第2
のキャパシタC1、C2のリークによりノードN3の電
位が所定値以下に達すると、プリチャージ・ディスチャ
ージ型のインバータ 120がこれを検出し、第6のノ
ードN6の信号はVosからVDDに反転する。
なお、これ以前では予めノードN7の信号が所定のタイ
ミングでVDDに設定され、プリチャージ・ディスチャ
ージ型のインバータ 120内のNチャネルMOS l
〜ランジスタQ4がオン状態になり、ノードN6の信号
はVsoにされている。
ここで2alaのキャパシタC1、C2と2種の電位V
b、Vcにより、ブートストラップ前後における第2の
キャパシタC2と1〜ランジスタQ2との接続点である
ノードN3の電位変化ffi V Unが決定され、そ
の値は次式で与えられる。
上記1式で与えられる電位はリフレッシュ動作余裕とな
る。そしてこのリフレッシュ動作余裕はプロセス変化に
基づ<MOS トランジスタの閾値電圧の変動に依存せ
ず、モニタ用キャパシタC1、C2および2種の電位V
b、Vcのみにより最適値に設定することが可能である
。この場合の最適値とは実際のメモリセルにおけるリー
ク時間より前にリーク電流センス回路により適確にモニ
タ時間のセンスができるように、モニタ用キャパシタC
1、C2を充電するのに必要な時間である。
[背景技術の問題点] ところで、上記第10図のようなリーク電流センス回路
において、リフレッシュ動作の始動あるいは間欠的間隔
を制御する周辺回路の動作が非常に重要と考えられる。
しかしながら、特願昭60−56503号の出願ではこ
れら周辺回路に関する具体的回路は示されていない。完
全自動的にリフレッシュ制御を行なわせるためには周辺
回路が必要不可欠である。
[発明の目的コ この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
ありその目的は、プロセス変化に依存せず、リフレッシ
ュ動作余裕を最適値に設定することができ、しかもリフ
レッシュ動作の始動および間欠的間隔を自動υ]I11
する制御回路を伴ったリーク電流センス回路を提供する
ことにある。
[発明の概要] 上記目的を達成するためこの発明にあっては、リフレッ
シュ動作を必要とするメモリセルのり一りをモニタする
ためにトランスファゲートと第1および第2のキャパシ
タとを用いてリークモニタ回路を構成し、このリークモ
ニタ回路におけるトランスファゲートと第2のキャパシ
タとの接続点の電位が所定値に達したときこの電位に応
じてプリチャージ・ディスチャージ型のインバータの出
力端をプリチャージし、このインバータの出力端の信号
に基づいて上記メモリセルのリフレッシュ動作を制御す
るための制御信号を第1の制御回路で発生し、上記第1
の制御信号に基づき第2の制御回路で上記第1および第
2のキャパシタの充電動作を制御し、さらに上記第1の
制御信号に基づき第3の制御回路で上記インバータのデ
ィスチャージ動作を制御するようにしている。
[発明の実施例] 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
第1図はこの発明に係るリーク電流センス回路の第1の
実施例の構成を示す回路図である。
この実施例回路では前記第10図の場合と同様に、トラ
ンスファゲート用のNチャネルMOSトランジスタQ2
と第1、第2のキャパシタC1、C2とからなるリーク
モニタ回路11と、PチャネルMoSトランジスタQ3
およびNチャネル〜IOSトランジスタQ4からなるプ
リチャージ・ディスチャージ型インバータ12とが設け
られている。この他の回路は上記リークモニタ回路11
およびプリチャージ・ディスチャージ型インバータ12
の動作を制御する周辺回路であり、これら周辺回路は次
に示す三つの働きを行なう。
■ プリチャージ・ディスチャージ型インバータ12の
出力信号からリフレッシュ開始のための制御信号を発生
する。
■ ■の制御信号に基づき、リークモニタ回路11内の
キャパシタC1、C2に再充電を行ない、最適動作余裕
でリーク動作が開始されるようにする。
■ プリチャージ・ディスチャージ型インバータ12の
出力をディスチャージし、次のリークセンスの出力に備
えるようにする。
上記■ないし■の鏝面を達成する周辺回路は次のように
構成されている。プリチャージ・ディスチャージ型イン
バータ12の出力ノードであるN6はCMOSインバー
タ21の入力端とPチャネルMOSトランジスタQ11
のドレインに接続されている。上記インバータ21の出
力端はCMOSインバータ22の入力端と上記トランジ
スタQ11のゲートに接続されている。上記トランジス
タQ11のソースはVool源に接続されている。上記
インバータ22の出力端は7ンドゲ一ト回路23の入力
端とCMOSインバータ24の入力端に接続されている
さらに上記インバータ24の出力端はCMOSインバー
タ25の入力端に、このインバータ25メ出力端はCM
OSインバータ2Gの入力端に、インバータ26の出力
端であるノードN11は上記アンドゲート回路23の異
なる入力端に接続されている。すなわち、上記インバー
タ21とPチャネルMoSトランジスタQ11は、上記
ノードN6の信号がわずかに変化したことを検出してそ
の信号をラッチするラッチ回路27を構成しており、ま
た縦続接続された3個のCMOSインバータ24ないし
26は上記ラッチ回路27でラッチされ、さらにインバ
ータ22で反転された信号をτ1の時間だけ遅延する信
号遅延回路28を構成している。そして図示しないメモ
リセルのリフレッシュ動作を開始させるためのタイミン
グ信号となるリフレッシュ制御信号は、上記アンドゲー
ト回路23の出力ノードN12から出力されるようにな
っている。
上記ノードN12にはCMOSインバータ29の入力端
およびNチャネルMO5)−ランジスタQ12のソース
、ドレイン間の一端が接続されている。このトランジス
タQ12のゲートはVDD電源に接続されており、さら
にソース、ドレイン間の細端は前記リークモニタ回路1
1内のNチャネルMOSトランジスタQ2のゲートのノ
ードN2に接続されている。上記インバータ29の出力
端はCMOSインバータ30の入力端に接続されており
、このインバータ30の出力端は2個のCMOSインバ
ータ31および32それぞれの入力端に並列に接続され
ている。上記インバータ31の出力端はCMOSインバ
ータ33の入力端子に接続されている。このインバータ
33は第2図に示すように、ゲートが共通に接続された
PチャネルMOSトランジスタQpおよびNチャネルM
OSトランジスタQnからなる通常のCMOSインバー
タに対し、ドレイン、ゲート間が短絡されたPチャネル
MOSトランジスタQ13をPチャネルMOSトランジ
スタQpとDD電源との間に直列に挿入して構成されて
いる。このインバータ33の出力端は前記リークモニタ
回路11内のMOSトランジスタQ2のドレインである
前記ノードN1に接続されている。また上記インバータ
32の出力端はリークモニタ回路11内の第1のキャパ
シタC1の一端である前記ノードN4に接続されている
。すなわち、上記2個のインバータ29.30は前記ノ
ードN12の信号をτ2の時間だけ遅延する信号遅延回
路34を構成している。
また上記インバータ30の出力端はもう1個のCMOS
インバータ35の入力端に接続され、このインバータ3
5の出力端はCMOSインバータ36の入力端に接続さ
れている。すなわち、上記両インバータ35.36は上
記信号遅延回路34の出力をさらにτ3の時間だけ遅延
する信号遅延回路37を構成しており、この回路37の
後段のインバータ36の出力端であるノードN13はノ
アゲート回路38の入力端に接続されている。上記ノア
ゲート回路38の異なる入力端には前記インバータ26
の出力端であるN11が接続されており、このノアゲー
ト回路38の出力端は前記プリチャージ・ディスチャー
ジ型インバータ12内のPチャネルMO3l〜ランジス
タQ4のゲートである前記ノードN7に接続されている
上記のような構成の回路の動作を第3図のタイミングチ
ャートを参照して説明する。まず予め、前記ノードN3
の電位が電源電位VDDよりもPチャネルMOSトラン
ジスタQ13の閾値電圧VTP分だけ低くかつ前記動作
余裕電位Vmqn分だけ高いような電位Vo o −V
T P +Vmgnに設定されているとする。この状態
で第1、第2のキャパシタC1、C2のリークによりノ
ードN3の電位が低下し、時刻t1においてVoo−V
TRに達すると、プリチャージ・ディスチャージ型イン
バータ12内のPチャネルMOSトランジスタQ3がオ
ン状態になる。インバータ12の出力ノードN6が予め
Vssレベルにディスチャージされているならば、トラ
ンジスタQ3がオン状態になるとノードN6がVooレ
ベルにプリチャージされる。このプリチャージによりノ
ードN6の信号がわずかに変化すると、ラッチ回路27
によりこの信号が検出され、インバータ22の出力はV
DDレベルに反転する。そして信号遅延回路28により
、tlの時刻からτ1の時間だけ遅れた時刻℃4におい
て、ノードN11の電位がV s sレベルに低下する
。そしてノードN6およびN11の信号により、アシド
ゲート23の出力ノードN12からパルス幅τ1のパル
ス信号が発生する。この信号がリフレッシュ開始の制御
信号として使用される。
なお、ノードN3の電位が予めVoo−VTP+V+u
qnに設定されているので、プリチャージ・ディスチャ
ージ型インバータ12内のPチャネルMO8トランジス
タQ3の閾値電圧VTPの変動は無視される。づなわら
、ノードN3の電位は予めVooよりもVTP分だけ低
く設定されているので、このノードN3の電位がV m
an分だけ低下すると、トランジスタQ3の閾値電圧に
かかわりなくこのトランジスタQ3がオンすることにな
る。
次に上記ノードN12の信号が信号遅延回路34によっ
て2の時間だけ遅延されるので、時刻t1よりτ2の時
間だけ遅れた時刻で2において、ノードN1の電位が電
源電位vDDよりもPチャネルMOSトランジスタQ1
3の閾値電圧VTP分だけ低い電位Voo−VTPに充
電される。他方、トランジスタQ2のゲートノードN2
は、時刻t1においてトランジスタQ12を介してノー
ドN12の信号により予めVDDに充電されている。従
って、時刻t2で上記トランジスタQ2のドレインノー
ドN1がVDD−VTPに充電されると、このトランジ
スタQ2のドレイン、ゲート間に寄生的に発生している
図示しないキャパシタによるカップリングにより、ノー
ドN2の電位が十分高い電位に昇圧される。これにより
トランジスタQ2を介して上記ノードN1の電位がその
ままノードN3に出力される。また上記時刻t2では、
インバータ32の出力によりリークモニタ回路11内の
第1のキャパシタC1の一端であるノードN4の電位が
8sに下がり、これからτ1後の時刻t5においてvD
Dまで上昇する。この時刻t5のとき、ノードN3は第
1のキャパシタC1のカップリングによりブートされ、
ブート後のノードN3の電位は前記したようにVo o
 −VT p + Vmgn L5Q定される。このよ
うにして、時刻t5にモニタ用キャパシタの最適値電位
までの再充電が行われ、この後、前記のようなリークが
始まる。なお、リーク開始からリークセンスまでに比べ
て再充電開始時間(時刻t2からt5)は短く、その間
でのリークは無視できるものとしている。
他方、ノードN12の電位がVDDに立ち上がった後か
ら、信号遅延回路34.37における遅延時間の和の時
間τ2+τ3だけ遅れた時刻t3において、信号遅延回
路37の出力ノードN13の信号がVDDに立上がり、
その後、時刻t6までVDDを維持する。従って、ノア
ゲート回路38の出力ノードN7の信号は、上記ノード
N13の信号がVssに下がる時刻t6から次にノード
11の信号がVDDに立上がる時刻t7までの期間、V
o。
にされる。そしてこの期間にプリチャージディスチャー
ジ型インバータ12内のNチャネルMOSトランジスタ
Q4がオン状態になり、リークモニタ回路11における
次の再充電に先立ち、その出力ノードN6がVssにデ
ィスチャージされる。
以上によりこの実施例のリーク電流センス回路は、プロ
セス変化に依存せず、リフレッシュ動作余裕を最適値に
設定することができる。しかもリフレッシュ動作の始動
および間欠的間隔を制御する制御回路を伴っているので
、動作の完全自動化を達成することができる。
第4図はこの発明に係るリーク電流センス回路の第2の
実施例の構成を示す回路図である。この実施例回路は上
記第1図の実施例回路と比べて、リークモニタ回路11
内のモニタ用キャパシタC1、C2のうち、第1のキャ
パシタC1を前記トランスノアグー]・用MO3l−ラ
ンジスタQ2のソース側からドレイン側に接続変更する
ようにしたものである。従ってこれに伴い、リークモニ
タ回路11におけるキャパシタの再充電および動作余裕
設定動作を制御する制御回路部分も変更4る必要があり
、その変更された回路部分のみを抽出して示したのが第
4図である。前記ノードN12には2個のCMOSイン
バータ41.42の入力端および2オアゲ一ト回路43
の入力端が並列に接続されている。上記インバータ41
の出力端は第1のキャパシタC1の一端ぐあるノー1N
4に接続さ゛れている。この第1のキトバシタC1の他
端はトラン、ズノアゲート用のPヂ1Tネル〜10S[
−ランジスタQ2のドレーイ〉側rあろノー1ζN1に
接続されでいる。上記インバータ42の出力端は0N1
10Sインバータ44のパノ’J ’4frに接続され
ている。上記両インバータ42および44は前記ノード
N12の信号をτ5の時間だけ遅延する信号遅延回路4
5を構成しており、インバータ44の出力端は上記Aア
ゲート回路43の異なる入力端に接続されている。この
オアゲート回路43の出力端はゲートがVDD電源に接
続されているNチャネルMOSトランジスタQ14のソ
ース、ドレイン間の一端に接続され、この1−ランジス
タQ14のソース、ドレイン間の他端は前記ノードN2
に接続されている。さらに上記オアゲート回路43の出
力端はインバータ46の入力端に接続されている。この
インバータ46の出力端はCMOSインバータ47の入
力端に、このインバータ47の出力端はCMOSインバ
ータ48の入力端に順次接続され、これら3個のインバ
ータ46ないし47は上記オアゲート回路43の出力を
τ4の時間だけ遅延する信号遅延回路49を構成してい
る。そして上記インバータ48の出力端はCMOSイン
バータ50の入力端に接続されている。このインバータ
50は前記インバータ33と同様に、PチャネルMOS
トランジスタQpおよびNチャネルMOSトランジスタ
Qnからなる通常のCMOSインバータに対し、ドレイ
ン、ゲート間が短絡されたPチャネルMoSトランジス
タQ15をPチャネルMoSトランジスタQpと■DD
電源との間に直列に挿入して構成されている。そし・て
このインバータ50の出力端は前記リークモニタ回路1
1内のMOS l−ランジスタQ2のドレインノードN
1に接続されている。なお、前記信号遅延回路37は例
えば上記インバータ44の出力端に接続されている。
第5図はこの実施例回路の動作を示すタイミングチャー
トである。まず、ノードN3の電位が前記(7)Vo 
o−VT P + Vmgn tfiらVo o −V
T Pに低下し、この電位低下が前記プリチャージ・デ
ィスチャージ型インバータ12で検出される。これによ
り時刻t1にノードN12の信号がVDDに立上がると
、オアゲート回路43を介してトランジスタQ14のゲ
ートノードN2がVooに充電される。
またこのとき、インバータ41の出力信号がVssにさ
れてノードN4の電位がVssにされる。次に信号遅延
回路49における遅延時間τ4の後の時刻t2に、イン
バータ50の出力によりノードN1がVo o −VT
 Pに充電される。上記ノードN1の充電により、トラ
ンジスタQ2のドレイン、ゲート間の奇生キャパシタに
よるカップリングによってノードN2が十分高い電位に
ブートされ、これによりトランジスタQ2を介してノー
ドN3がノードN1と同じ電位VDD−VTPに充電さ
れる。次に、ノードN12の信号がVssに立ち下がる
時刻t3において、インバータ41の出力がノードN1
2の信号によりvDDにされるので、第1のキャパシタ
C1によるカップリングによりノードN1の電位が上昇
し、これによりノードN3の電位が上記実施例の場合と
同様にVoo−VTP+Vunまで高められる。その後
、信号遅延回路45における遅延時間τ5の後の時刻t
4に、ノアゲート回路43の出力がVssに低下し、ノ
ードN2の電位がトランジスタQ14を介して下げられ
るので、トランジスタQ2がオフする。その後のリーク
動作およびプリチャージ・ディスチャージ型インバータ
12におけるディスチャージ動作は上記実施例の場合と
同様である。
第6図はこの発明の第3の実施例の構成を示す回路図で
ある。この実施例回路は前記第1図の実施例回路に対し
、電源投入後の所定期間にリークモニタ回路11の出力
ノードN3およびプリチャージ・ディスチャージ型イン
バータ12の出力ノードN6それぞれを電位Vssに保
ち、その後、自動的にリフレッシュ制御用の信号が発生
するようにしたものである。このため、この実施例回路
では、まずリークモニタ回路11の出力ノードN3とV
ssi!源との間にNチャネルMOSトランジスタQ2
1を挿入し、このトランジスタQ21のゲートには電源
オンパルス信号φが供給されるCMOSインバータ61
の出力端を接続し、プリチャージ・ディスチャージ型イ
ンバータ12ではVoo電源とPチャネルMoSトラン
ジスタQ3との間に新たにPチャネルMOSトランジス
タQ22を直列に挿入し、前記ノードN11とN13を
前記ノアゲート回路38の入力端に接続する代わりにオ
アゲート回路62の入力端に接続し、一方の入力端に上
記電源オンパルス信号φが供給されるナントゲート回路
63の異なる入力端にこのオアゲート回路62の出力端
を接続し、このナントゲート回路63の出力端をプリチ
ャージ・ディスチャージ型インバータ12内のPチャネ
ルMOSトランジスタQ22およびNチャネルMO8t
−ランジスタQ4の共通ゲートであるノードN7に接続
するようにしたものである。
このような回路では、第7図のタイミングチセートに示
すように、電源投入直後のパルス信号φがVssにされ
ている期間では、インバータ61の出力がVooにされ
るのためにトランジスタQ21がオンし、ノードN3は
このトランジスタQ21によりVssに設定される。さ
らにパルス信号φがVesにされている期間ではナント
ゲート回路63の出力は一義的にVDDにされるので、
プリチャージ・ディスチャージ型インバータ12内のN
チャネルMO8t−ランジスタQ4がオンし、Pチャネ
ルMOSトランジスタQ22がオフする。このため、出
力ノードN6はトランジスタQ4によりVssに設定さ
れる。
次にパルス信号φがVDDにされると、予め信号遅延回
路28の出力ノードN11はプリチャージ・ディスチャ
ージ型インバータ12の出力ノードN6の電位によりV
DDにされているので、ナントゲート回路63の出力が
Vssに反転する。これによりプリチャージ・ディスチ
ャージ型インバータ12ではNチャネルMOSトランジ
スタQ4がオフし、PチャネルMOSトランジスタQ2
2がオンする。
他方、リークモニタ回路11では出力ノードN3がVs
sにされ、プリチャージ・ディスチャージ型インバータ
12ではPチャネルMOSトランジスタQ3がオンする
ので、出力ノードN6は上記両トランジスタQ22およ
びQ3を介してvDDにプリチャージされる。これによ
りアンドゲート回路23の出力ノードN12がVDDに
され、この後、信号遅延回路34における信号遅延時間
τ2の経過後にノードN1がVDD−VTP電位に設定
される。
この後は前記と同様にしてリークモニタ回路11で充電
が行われ、リフレッシュ制御用の信号が自動的に発生す
る。
なお、この実施例回路で設けられているNチャネルのM
OSトランジスタQ23およびQ24は、ノードN14
およびN6のフローティング状態の時、リークにより、
ノードN14およびN6がVDDまで上昇するのを防止
するためのものである。
なお、この発明は上記した各実論例に限定されるもので
はなく種々の変形が可能であることはいうまでもない。
例えば、上記第1図の実施例回路では信号遅延回路28
を縦続接続した3個のインバータで構成し、信号遅延回
路34.37それぞれを縦続接続した2個のインバータ
で構成する場合について説明したが、これは要するに遅
延時間τ1とτ2およびτ3との間にτ1〉τ2、τ3
なる関係が成立し、かつ入出力間の論理が第1図の場合
と同じものであればそれぞれインバータをいくつ1ii
続接続して構成するようにしてもよく、さらにはインバ
ータの代わりの他の手段により信号遅延回路を構成する
ようにしてもよい。
[発明の効果コ 以上説明したようにこの発明によれば、プロセス変化に
依存せず、リフレッシュ動作余裕を最適値に設定するこ
とかでき、しかもリフレッシュ動作の始動および間欠的
間隔を制御する制御回路を伴ったリーク電流センス回路
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係るリーク電流センス回路の第1の
実施例の構成を示す回路図、第2図はその一部を具体的
に示す回路図、第3図は上記実施例回路のタイミングチ
ャート、第4図はこの発明の第2の実施例の構成を示す
回路図、第5図は第4図の実施例回路のタイミングチャ
ート、第6図はこの発明の第3の実施例の構成を示す回
路図、第7図は第6図の実施例回路のタイミングチャー
ト、第8図は従来の自動リフレッシュ回路の回路図、第
9図は改良された従来の自動リフレッシュ制御回路の回
路図、第10図はさらに改良された従来のリーク電流セ
ンス回路の回路図である。 11・・・リークモニタ回路、12・・・プリチャージ
・ディスチャージ型インバータ、23・・・アンドゲー
ト回路、28.34.37.45.49・・・信号遅延
回路、32.33゜41・・・CMOSインバータ、3
8・・・ノアゲート回路、C2・・・トランスファゲー
ト用のNチャネルMOSトランジスタ、C12・・・M
OSトランジスタ、C1゜C2・・・キャパシタ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 tz       ts 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図 第10図 1、事件の表示 特願昭60−179696号 2、発明の名称 リーク電流センス回路 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (307)  株式会社 東芝 4、代理人 東京都港区虎ノ門1丁目26番5号 第17森ビル〒 
105  電話03 (502)3181 (大代表)
(8)図面の第4図を別紙の通り訂正する。 7、補正の内容 (1)第18頁第811ないし第9行に[Pチャネル〜
10SトランジスタQ4Jとあるを「NチャネルMO3
I−ランジスタQ4Jと訂正する。 (2)第19頁第13行に「アンドゲート23」とある
を[アンドゲート回路23」と訂正する。 (3)第23頁第13行に[PチャネルMO8l−ラン
ジスタQ2jとあるを[NチャネルMO3I−ランジス
タQ2Jと訂正する。 (4)  第24頁第10行に「インバータ46ないし
47」とあるを「インバータ46ないし48」と訂正す
る。 (5)第25頁第12行ないし第13行に[トランジス
タQ14」とあるを「トランジスタQ2Jと訂正する。 (6)第26頁第11行ないし第12行に「ノアゲート
回路43」とあるを「オアゲート回路43」と訂正する
。 (7)第27頁第9行、同頁第17行、第28頁第5行
、同頁第17行にそれぞれ「φ」とあるを「7」と訂正
する。 第4図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)リフレッシュ動作を必要とするメモリセルのリー
    クをモニタするためにトランスファゲートと第1および
    第2のキャパシタとを用いて構成され、上記第1のキャ
    パシタの一端の電位が所定タイミングで上昇されるリー
    クモニタ回路と、予め出力端がディスチャージされ、上
    記リークモニタ回路におけるトランスファゲートと第2
    のキャパシタとの接続点の電位が所定値に達したときに
    出力端がプリチャージされるプリチャージ・ディスチャ
    ージ型のインバータと、上記インバータの出力端の信号
    に基づいて上記メモリセルのリフレッシュ動作を制御す
    るための制御信号を発生する第1の制御回路と、上記第
    1の制御信号に基づいて上記第1および第2のキャパシ
    タの充電動作を制御する第2の制御回路と、上記第1の
    制御信号に基づいて上記インバータのディスチャージ動
    作を制御する第3の制御回路とを具備したことを特徴と
    するリーク電流センス回路。
  2. (2)前記第1の制御回路は前記インバータの出力端の
    信号を所定時間遅延する第1の信号遅延回路と、この第
    1の信号遅延回路の出力および前記インバータの出力端
    の信号が供給され、前記インバータの出力端の信号が反
    転した後に所定の長さのパルス信号を前記第1の制御信
    号として発生する第1のゲート回路とから構成され、前
    記第2の制御回路は前記第1の制御回路の出力を所定時
    間遅延する第2の信号遅延回路と、この第2の信号遅延
    回路の出力に応じた電位を前記トランスファゲートの一
    端に供給する手段と、一端が前記トランスファゲートの
    制御端に接続され他端に前記第1の制御回路の出力が供
    給されるMOSトランジスタと、上記第2の信号遅延回
    路の出力を反転して前記第1のキャパシタの一端に供給
    する信号反転手段とから構成され、前記第3の制御回路
    は上記第2の信号遅延回路の出力を所定時間遅延する第
    3の信号遅延回路と、上記第1および第3の信号遅延回
    路の出力が供給される論理和型の第2のゲート回路とか
    ら構成されている特許請求の範囲第1項に記載のリーク
    電流センス回路。
  3. (3)前記第1の制御回路は前記インバータの出力端の
    信号を所定時間遅延する第1の信号遅延回路と、この第
    1の信号遅延回路の出力および前記インバータの出力端
    の信号が供給され、前記インバータの出力端の信号が反
    転した後に所定の長さのパルス信号を前記第1の制御信
    号として発生する第1のゲート回路とから構成され、前
    記第2の制御回路は前記第1の制御回路の出力を所定時
    間遅延する第2の信号遅延回路と、この第2の信号遅延
    回路の出力および前記第1の制御回路の出力が供給され
    る論理和型の第2のゲート回路と、一端が前記トランス
    ファゲートの制御端に接続され他端に上記第2のゲート
    回路の出力が供給されるMOSトランジスタと、上記第
    2のゲート回路の信号を所定時間遅延する第3の信号遅
    延回路と、この第3の信号遅延回路の出力に応じた電位
    を前記トランスファゲートの一端に供給する手段と、上
    記第1の信号遅延回路の出力を反転して前記第1のキャ
    パシタの一端に供給する信号反転手段とから構成され、
    前記第3の制御回路は上記第2の信号遅延回路の出力を
    所定時間遅延する第4の信号遅延回路と、上記第1およ
    び第4の信号遅延回路の出力が供給される論理和型の第
    3のゲート回路とから構成されている特許請求の範囲第
    1項に、記載のリーク電流センス回路。
  4. (4)前記リークモニタ回路における第1のキャパシタ
    の他端および第2のキャパシタの一端が前記トランスフ
    ァゲートの他端に共通に接続されており、前記第2の制
    御回路の制御の下に、このトランスファゲートが閉じら
    れた後に第1のキャパシタの一端の電位が上昇されるよ
    うに構成されている特許請求の範囲第2項に記載のリー
    ク電流センス回路。
  5. (5)前記リークモニタ回路における第1のキャパシタ
    の他端が前記トランスファゲートの一端に、第2のキャ
    パシタの一端が前記トランスファゲートの他端にそれぞ
    れ接続されており、前記第2の制御回路の制御の下に第
    1のキャパシタの一端の電位が上昇された後にトランス
    ファゲートが閉じられるように構成されている特許請求
    の範囲第3項に記載のリーク電流センス回路。
  6. (6)電源投入時に発生するパルス信号に応じて前記リ
    ークモニタ回路における第2のキャパシタと前記トラン
    スファゲートとの接続点をディスチャージする手段と、
    上記パルス信号に応じて前記プリチャージ・ディスチャ
    ージ型のインバータでディスチャージ動作を行なわせる
    手段とが設けられている特許請求の範囲第1項に記載の
    リーク電流センス回路。
JP60179696A 1984-08-20 1985-08-15 リ−ク電流センス回路 Granted JPS6240694A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60179696A JPS6240694A (ja) 1985-08-15 1985-08-15 リ−ク電流センス回路
KR1019850005945A KR910000384B1 (ko) 1984-08-20 1985-08-17 반도체 기억장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60179696A JPS6240694A (ja) 1985-08-15 1985-08-15 リ−ク電流センス回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6240694A true JPS6240694A (ja) 1987-02-21
JPH0520835B2 JPH0520835B2 (ja) 1993-03-22

Family

ID=16070274

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60179696A Granted JPS6240694A (ja) 1984-08-20 1985-08-15 リ−ク電流センス回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6240694A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6075739A (en) * 1997-02-17 2000-06-13 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor storage device performing self-refresh operation in an optimal cycle

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0453033A (ja) * 1990-06-21 1992-02-20 Sony Corp 光磁気記録再生装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0453033A (ja) * 1990-06-21 1992-02-20 Sony Corp 光磁気記録再生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6075739A (en) * 1997-02-17 2000-06-13 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor storage device performing self-refresh operation in an optimal cycle

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0520835B2 (ja) 1993-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3959781A (en) Semiconductor random access memory
KR940002859B1 (ko) 반도체 메모리장치에서의 워드라인 구동회로
US4682306A (en) Self-refresh control circuit for dynamic semiconductor memory device
US4087704A (en) Sequential timing circuitry for a semiconductor memory
US7719910B2 (en) Sense amplifier circuit and method for a dram
JPH03139916A (ja) プリチャージ式論理回路
EP0023847B1 (en) Semiconductor circuit for a dynamic random access memory
US6356501B2 (en) Apparatus for generating high voltage signal
US4985869A (en) Semiconductor memory device with an improved substrate back-bias arrangement
KR20050044627A (ko) 온도에 비례하는 1티 메모리를 리프레시하는 방법 및 구조
US20100002493A1 (en) Semiconductor storage device
US6292418B1 (en) Semiconductor memory device
US4578781A (en) MIS transistor circuit
US5841718A (en) Use of voltage equalization in signal-sensing circuits
US5327026A (en) Self-timed bootstrap decoder
KR0154755B1 (ko) 가변플레이트전압 발생회로를 구비하는 반도체 메모리장치
KR100215535B1 (ko) 반도체 기억 장치
US4554469A (en) Static bootstrap semiconductor drive circuit
US5579276A (en) Internal voltage boosting circuit in a semiconductor memory device
US7084684B2 (en) Delay stage insensitive to operating voltage and delay circuit including the same
US11289151B2 (en) Cross-coupled transistor threshold voltage mismatch compensation and related devices, systems, and methods
US6898136B2 (en) Semiconductor memory device, capable of reducing power consumption
JPS6240694A (ja) リ−ク電流センス回路
KR100387720B1 (ko) 반도체 메모리 소자의 셀프 리프레쉬 장치 및 방법
KR100221801B1 (ko) 반도체 메모리 장치