JPS6241573B2 - - Google Patents

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JPS6241573B2
JPS6241573B2 JP55030434A JP3043480A JPS6241573B2 JP S6241573 B2 JPS6241573 B2 JP S6241573B2 JP 55030434 A JP55030434 A JP 55030434A JP 3043480 A JP3043480 A JP 3043480A JP S6241573 B2 JPS6241573 B2 JP S6241573B2
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JP
Japan
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silicate
weight
zinc
propane
method characterized
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JP55030434A
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English (en)
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JPS55124722A (en
Inventor
Uagusutatsufu Nigeru
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Shell Internationale Research Maatschappij BV
Original Assignee
Shell Internationale Research Maatschappij BV
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Publication date
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Publication of JPS55124722A publication Critical patent/JPS55124722A/ja
Publication of JPS6241573B2 publication Critical patent/JPS6241573B2/ja
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/06—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of zinc, cadmium or mercury
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2529/00—Catalysts comprising molecular sieves
    • C07C2529/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites, pillared clays

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、触媒として結晶質シリケートを使用
して、分子中に炭素原子をせいぜい4個含むパラ
フイン(「C4 -パラフイン」)の含有量が75重量%
よりも高い炭化水素混合物またはプロパンから芳
香族炭化水素および水素を製造する方法に関する
ものである。本発明の特徴は、使用される前記の
結晶質シリケートが、500℃において空気中で1
時間焼成した後に次の性質を有するものであるこ
とである。 (a) X線回析像が、表Aに示された主要反射強度
を有するものであること
【表】 (上表において各記号は次の意味を有する:
VS=非常に強い;S=強い;M=中程度の強
さ;W=弱い;θ=ブラグの法則に従つた角
度)、 (b) 前記のシリケートをH型に変換させそして圧
力2×10-9バール、温度400℃において16時間
排気操作(エバキユエーシヨン)を行ない、次
いで炭化水素圧8×10-2バール、温度100℃に
おいて吸着量測定操作を行なつた後には、n―
ヘキサンの吸着量が少なくとも0.8mmo1/gで
あり、2,2―ジメチルブタンの吸着量が少な
くとも0.5mmo1/gであり、かつ下記の比の値 n―ヘキサンの吸着量/2,2―ジメチルブタンの吸
着量 が少なくとも1.5であること、 (c) 下記の組成を有するものであること(酸化物
のモル数で表わす) y(1.0±0.3)Mo/2O.yA12O3・SiO2 (ここにM=Hおよび/またはアルカリ金属
および/またはアルカリ土類金属; n=Mの原子価; 0<y〓0.1)。 前記の(c)に記載の吸着量測定のために、前記シ
リケートを最初にH型に変換すべきである。この
変換は次の変換方法に従つて実施し、すなわち、
500℃において焼成された前記シリケートを濃度
1.0モルのNH4NO3溶液と一緒にして煮沸し、水
洗し、再び濃度1.0モルのNH4NO3溶液と一緒に
して煮沸し、洗浄し、120℃において乾燥し、そ
して500℃において焼成することからなる変換方
法に従つて実施するのがよい。 本発明方法では、このシリケート触媒の芳香族
選択性および水素選択性は、このシリケートの前
記全組成表示式中のyの値に大きく左右され、か
つこの方法に使用される力にも左右されることが
本発明者により見出された。さらに、この方法の
工業的実施のために必要な高度の触媒活性、芳香
族選択性および水素選択性を得るために、yの値
は少なくとも0.0065であるべきであり、かつこの
シリケートは助触媒としての亜鉛を含有するもの
であるべきであり、かつ本方法は5〜10バールの
圧力のもとで実施すべきであるということも見出
された。 したがつて本発明は、芳香族炭化水素および水
素を製造する方法において、C4 -パラフイン含有
量が75重量%よりも高くかつプロパン含有量が少
なくとも50重量%である炭化水素混合物またはプ
ロパンを、5〜10バールの力のもとで、前記に定
義せる結晶質シリケートと接触させ、このシリケ
ートの前記全組成表示式中のyの値が少なくとも
0.0065であり、かつこのシリケートが亜鉛を助触
媒として含有するものであることを特徴とする方
法に関する。 本発明方法の出発原料は、C4 -パラフイン含有
量が75重量%よりも高くかつプロパン含有量が少
なくとも50重量%である炭化水素混合物、または
プロパンでなければならない。適当なC4 -パラフ
インはメタン、エタン、プロパン、ブタン、イソ
ブタンである。この出発原料が1種またはそれ以
上のC4 -パラフインの他に1種またはそれ以上の
他種炭化水素をも含むものである場合には、かか
る他種炭化水素はたとえばモノオレフイン、ジオ
レフインまたはC5 +パラフインであつてよい。好
ましい出発原料は、プロパン含有量が60重量%よ
りも高い炭化水素混合物である。また、メタンお
よび/またはエタンの含有量が20重量%未満であ
る炭化水素混合物を用いることも好ましい。本発
明方法において非常に適当な原料は、鉱油生産時
に副生成物として得られる実質的にC3およびC4
パラブインからなる炭化水素混合物である。 本発明方法は400〜700℃(特に450〜600℃)の
温度、6〜9バールの圧力、0.1ないし20g.g
-1・h-1(特に0.5〜10g.g-1・h-1)の空間速度
において実施するのが好ましい。 本発明方法では、C4 -パラフイン含有量が75重
量%よりも高くかつプロパン含有量が少なくとも
50重量%である炭化水素混合物またはプロパン
が、芳香族炭化水素および水素に変換されるので
ある。この変換は、前記原料を結晶質シリケート
と接触させることにより達成できる。ただしこの
結晶質シリケートは、空気中で500℃において1
時間焼成した後に、所定のX線粉末回析像を示す
ものでなければならない。 すなわち、このX線粉末回析像は、表Aに示さ
れた主要反射強度を有するものでなければならな
い。本発明に適したシリケートの1例のX線粉末
回析像の完全なデーター(照射線:Cn―Kα;
波長:0.15418nm)を表Bに示す。
【表】
【表】 射強度の反射面の強度値
表B中の備考欄(反射像の状態を記載した欄)
に使用された各記号は次の意味を表わす:SP=
シヤープ;SR=シヨルダー(肩状ピーク);NL
=ノーマル;BD=ブロード;θ=プラグの法則
に従つた角度。 本発明方法において触媒として使用される前記
結晶質シリケートは、次の製法に従つて製造でき
る。このシリケートの製造原料として、下記化合
物を含有する水性混合物(たとえば水溶液)が使
用できる: アルカリ―またはアルカリ土類金属(M)を含
む1種またはそれ以上の化合物、有機カチオン
(R)を含む1種またはそれ以上の化合物(また
は、このシリケートの製造時に、このようなカチ
オンを生成し得る化合物)、1種またはそれ以上
の珪素化合物、および1種またはそれ以上のアル
ミニウム化合物。この水性混合物を、所定のシリ
ケートが生成する迄高温に保ち、次いで該シリケ
ートの結晶を母液から分離する。このシリケート
の製造原料である前記水性混合物中には、前記の
各化合物を下記の比(酸化物のモル比で示す)で
存在させるべきである。 M〓O:(R)〓O=0.1〜20 (R)〓O:SiO2=0.01〜0.5 SiO2:A12O3〓300 H2O:SiO2=5〜50 (ここにnはMの原子価であり、pはRの原子
価である)。 このシリケートを製造する場合には、Mがナト
リウム化合物中に存在しかつRがテトラプロピル
アンモニウム化合物中に存在するような原料混合
物(ベース混合物)を用いるのが好ましい。 このシリケートの組成を示す前記組成式中のy
値は、前記原料混合物中のSiO2対A12O3のモル比
の調節により調節できる。たとえば、比較的低い
y値を有するシリケートは、原料混合物中の
SiO2対A12O3のモル比として比較的高い値を選択
することにより製造できる。 前記のシリケート製造方法により製造されたシ
リケートは、アルカリ金属イオンおよび/または
アルカリ土類金属イオンと、有機カチオンとを含
むものである。適当なイオン交換方法を用いるこ
とにより、前記アルカリ金属イオンおよびアルカ
リ土類金属イオンを他種カチオン(たとえば水素
イオンまたはアンモニウムイオン)と交換するこ
とができる。前記の有機カチオンは、このシリケ
ートの焼成により非常に有利に水素イオンと交換
できる。本発明方法において触媒として使用され
る前記の結晶質シリケートのアルカリ金属含有量
は0.1重量%未満(特に0.01重量%未満)である
ことが好ましい。この結晶質シリケートを触媒と
して使用する場合には、これを所望に応じてペン
トナイトまたはカオリンの如きバインダー材料と
組合せて使用してもよい。 本発明方法では、亜鉛を助触媒として含むシリ
ケートを使用すべきである。亜鉛を0.05〜20重量
%(特に0.1〜5重量%)含むシリケートが好ま
しい。シリケートへの亜鉛の添加は種々の添加方
法により実施でき、たとえばイオン交換または含
浸操作により実施できる。本発明方法において
は、亜鉛塩の水溶液中に前記シリケートを含浸
し、次いで、含浸された該物質を乾燥し焼成する
ことによつて亜鉛添加を行なつたシリケートを使
用するのが好ましい。 本発明方法は、前記触媒を含む固定床または流
動床を有する直立型反応器の中を、前記原料を上
昇流動させるかまたは下降流動させることにより
非常に有利に実施できる。 次に、本発明を一層具体的に例示するために実
施例を示す。 実施例 オートクレーブ中の水の中にSiO2、NaA1O2、
NaOHおよび〔(C3H7)4N〕OHの混合物を入れて
自生圧力のもとで150℃に24時間加熱することに
より3種の結晶質シリケート(シリケートA,B
およびC)を調製した。この反応混合物が冷えた
後に前記シリケートを別し、洗液(水)のPHが
約8になるまで水洗し、120℃において2時間乾
燥した。空気中で500℃において1時間焼成した
後のシリケートA〜Cは、次の性質をもつもので
あつた。 (a) 800℃を越える温度に至るまで安定であり、
すなわち熱的安定性を有していた。 (b) 表Bに示したX線粉末回析像と実質的に同じ
回析像を示した。 (c) このシリケートをH型に変換し、圧力2×
10-9バール、温度400℃において16時間排気操
作を行なつた後に、炭化水素圧8×10-2バー
ル、温度100℃において吸着操作を行なつたと
きのn―ヘキサン吸着量は1.2mmo1/g、2,
2―ジメチルブタンの吸着量は0.7mmo1/g、
次式の比の値 n―ヘキサンの吸着量/2,2―ジメチルブタンの吸
着量 は1.7であつた。 (d) 組成(酸化物のモル比で表わす)は次の通り
であつた。 シリケートA:0.030M2O.0.030A12O3.SiO2 シリケートB:0.0038M2O.0.0038A12O3.SiO2 シリケートC:0.0077M2O.0.0077A12O3.SiO2 (ここにM=HおよびNa) このシリケートA〜Cを調製するために前記原
料混合物のモル組成を表Cに示す。
【表】 上記のシリケートA〜Cの各々(500℃におい
て焼成を行なつたもの)を濃度1.0モルの
NH4NO3溶液と一緒にして煮沸し、水洗し、再び
濃度1.0モルのNH4NO3と一緒にして煮沸し、洗
浄し、120℃において乾燥し、そして500℃におい
て焼成することにより、シリケート〜をそれ
ぞれ調製した。 上記のシリケート〜の各々を出発原料とし
て使用して、亜鉛含有シリケート1〜3をそれぞ
れ調製した。この調製は、シリケート〜の各
各を硝酸亜鉛の水溶液に含浸し、次いでこの含浸
試料を乾燥、焼成することにより行なつた。 シリケート1〜3の組成は次の通りであつた。 シリケート1:シリケート上にZnを2重量%
有するもの。 シリケート2:シリケート上にZnを2重量%
有するもの。 シリケート3:シリケート上にZnを2重量%
有するももの プロパンから芳香族炭化水素および水素を製造
するときの触媒としての性能をみるために、シリ
ケート1〜3およびシリケートを試験した。す
なわち、この試験のための実験を次の方法に従つ
て行なつた。シリケート試料からなる容積5mlの
固定触媒床を有する50ml―反応器を使用し、この
触媒上を温度475℃、空間速度2g(プロパン)
1g(シリケート)1時においてプロパンを通過
させた。この実験の結果を表Dに示す。この表に
は、下記の性質に関するデーターが記載されてい
る。 (a) 活性=pbw(「全生成物」−「生成物中のプロパン」)/pbw(全生成物)×100 (b) 芳香族選択性=pbw(生成物中の芳香族炭化水素)/pbw(「全生成物」―「生成物中のプロパン」)×1
00 (c) 水素選択性=pbw(生成物中の水素)/pbw(「全生成物」)−「生成物中のプロパン」)×100 (d) 使用圧力
【表】 表Dに示された種々の実験のうちで、実験1の
みが、本発明方法に従つて行なわれたものであつ
た。この実験は、規定通りのy値を有しかつ亜鉛
を助触媒として含有するシリケートを触媒として
使用して5〜10バールの圧力のもとで行なつたも
のであつた。この実験1における触媒の活性、芳
香族選択性および水素選択性の値はいずれもかな
り高かつた。実験2〜6は、本発明の範囲外の方
法で行なわれた比較実験であつた。実験2では極
端に高い圧力を使用したが、この場合には、水素
選択性の値が極端に大きく低下した。実験3およ
び4では、y値の極端に低いシリケートを使用す
るかまたは極端に低い圧力を使用したが、この場
合には触媒活性の値が極端に低くなつた。実験5
および6では、亜鉛を含まないシリケートを使用
し、かつ実験5では極端に高い圧力も使用した
が、この両者の場合には芳香族選択性および水素
選択性の値が非常に低くなり、すなわち不満足な
実験結果が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 芳香族炭化水素および水素を製造する方法に
    おいて、C4 -パラフイン含有量が75重量%よりも
    高くかつプロパン含有量が少なくとも50重量%で
    ある炭化水素混合物もしくはプロパンを5〜10バ
    ールの圧力下に、触媒としての亜鉛含有結晶質シ
    リケートと接触させ、しかして前記亜鉛は助触媒
    として役立つものであり、前記シリケートは、空
    気中で500℃において1時間焼成した後に次の性
    質を有するものであり、すなわち (a) 粉末X線回析像は表Aに示す主要反射強度を
    有し 【表】 【表】 (表中の記号は次の意味を有する:VS=非
    常に強い;S=強い;M=中程度の強さ;W=
    弱い;θ=ブラグの法則に従つた角度) (b) このシリケートをH―型に変換させ、圧力2
    ×10-9バール、温度400℃において16時間排気
    操作を行なつた後に、炭化水素圧8×10-2バー
    ル、温度100℃において吸着量測定を行なつた
    場合のn―ヘキサンの吸着量が少なくとも
    0.8mmo1/g、2,2―ジメチルブタンの吸着
    量が少なくとも0.5mmo1/gであり、かつ下記
    の比の値 n―ヘキサンの吸着量/2,2―ジメチルブタンの吸
    着量 が少なくとも1.5であり、かつ (c) このシリケートは下記の組成(酸化物のモル
    数で表わす) y(1.0±0.3)Mo/2O.yA12O3.SiO2 (ここにMはHおよび/またはアルカリ金属
    および/またはアルカリ土類金属であり、nは
    Mの原子価である。y〓0.0065)を有するもの
    である。 ことを特徴とする方法。 2 特許請求の範囲第1項記載の方法において、
    前記原料がプロパンを60重量%よりも多く含有す
    る炭化水素混合物であることを特徴とする方法。 3 特許請求の範囲第1項または第2項に記載の
    方法において、前記原料が、メタンおよび/また
    はエタンを20重量%よりも少ない量で含む炭化水
    素混合物であることを特徴とする方法。 4 特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに
    記載の方法において、前記原料が、鉱油生産のと
    きに副生成物として得られた実質的にC3および
    C4パラフインからなる炭化水素混合物であるこ
    とを特徴とする方法。 5 特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに
    記載の方法において、温度400〜700℃、空間速度
    0.1〜20g.g-1.h-1において実施されることを特
    徴とする方法。 6 特許請求の範囲第1項〜第5項のいずれかに
    記載の方法において、アルカリ金属含有量が0.1
    重量%未満のシリケートを使用することを特徴と
    する方法。 7 特許請求の範囲第1項〜第6項のいずれかに
    記載の方法において、前記シリケートが亜鉛を
    0.05〜20重量%含有するものであることを特徴と
    する方法。 8 特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれかに
    記載の方法において、前記シリケートへの亜鉛の
    添加は次の如く行ない、すなわち、前記シリケー
    トを亜鉛塩の水溶液中に含浸し、其後にこの含浸
    物質を乾燥し焼成することにより亜鉛添加を行な
    つたものであることを特徴とする方法。
JP3043480A 1979-03-14 1980-03-12 Manufacture of aromatic hydrocarbon and hydrogen Granted JPS55124722A (en)

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NLAANVRAGE7902020,A NL190066C (nl) 1979-03-14 1979-03-14 Werkwijze voor de bereiding van aromatische koolwaterstoffen en waterstof.

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Publication Number Publication Date
JPS55124722A JPS55124722A (en) 1980-09-26
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JP (1) JPS55124722A (ja)
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DE (1) DE3009495A1 (ja)
FR (1) FR2451354A1 (ja)
GB (1) GB2044290B (ja)
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