JPS624272A - ５−置換チオピラゾ−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は１−アルキル−５−クロル−４−カルボキシ−
５−置換チオピラゾール誘導体に関する。

更に詳しくは２本発明は一般式（１）：〔式中Ｒ１は低
級アルキル基’ＩＲ２は水素原子または低級アルキル基
を、Ｒ３は水素原子、低級アルキル基、ベンジル基、ア
ルカリ金属原子また素原子または低級アルキル基を示す
。）を示曳〕で表される１−アルキル−３−クロル−４
−カルボキシ−５−置換チオピラゾール誘導体に関する
。

１−アルキル−３−クロル−４−カルボキシ−５−置換
チオピラゾール誘導体は医薬、農薬等の中間体として有
用である。たとえば特願昭５９−５５１２６号明細書に
記載の除草剤の中間体として有用である。

すなわちヨーロッパ特許公開８７７８０号公報、特開昭
５９−１２２４８８号公報等に記載の方法を参考にして
ピラゾールスルホンアミド誘導体（９）に誘導する。

（１）（傾 〔式中Ｒ’、Ｒ２およびＲ５は前記と同じ意味を示曳〕
スルホンアミド誘導体（６）は、さらに前記特許出願明
細書（特願昭５９−５５１２６号）に記載された方法に
従って目的とする除草剤の有効成分化合物に誘導するこ
とができる。

従来の技術 １）４−カルボキシ−５−置換チオビラゾール誘導体の
製法として従来以下の方法が知られている。

売５ （特開昭５９−１２２４８８号公報　参照）（ペテロサ
イクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ）、　　６巻。

１８６５ページ、１９７７年参照） （特開昭５５−９０６２号公報　参照）（ヒエミ　ベリ
ヒテ（Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ　Ｂｅｒｉｃｈｔｅ　）ｔ　
　１１４巻２４５０ページ　１９８１年参照） （以上ケミカル・アブストラクッ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　
Ａｂｓｔｒｕ−ｃｔｓ）、８６巻、１８９７９１Ｙ１９
７６年参照）以上から４−カルボキシ−３−ｔＲ換ｆオ
ピラゾール銹導体におけるもう一つのピラゾール環炭素
（ピラゾール環３位）上の置換基は。

水素原子、アルキル基、カルボン酸エステ名アミン基な
どであり、塩素原子等のハロゲン原子の導入された本発
明化合物（Ｉ）は文献未記載の新規化合物であることが
わかる。

一方上記（１）〜（５〕の従来の技術を参考にして本発
明化合物（２）　＊合成することも以下に示す理由から
困難である。

上記反応式（１）においては、原料として〔式中Ｒ’、
Ｒ２は前記と同じ意味を示す。Ｊが必要になるが２文献
未記載の新規化合物であシ入手が困難である。

上記反応式（２）、　（３）においては２反応式かられ
かるようにピラゾール環３位の置換基が水素原子または
アルキル基に限定されるものである。従って、ピラゾー
ル環６位にハロゲンの導入された本発明化合物（Ｉ）の
合成には応用することができない。

上記反応式（４）の反応においては １）収率が必ずしも良好でない反応である。

２）この反応を参考にして（Ｉ）　ｔｌ−合成する場合
原料としてアセチレンジカルボン酸エステルの代わυに
ＣノＣ三Ｃ−Ｃｏ□ＣＨＳの利用が考えられるがその反
応性及び異性体の生成については不明である。

ｓ）ｃ、ｔｃヨＣＣｏ２ＣＨ，は高価かつ、非工業的な
（ヒエミ　ベリヒチ（Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ　Ｂｅｒｉｃ
ｈｔｅ　）　９２巻。

１９５０ページ、１９５９年） 高価な試薬（ＣＨ，Ｌｉ　）、特殊な反応条件（反応温
度−８０℃）が必要であシ、一般的な工業材料として利
用できるものではない。

以上から上記反応式（４）も本発明化合物（Ｉ）’を合
成する為の好ましい方法とはいえない。

ＩＩ）　　一方ビラゾールスルホンアミド誘導体（］Ｉ
Ｉの製法としては特願昭５９−５５１２６号明細書に於
て以下の方法が記載されている。

ＣＨ。

本合成法の特徴は １）高価なリチウムジイソプロピルアミド等のリチオ化
試薬金用いる必要がある。

２）反応条件として、極端な低温（−６０℃）条件で行
われること。（工業的には設備、操作、及びエネルギー
コスト面で不利である）等の問題点がある。

リチオ化試薬は高価な為、工業原料特に農薬製造の試薬
としてはほとんど用いられていないのが現状であシ、ま
念低温反応を行う場合は一般の反応設備では不可能なこ
とから２例えば大型冷凍機等の新しい設備や、低温にす
る為のエネルギー面あるいは反応制御の操作面等の問題
が発生してぐる。

以上の理由から９本方法も実験室の製法としてはともか
く、工業的に安価にピラゾールスルホンアミド誘導体（
６）を得る為の方法とは言えない。

発明が解決しようと　る問題点 本発明の目的は容易で、かつ工業的なピラゾールスルホ
ンアミド誘導体（匂を得る為の新規な合成ルート金提供
することにある。

本発明化合物は一般式（ｚ）二 〔式中Ｒ’、Ｒ’およびＲ５は前記と同じ意味を示す。

〕 で表される化合物であｐ２本発明化合物を用いれはピラ
ゾールスルホンアミド誘導体（ｎ）への誘導は非常に容
易である。

しかしながらピラゾール環の３位に塩素原子。

４位にカルボキシ基、および５位に置換チオ基をもつ本
発明化合物（１）の合成は、前記の従来技術を参考にし
て達成することは困難であシ、今回従来の方法によらな
い新しい合成方法が必要になった。

また同時に前記の特願昭５９−５５１２６号明細書のよ
うな高価なリチオ化試薬及び低温での反応条件を用いな
い工業的で安価な製造法であることが必要である。

以上から工業的にも安価でかつ容易にピラゾールスルホ
ンアミド誘導体位）に誘導できる新しい中間体の供給が
必要となった。

問題点を解決する為の手段及び発明の１一本発明者らは
一般式（２）： 〔式中Ｒ１は低級アルキル基、Ｒ２は水素原子または低
級アルキル基を示す。〕 で表されるジ・・ロゲノビラゾール誘導体を、エタノー
ル、ジメチルホルムアミド、ジオキサン等の不活性溶媒
中水硫化ナトリウム、ナトリウムジスルフィド、アルキ
ルメルカプタン、ベンジルメルカプタン等の硫黄化合物
と、必要な場合は水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム
、ナトリウムアルコラード、トリエチルアミン等の塩基
の存在下反応させることにより 一般式（１）： 〔式中Ｂ　１　、　Ｂ　２およびＲ３は前記と同じ意味
を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体の得られることを見い出し
た。ここで一般式（Ｉ）で表される本発明化合物は文献
未記載の新規化合物であシ、ま友本発明化合物金用いる
ことによって特願昭５９−５５１２６号明細書に記載の
除草剤が高収率でしかも高品質に得られることを見い出
し本発明を完成させた。

反応溶媒としては前記の他に、メタノール。

テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミド。

トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド等。

硫黄化合物としては前記の他に、水硫化カリウム、硫化
ナトリウム等、塩基としては前記の他に水酸化カリウム
、ナトリウムアルコラード。

金属ナトリウム、ピリジン等を用いることもできる。反
応温度は室温から溶媒の還流温度の範囲で行われる。

また本発明化合物（Ｉ）の合成にあたって、５位の塩素
原子の置換した以下に記す構造の異性体化合物 ■ 〔式中Ｒ＋　、　Ｒ２およびＲｓは前記と同じ意味を示
曳〕の生成は認められず２選択性の高い反応であること
も判明した。

なお原料として用いられるジハロゲノピラゾール誘導体
（２）も新規化合物であるが以下の反応式により容易に
合成することができる。（以下の参考例＋、２．５参照
） 〔式中Ｒ’、Ｒ２は前記と同じ意味を示す。〕発明の効
果 （１）　　医農薬中間体として有用な新規ピラゾール誘
導体α）が得られる。

（２）本発明化合物（Ｉ）を用いることにより、容易に
しかも高収率にピラゾールスルホンアミド誘導体（Ｉ［
）が得られる。

（３）　　前記の特願昭５９−５５１２６号明細書記載
の方法に比べて、高価なリチオ化試薬、特殊な反応条件
（反応温度−６０℃）が不要になる。すなわち従来法に
比較して、工業的かつ、よシ安価な合成法になる。

実施例１ ５−クロロ−４−エトキシカルボニル−５−メルカプト
−１−メチルピラゾールの合成３．５−ジクロロ−４−
エトキシカルボニル−１−メチルピラゾール５．１？、
水硫化ナトリウＡ　４．６９　（約７０％含有）及びジ
メチルホルムアミド２０−の混合物を、８０℃にて、２
時間攪拌した。反応終了後、過剰量の氷水に注ぎ。

濃塩酸にて、酸性とし、析出し友結晶を戸数し。

乾燥すると、粗製の目的物５２を得た。得られた結晶を
ジイソプロピルエーテルにて洗浄すると、純粋な目的物
４．６９　’ｉ得た。

融点　６６〜６７℃（収率９１％〕 ルチオビラゾールの合成 上記１）−１において、水硫化ナトリウムの代わりにメ
チルメルカプタンナトリウム塩を用いｍこと以外は、　
＋）−＋に準じて、標記化合物４．８２を得た。収率８
９チ、融点４６〜４７℃実施例３ ５−ベンジルチオ−３−クロロ−４−エトキシカルボニ
ル−１−メチルピラゾールの合成上記１）−１において
、水硫化す）　ＩＪウムの代わりにベンジルメルカプタ
ンナトリウム塩を用いたこと以外はｔ　＋）−１に準じ
て、標記化合物６．２７を得た。収率８７％、融点５３
〜５４℃実施例４ ６−クロロ−４−メ）＊ジカルボニルー５−メルカプト
ー１−メチルピラゾールの合成 実施例１において、３．５−ジクロロ−４−エトキシカ
ルボニル−１−メチルピラゾールの代わりに、５．５−
ジクロロ−４−メトキシカルボニル−１−メチルピラゾ
ール６．５９ｆ用い友こと以外は、実施例１に準じて標
記目的化合物５．６２を得九。

融点８７〜８９℃　（収率９０％） 参考例１ ｓ、ｓ−シクロロー４−エトキシカルボニル−１−メチ
ルピラゾールの合成　　　　　　　　　　　　　（ミ ｓ、　ｓ　−シア亨ノー４−エトキシカルボニル−１−
メチルピラゾール８．８２を、濃塩酸１００ゴに溶解し
、亜硝酸ナトリウム８．８２の水溶液２０ｒＩＬｔを−
１５〜−２０℃にて滴下し、ジアゾ化した。°このジア
ゾニウム塩溶液を、硫酸銅・五水和物５６２．塩化ナト
リウム２８１及び水１００ゴの溶液に室温にて滴下した
。滴下後徐々に加温し、５０℃にて１５時間攪拌し、少
量の塩化第一銅を加え２反応を完結させ友。反応混合物
に、過剰量の水を加え、クロロホルムにて抽出し、水洗
、乾燥後、溶媒を減圧留去すると、粗製の目的物１０２
を得友。析出した結晶をジイソプロピルエーテルにて洗
浄することにより、純粋な目的物７．９　ｒを得た。

融点６６〜６７℃　（収率７４％） 参考例２ ｓ、５−シクロロー４−エトキシカルボニル−１−メチ
ルピラゾールの合成（別法） １）３．５−ジクロロ−４−エトキシカルボニルピラゾ
ールの合成 ５．５−ジアミノ−４−エトキシカルボニルピラゾール
２２．７　？を濃塩酸４００−に溶解し、亜硝酸す）　
ＩＪウム２４７の５〇−水溶液を一１０〜０℃にて滴下
し、ジアゾ化した。

このジアゾニウム塩溶液を、硫酸銅五水和物１６７ｆ、
塩化ナトリウム１２８ｆ及び水６９０ゴの溶液に室温に
て滴下した。滴下後徐々に加温し、５０℃にて１．５時
間攪拌し。

少量の塩化第一銅を加え２反応を完結させ友。

反応混合物に、過剰量の水を加え、クロロホルムにて抽
出し、水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去すると、粗製の目
的物２６．７　ｆ　′ｔ−結晶として得た。得られた結
晶をジインプロピルエーテルにて洗浄することにより、
純粋な目的物２五２１を得友。

融点１１１〜１１２℃　（収率８３％）１１）　　３．
５−ジクロロ−４−エトキシカルボニル−１＝メチルピ
ラゾールの合成 水素化ナトリウム（５５％含有）２．６２をテトラヒド
ロフラン５０ｒｎｔＫ懸濁し、！１．５−シクロロー４
−エトキシカルボニル−ピラゾール１０２のテトラヒド
ロフラン溶液３０ゴ全１０℃にて滴下した。室温攪拌３
０分後。

ヨウ化メチル７、７９を、室温にて滴下し、加熱還流下
、ｔ５時間攪拌した。反応後、水冷下、氷水を加え、濃
塩酸にて中和後有機層を分離し、水層はジエチルエーテ
ルにて抽出した。有機層を合わせ、水洗、乾燥し、溶媒
を減圧留去すると粗製の目的物１＠２を結晶と得た。融
点６６〜６７°Ｃ（収率９５％）参考例３ ５．５−ジクロロ−４−メトキシカルボニル−１−メチ
ルピラゾールの合成 参考例１において、３．５−ジアミノ−４−エトキシカ
ルボニル−１−メチルピラゾールの代わυに、３，５−
ジアミノ−４−メトキシカルボニル−１−メチルピラゾ
ール８．５２を用いること以外は、参考例１に準じて標
記化合物７．４９を合成した。融点５８〜５９°Ｃ（収
率７１％）参考例４ ６−クロロ−４−エトキシカルボニル−＋−メｆルビラ
ゾールー５−スルホンアミドの合成１）５−クロロ−５
−クロロスルホニル−４−エトキシカルボニル−１−メ
チルピラゾールの合成３−クロロ−４−エトキシカルボ
ニル−５−メルカプト−１−メチルピラゾール５．６２
を、酢酸４０ｒｎｔ及び水＋Ｏｍ／に懸濁し、激しく攪
拌しつつ１０〜１５℃にて塩素全５０分間吹込んだ。そ
の後、５℃にて１５分間攪拌し′念後、過剰量の氷水に
注ぎ、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を水洗、
乾燥し。

ロライド　　　−　　　　　　　の沸点は。

１５５９Ｃ／　０．２　ｍｍＨ？であった。

１ｔ）５−クロロ−４−エトキシカルボニル−１−メチ
ルピラゾール−５−スルホンアミドの合成前記１）で得
られた６−クロロ−５−クロロスルホニル−４−エトキ
シカルボニル−１−メチルピラゾール６、９　ｆ　ｆ二
塩化エタ／７〇−にて溶解し、炭酸アンモニウム４．　
Ｉ　？　ｆ室湛にて加えた。室温にて一夜攪拌後固体を
戸別し炉液を濃縮することにより、精製の目的物を結晶
として得た。得られた結晶をジイソプロピルエーテルに
て洗浄すると純粋な目的物５．５ｙを得た。融点１２１
〜１２３℃。

（１）→Ｉｔ）の年収率８１％） 参考例５ ５−クロロ−４−エトキシカルボニル−１−メチルピラ
ゾール−５−スルホンアミドの合成（別法）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ｒ＾１は低級アルキル基を、Ｒ＾２は水素原子ま
   たは低級アルキル基を、Ｒ＾３は水素原子、低級アルキ
   ル基、ベンジル基、アルカリ金属原子、または▲数式、
   化学式、表等があります▼（Ｒ＾１は低級アルキル基、
   Ｒ＾２は水素原子または低級アルキル基を示す。）を示
   す。〕で表される５−置換チオピラゾール誘導体。