JPS624242A - 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製法 - Google Patents
光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製法Info
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- JPS624242A JPS624242A JP14201485A JP14201485A JPS624242A JP S624242 A JPS624242 A JP S624242A JP 14201485 A JP14201485 A JP 14201485A JP 14201485 A JP14201485 A JP 14201485A JP S624242 A JPS624242 A JP S624242A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学活性な４−ヒドロキシ−２−シクロベン
テノンの製造方法に関する〇光学活ａ＆４−ヒドロキシ
ー２−シクロベンテノンは医・農薬等の中間体として非
常に有用な化合物であシ、たとえば４（８）−ヒドロキ
ｙ−２−シクロベンテノンはＰＧＥ、 、 ＰＧＦ□な
どの原料として利用されている。
テノンの製造方法に関する〇光学活ａ＆４−ヒドロキシ
ー２−シクロベンテノンは医・農薬等の中間体として非
常に有用な化合物であシ、たとえば４（８）−ヒドロキ
ｙ−２−シクロベンテノンはＰＧＥ、 、 ＰＧＦ□な
どの原料として利用されている。
従来、かかる光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロベン
テノンを得るための原料化合物としては式 で示されるラクトン化合物が知られ、その製法について
も特開昭５７−１５９７７７号公報に以下の方法が知ら
れている０ しかしながら、この方法は原料のヒドロキシラクトン類
である（ＩＲ，５Ｂ）−６，６−ジメチ／Ｌ／−４−ヒ
ドロキシ−３−オキサビシクロ（８，１，０〕ヘキサン
−２−オンが（＋）−菊酸がら数工程を経て製造しなけ
ればならないうえ、安定性にも問題があり、回収、可使
用が容易でない尋工業的に実施するうえで必ずしも有利
でない点があった。
テノンを得るための原料化合物としては式 で示されるラクトン化合物が知られ、その製法について
も特開昭５７−１５９７７７号公報に以下の方法が知ら
れている０ しかしながら、この方法は原料のヒドロキシラクトン類
である（ＩＲ，５Ｂ）−６，６−ジメチ／Ｌ／−４−ヒ
ドロキシ−３−オキサビシクロ（８，１，０〕ヘキサン
−２−オンが（＋）−菊酸がら数工程を経て製造しなけ
ればならないうえ、安定性にも問題があり、回収、可使
用が容易でない尋工業的に実施するうえで必ずしも有利
でない点があった。
このようなことから、本発明者らは上記欠点がなく、取
扱いにも容易で、かつ安価な化合物を原料とした光学活
性４−ヒドロキシ−２−￥クロベンテノンの製法につい
て検討した結果、先に本発明者らが見出した一般式（１
）（式中、Ｒ１はアルキＡ／＆またはベンジル基ヲ、東
印は不斉炭素原子を示し、８ｍ、６ｍはシス配位を示す
＠） で示される光学活性シクロベンテノン誘導体（特願昭６
０−８５０４２号）を経由することにより上記目的が達
成せられることを見出し、本発明に至ったＯ すなわち本発明は、式 で示される４−ヒドロキシ−２−シクロベンテノンと一
般式缶） （式中、Ｒ１はアルキ／ｌ’基またはベンジル基を、層
中は不斉炭素原子を示し、８ ｍ ＋ ６ ａ ｅはシ
ス配位を示す。） で示される光学活性ヒドロキシラクトン類を脱水触媒の
存在下に反応させて、縮合体をジアステレオマーとして
得、次いでこれを分離して、前記一般式（Ｉ）で示され
る光学活性シクロベンテノン誘導体を単離し、加水分解
することを特徴とする光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロベンテノンの製造法を提供するものである。
扱いにも容易で、かつ安価な化合物を原料とした光学活
性４−ヒドロキシ−２−￥クロベンテノンの製法につい
て検討した結果、先に本発明者らが見出した一般式（１
）（式中、Ｒ１はアルキＡ／＆またはベンジル基ヲ、東
印は不斉炭素原子を示し、８ｍ、６ｍはシス配位を示す
＠） で示される光学活性シクロベンテノン誘導体（特願昭６
０−８５０４２号）を経由することにより上記目的が達
成せられることを見出し、本発明に至ったＯ すなわち本発明は、式 で示される４−ヒドロキシ−２−シクロベンテノンと一
般式缶） （式中、Ｒ１はアルキ／ｌ’基またはベンジル基を、層
中は不斉炭素原子を示し、８ ｍ ＋ ６ ａ ｅはシ
ス配位を示す。） で示される光学活性ヒドロキシラクトン類を脱水触媒の
存在下に反応させて、縮合体をジアステレオマーとして
得、次いでこれを分離して、前記一般式（Ｉ）で示され
る光学活性シクロベンテノン誘導体を単離し、加水分解
することを特徴とする光学活性４−ヒドロキシ−２−シ
クロベンテノンの製造法を提供するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
原料の一つである４−ｈドロキシ−２−シクロベンテノ
ンは、たとえば特開昭５７−６２２８６を公報に記載の
方法などによって、フルフリμアμコールから容易に得
るととができる。
ンは、たとえば特開昭５７−６２２８６を公報に記載の
方法などによって、フルフリμアμコールから容易に得
るととができる。
また、他の原料であるー゛般式６）で示される光学活性
ヒドロキシラクトン類は、たとえば特公昭４９−２１９
１９８号公報に記載の方法に準じて容易に得るととがで
きる０ ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと一般式（６）
で示される光学活性ヒドロキシラクトン類との縮合反応
は、通常脱水触媒の存在下に行われる。
ヒドロキシラクトン類は、たとえば特公昭４９−２１９
１９８号公報に記載の方法に準じて容易に得るととがで
きる０ ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと一般式（６）
で示される光学活性ヒドロキシラクトン類との縮合反応
は、通常脱水触媒の存在下に行われる。
この反応において、４−ヒドロキシ−２−シクロベンテ
ノンの使用量は光学活性ヒドロキンラクトン類に対して
１〜８倍当量好ましくは１．１〜２．５倍当量である０ この反応において用いられる脱水触媒としては、たとえ
ば強酸性イオン交換樹脂、バフトルエンスルホン酸、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、カンファースル
ホン酸、硫酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸、ホウ酸、酸
性亜硫酸カリなどの無機酸、有機酸またはそのピリジン
塩などが挙げられる。
ノンの使用量は光学活性ヒドロキンラクトン類に対して
１〜８倍当量好ましくは１．１〜２．５倍当量である０ この反応において用いられる脱水触媒としては、たとえ
ば強酸性イオン交換樹脂、バフトルエンスルホン酸、メ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、カンファースル
ホン酸、硫酸、塩酸、リン酸、ポリリン酸、ホウ酸、酸
性亜硫酸カリなどの無機酸、有機酸またはそのピリジン
塩などが挙げられる。
かかる触媒の使用量は４−ヒドロキシ−２−シクロベン
テノンに対して０．０１−０．５倍ｆｉ量、好ましくは
０．０５〜０．８倍当量の範囲である〇この反応で用い
られる溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、メチμエチ〃ケトン、クロロ
ホルム、クロルベンゼン等反応に不活性であれば特に制
限なく用いることができる。しかしながら、副生ずる水
を系外へ除き、反応を促進させるという面からは共沸に
て水を除去できるベンゼン、トルエン、キシレン等の水
と共沸する溶媒が好ましい。
テノンに対して０．０１−０．５倍ｆｉ量、好ましくは
０．０５〜０．８倍当量の範囲である〇この反応で用い
られる溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、メチμエチ〃ケトン、クロロ
ホルム、クロルベンゼン等反応に不活性であれば特に制
限なく用いることができる。しかしながら、副生ずる水
を系外へ除き、反応を促進させるという面からは共沸に
て水を除去できるベンゼン、トルエン、キシレン等の水
と共沸する溶媒が好ましい。
反応温度は、通常２０〜１５０℃、好ましくは４０〜１
２０℃である＠ 反応時間は種々の条件によシ変わシ、何ら制限されない
が、一般的には２〜７時間である。
２０℃である＠ 反応時間は種々の条件によシ変わシ、何ら制限されない
が、一般的には２〜７時間である。
かかる反応によシ、４−ヒドロキシ−２−シクロベンテ
ノンと光学活性ヒドロキンラクトン類との縮合物である
ジアステレオマーが好収率、高純度で得られる◇ かくして得られたジアステレオマーカラ、一般式（１）
で示される光学活性ンクロベンテノン銹導体を分離する
方法としては、蒸留法、晶析法、クロマトグラフィー法
などが適用されるが、適当な溶媒を用いたシリカゲルカ
ラムクロマトグツフィー、ドフイカラムクロマトグラフ
ィー、アルミナカラムクロマトグラフィー、液体クロマ
トグラフィーなどのクロマトグツフィー法が好ましく、
特に回収率の面からカラムクロマトグツフィーが好まし
い◇ この分離方法において、留出溶媒としては特に制限され
ないが、通常、トルエン、ベンゼン。
ノンと光学活性ヒドロキンラクトン類との縮合物である
ジアステレオマーが好収率、高純度で得られる◇ かくして得られたジアステレオマーカラ、一般式（１）
で示される光学活性ンクロベンテノン銹導体を分離する
方法としては、蒸留法、晶析法、クロマトグラフィー法
などが適用されるが、適当な溶媒を用いたシリカゲルカ
ラムクロマトグツフィー、ドフイカラムクロマトグラフ
ィー、アルミナカラムクロマトグラフィー、液体クロマ
トグラフィーなどのクロマトグツフィー法が好ましく、
特に回収率の面からカラムクロマトグツフィーが好まし
い◇ この分離方法において、留出溶媒としては特に制限され
ないが、通常、トルエン、ベンゼン。
酢酸エチル、ジクロルメタン、クロロホルム。
ヘキサン、イソプロピルエーテル、アセトン等の有機溶
媒の単独もしくは２種以上の混合物が用いられる。
媒の単独もしくは２種以上の混合物が用いられる。
仁のような分離によって、一般式（Ｉ）で示される光学
活性シクロベンテノン誘導体が容易に収率よ〈得られる
。
活性シクロベンテノン誘導体が容易に収率よ〈得られる
。
かくして分離された一般式（１＞で示される光学活性シ
クロベンテノン誘導体の加水分解は、通常、中性もしく
は酸性条件下に行われる。
クロベンテノン誘導体の加水分解は、通常、中性もしく
は酸性条件下に行われる。
酸性条件下で加水分解する場合、通常アセタール結合の
切断に用いられる酸剤を使用することができ、かかる酸
剤としてたとえばバフトルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸、
ンユウ酸、ホウ酸、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、過塩素
酸などの有機酸、無機酸があげられる〇 加水分解反応において水は必須であシ、反応溶媒として
は通常水または水と水可溶性有機溶ｇ（たとえばジオキ
サン、テトラにドロフフン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、メタノ−μ、エタノ−μ、アセト
ン）との混合溶媒が使用される・ 反応溶媒の使用量は、反応原料でおる光学活性シクロベ
ンテノン誘導体に対して通常１〜８０倍重量であるが、
光学活性ククｐベンテノン誘導体と等モ／Ｉ／ｉ＃以上
の水が存在することが必要である。
切断に用いられる酸剤を使用することができ、かかる酸
剤としてたとえばバフトルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、カンファースルホン酸、
ンユウ酸、ホウ酸、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、過塩素
酸などの有機酸、無機酸があげられる〇 加水分解反応において水は必須であシ、反応溶媒として
は通常水または水と水可溶性有機溶ｇ（たとえばジオキ
サン、テトラにドロフフン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホルムアミド、メタノ−μ、エタノ−μ、アセト
ン）との混合溶媒が使用される・ 反応溶媒の使用量は、反応原料でおる光学活性シクロベ
ンテノン誘導体に対して通常１〜８０倍重量であるが、
光学活性ククｐベンテノン誘導体と等モ／Ｉ／ｉ＃以上
の水が存在することが必要である。
反応温度は一１０〜１２０℃、好ましくは一５〜１００
℃の範囲であシ、反応時間には特に制限され表いＯ かかる方法によシ、光学活性４−ヒトルキシー２−シク
ロベンテノンが好収率で得られるが、反応混合物からＯ
単離は濃縮、抽出、分液、蒸留あるいはクロマトグラフ
ィーなどの通常の方法により行うととができる。
℃の範囲であシ、反応時間には特に制限され表いＯ かかる方法によシ、光学活性４−ヒトルキシー２−シク
ロベンテノンが好収率で得られるが、反応混合物からＯ
単離は濃縮、抽出、分液、蒸留あるいはクロマトグラフ
ィーなどの通常の方法により行うととができる。
かくして、本発明の方法によれば光学活性な４−ヒドロ
キシ−２−シクロベンテノンを工業的に容易に、好収率
で得ることができる０以下、実施例によシ本発明を説明
するＯ実施例１ 攪拌装置、温度計および共沸脱水装置を装置ｔ、た４ツ
ロフフスコに、４−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン
２．９４Ｆ（８０ミリモ／Ｉ／）、ｊ−（８ｍ８．６ａ
Ｒ）へキサヒドロ−６−ヒドロキシ−１，８−ビス（フ
ェニルメチ１ｖ）−ＩＨ−フロ（８，４−ｄ）イミダゾ
−１Ｌ／−２，４−ジオン（ＩＩ−ａ）６．７６Ｆ（２
０ミリ七ルχバフト〜エンス〃ホン酸ｏ、ｏｓｒおよび
ベンゼン４０ｗｊを仕込み、昇温しで還流させるＯ生成
する水を共沸にて反応系外へ取シ出しながら４時間反応
させる０反応終了後、反応混合物を５９６重ソウ水およ
び水にて順次洗浄後、有機層を減圧下に濃縮し、粗油状
物を得るＯ 次に、上記混合物を酢酸エチ／Ｌ／：ヘキサン＝８ニア
の混合溶液を用い、シリカゲルカラムクロマトグツフィ
ーにて精製する０ この分曙操作によシジアステレオマーがそれぞれ得られ
る。それぞれのジアステレオマーは適宜再結晶してＭ’
Ｍされるｏ （８ａＳ、６ａＲ）−へキサヒドロ−６−
（１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペンテ＝μオキシ
）−１、８−ビス（フェニルメチ／Ｉ／）−１Ｈ・フロ
（８，４−ｄ）イ、ダシー／Ｌ’−２，４−ジオン（Ｉ
−ａ）収量 ２．９２Ｆ ｎｏ １．５２０４ ２−Ｖクロベンテニμオキシ）−１、８−１’ス（７エ
＝ｐ）チｙｖ ） −１Ｈ−７ａ（８，４−ｄ）イミダ
ゾール−２，４−ジオン（１−ｂ）収量 ２．９６Ｆ ｍ、ｐ、 １１９〜１２１℃（ヘキサン：酢酸メチ
／ｌ／■１：１の混 合溶液よシ再結晶） α）１０＋８６．２ （Ｃ＝１ 、メタノ−１Ｌ／）上
記で得た〔Ｘ−ａ）２．５ｔをジオキサン１０ｍＪ、
０．５ ＊ ＨＣｊ水２．５ ｍｊとともに５０〜６０
℃にて４時間加熱攪拌する。
キシ−２−シクロベンテノンを工業的に容易に、好収率
で得ることができる０以下、実施例によシ本発明を説明
するＯ実施例１ 攪拌装置、温度計および共沸脱水装置を装置ｔ、た４ツ
ロフフスコに、４−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン
２．９４Ｆ（８０ミリモ／Ｉ／）、ｊ−（８ｍ８．６ａ
Ｒ）へキサヒドロ−６−ヒドロキシ−１，８−ビス（フ
ェニルメチ１ｖ）−ＩＨ−フロ（８，４−ｄ）イミダゾ
−１Ｌ／−２，４−ジオン（ＩＩ−ａ）６．７６Ｆ（２
０ミリ七ルχバフト〜エンス〃ホン酸ｏ、ｏｓｒおよび
ベンゼン４０ｗｊを仕込み、昇温しで還流させるＯ生成
する水を共沸にて反応系外へ取シ出しながら４時間反応
させる０反応終了後、反応混合物を５９６重ソウ水およ
び水にて順次洗浄後、有機層を減圧下に濃縮し、粗油状
物を得るＯ 次に、上記混合物を酢酸エチ／Ｌ／：ヘキサン＝８ニア
の混合溶液を用い、シリカゲルカラムクロマトグツフィ
ーにて精製する０ この分曙操作によシジアステレオマーがそれぞれ得られ
る。それぞれのジアステレオマーは適宜再結晶してＭ’
Ｍされるｏ （８ａＳ、６ａＲ）−へキサヒドロ−６−
（１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペンテ＝μオキシ
）−１、８−ビス（フェニルメチ／Ｉ／）−１Ｈ・フロ
（８，４−ｄ）イ、ダシー／Ｌ’−２，４−ジオン（Ｉ
−ａ）収量 ２．９２Ｆ ｎｏ １．５２０４ ２−Ｖクロベンテニμオキシ）−１、８−１’ス（７エ
＝ｐ）チｙｖ ） −１Ｈ−７ａ（８，４−ｄ）イミダ
ゾール−２，４−ジオン（１−ｂ）収量 ２．９６Ｆ ｍ、ｐ、 １１９〜１２１℃（ヘキサン：酢酸メチ
／ｌ／■１：１の混 合溶液よシ再結晶） α）１０＋８６．２ （Ｃ＝１ 、メタノ−１Ｌ／）上
記で得た〔Ｘ−ａ）２．５ｔをジオキサン１０ｍＪ、
０．５ ＊ ＨＣｊ水２．５ ｍｊとともに５０〜６０
℃にて４時間加熱攪拌する。
反応終了後、反応液を飽和重曹水にて中和し、減圧下で
ジオキサンを留去する〇 濃縮残渣をメチルイソブチルケトン２５ｍｊにて抽出す
る０抽出油層をｆｆ１ａｔ、、カフムクロマトグラフィ
ーにて精製（トルエン／酢酸エチル−５／８ ’） し
て４（Ｓ）−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４
８ ｆを得り。
ジオキサンを留去する〇 濃縮残渣をメチルイソブチルケトン２５ｍｊにて抽出す
る０抽出油層をｆｆ１ａｔ、、カフムクロマトグラフィ
ーにて精製（トルエン／酢酸エチル−５／８ ’） し
て４（Ｓ）−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４
８ ｆを得り。
α）” −９８，８（Ｃり１．メタノ−／ｌ／）
ｎ：’ １．５０２９ 尚、ヒドロキシラクトンの回収は１．９２Ｆであった０
別途、（１−ｂ）２．５ｒをメタノール１０ｍ！、０．
５％ＨＣＪ水２．５ｍＪとともに５０〜６０℃にて８時
間加熱攪拌する。
ｎ：’ １．５０２９ 尚、ヒドロキシラクトンの回収は１．９２Ｆであった０
別途、（１−ｂ）２．５ｒをメタノール１０ｍ！、０．
５％ＨＣＪ水２．５ｍＪとともに５０〜６０℃にて８時
間加熱攪拌する。
以下、先の（Ｉ−ａｌの場合に準じて後処理、精製して
４（８）−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４９
ｆを得た。
４（８）−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４９
ｆを得た。
α）” ＋９８８ （Ｃ＝１．メタノールつｎ
；’ １．５０８０ 尚、この場合のヒドロキンツクトンの回収は１．９８？
であった。
；’ １．５０８０ 尚、この場合のヒドロキンツクトンの回収は１．９８？
であった。
実施例２
実施例１で用いたと同様の装置に、４−ヒドロキシ−２
−シクロベンテノン３．９２ｆ（４０ミリモ／’）、（
３ａＲ＊６ａ８）−ヘキサヒドロ−６−ヒドロキシ−１
，８−ビス（フェニルメチ／Ｉ／）−１Ｈ−フロ（８，
４−ｄ）イミダゾ−ｆｉ／−２，４−ジオン（ｍ−ｂ）
６．７６Ｆ、バラトルエンスルホン酸ピリジン塩１ｆお
よびトルエン４０ｍＪを仕込み、減圧下８０〜９０℃に
て共沸脱水する０反応時間は６時間を要する０反応終了
後、反応混合物を、水、６％重ソウ水、水にて順次洗浄
する。
−シクロベンテノン３．９２ｆ（４０ミリモ／’）、（
３ａＲ＊６ａ８）−ヘキサヒドロ−６−ヒドロキシ−１
，８−ビス（フェニルメチ／Ｉ／）−１Ｈ−フロ（８，
４−ｄ）イミダゾ−ｆｉ／−２，４−ジオン（ｍ−ｂ）
６．７６Ｆ、バラトルエンスルホン酸ピリジン塩１ｆお
よびトルエン４０ｍＪを仕込み、減圧下８０〜９０℃に
て共沸脱水する０反応時間は６時間を要する０反応終了
後、反応混合物を、水、６％重ソウ水、水にて順次洗浄
する。
得られる有機層は減圧下に濃縮し、粗油状物を得る。
次に上記混合物を酢酸エナ／Ｓ／：ヘキサン＝８＝７の
混合溶液を用い、シリカゲルカフムクロマトグラフィー
にて精製する〇 この分離操作によシジアステレオマーがそれぞれ得られ
る０それぞれのジアステレオマーは適宜、再結晶して精
製される。
混合溶液を用い、シリカゲルカフムクロマトグラフィー
にて精製する〇 この分離操作によシジアステレオマーがそれぞれ得られ
る０それぞれのジアステレオマーは適宜、再結晶して精
製される。
（８ａＲ，６ａＳ）−へキサヒドロ−６−（ｌ（Ｒ）−
４−オキソ−２−シクロベンテニ！オキン〕−１，８−
ビス（フェニルメチ／Ｌ／）−１Ｈ−プロ［８，４−ｄ
］イミダゾ−／Ｌ’−２，４−ジオン（Ｉ−〇） 収Ｊｉ ２．８９ｆ ｎ８° １．５２１６ α兄’ ＋４８．８ （Ｃ＝１．メタノール
つ（ａａＲ，５ａｓ）−へキサヒドロ−６−〔１（Ｓ）
−４−オキソ−２−シクロベンテニルオキシ）−１，８
−ビス（フェニルメチμ）−１１！−フロ（８，４−ｄ
）イミダゾ−／Ｉ／ −２１！１４−ジオン（Ｉ−ｄ
） 収量 ２．９１Ｆ 九ｐ、 １２１〜８℃（ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１の混合溶液よシ再結晶） α）８° −９ｏ、１° （Ｃ−１，メタノ−／Ｌ
／）上記で得たＣＩ−Ｃ１０，５Ｆをテトフヒドロップ
ン１２゜５ｍ！、水５ｍノおよびバラトルエンス／Ｉ／
小ン酸０．ＩＰとともに５０〜６０℃にて４時間加熱攪
拌する◇ 反応終了後、実施例１に準じて後処理、精ｌｕして４＠
）−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４６Ｆを得
る◇ α）” ＋９４．２ （Ｃ＝１．メタノールつ
ヒドロキシラクトンの回収は１．９４Ｆであった０ 別途、ＣＩ−ｄ）２．５Ｆをジオキサン１０ｍｊ。
４−オキソ−２−シクロベンテニ！オキン〕−１，８−
ビス（フェニルメチ／Ｌ／）−１Ｈ−プロ［８，４−ｄ
］イミダゾ−／Ｌ’−２，４−ジオン（Ｉ−〇） 収Ｊｉ ２．８９ｆ ｎ８° １．５２１６ α兄’ ＋４８．８ （Ｃ＝１．メタノール
つ（ａａＲ，５ａｓ）−へキサヒドロ−６−〔１（Ｓ）
−４−オキソ−２−シクロベンテニルオキシ）−１，８
−ビス（フェニルメチμ）−１１！−フロ（８，４−ｄ
）イミダゾ−／Ｉ／ −２１！１４−ジオン（Ｉ−ｄ
） 収量 ２．９１Ｆ 九ｐ、 １２１〜８℃（ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１の混合溶液よシ再結晶） α）８° −９ｏ、１° （Ｃ−１，メタノ−／Ｌ
／）上記で得たＣＩ−Ｃ１０，５Ｆをテトフヒドロップ
ン１２゜５ｍ！、水５ｍノおよびバラトルエンス／Ｉ／
小ン酸０．ＩＰとともに５０〜６０℃にて４時間加熱攪
拌する◇ 反応終了後、実施例１に準じて後処理、精ｌｕして４＠
）−ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４６Ｆを得
る◇ α）” ＋９４．２ （Ｃ＝１．メタノールつ
ヒドロキシラクトンの回収は１．９４Ｆであった０ 別途、ＣＩ−ｄ）２．５Ｆをジオキサン１０ｍｊ。
０．５優ＨＣＪ水２．５ｍＪとともに５０〜６０℃にて
８時間加熱攪拌する＠ 以下、実施例１に準じて後処理、Ｍ製して４ （Ｓ）−
ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４８ｆ１）得た
。
８時間加熱攪拌する＠ 以下、実施例１に準じて後処理、Ｍ製して４ （Ｓ）−
ヒドロキシ−２−シクロベンテノン０．４８ｆ１）得た
。
α〕二’ −９８，６（Ｃ−１，メタノール０弓
’ １．５０８５ ヒドロキシラクトンの回収は１．９１ＦであったＯ
’ １．５０８５ ヒドロキシラクトンの回収は１．９１ＦであったＯ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１はアルキル基またはベンジル基を、※印
は不斉炭素原子を示し、３ａ、６ａはシス配位を示す。 ） で示される光学活性ヒドロキシラクトン類を脱水触媒の
存在下に反応させて、縮合体をジアステレオマーとして
得、次いでこれを分離して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は前記と同じ意味であり、※印は不斉炭
素原子を示し、３ａ、６ａはシス配位を示す。） で示される光学活性シクロペンテノン誘導体を単離し、
加水分解することを特徴とする光学活性４−ヒドロキシ
−２−シクロペンテノンの製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14201485A JPS624242A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14201485A JPS624242A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624242A true JPS624242A (ja) | 1987-01-10 |
| JPH0529019B2 JPH0529019B2 (ja) | 1993-04-28 |
Family
ID=15305364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14201485A Granted JPS624242A (ja) | 1985-06-27 | 1985-06-27 | 光学活性４−ヒドロキシ−２−シクロペンテノンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624242A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01290635A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学分割方法 |
-
1985
- 1985-06-27 JP JP14201485A patent/JPS624242A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01290635A (ja) * | 1988-05-18 | 1989-11-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学分割方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0529019B2 (ja) | 1993-04-28 |
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