JPS6242952A - サリチル酸フエニルエステル誘導体 - Google Patents
サリチル酸フエニルエステル誘導体Info
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- JPS6242952A JPS6242952A JP18243785A JP18243785A JPS6242952A JP S6242952 A JPS6242952 A JP S6242952A JP 18243785 A JP18243785 A JP 18243785A JP 18243785 A JP18243785 A JP 18243785A JP S6242952 A JPS6242952 A JP S6242952A
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- Japan
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- phenyloxycarbonyl
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- product
- salicylic acid
- ester derivative
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規でかつ有用な化合物、特にレンズ素材に使
用される高屈折率樹脂のための改質モノマーとして有用
な化合物に関する。
用される高屈折率樹脂のための改質モノマーとして有用
な化合物に関する。
無機ガラスに代わるレンズ素材として合成樹脂が使用さ
れるようになって久しいが、眼鏡レンズ用としては、主
としてジエチレングリコールビス(アリルカーボネート
)というラジカル重合性モノマー(以下、CR−39と
略称する)を重合した樹脂が使用されている。しかしな
がら、このCR−39樹脂は、透明性、染色性、機械的
性質などは良好であるが、屈折率が1.49とレンズ用
ガラスの1.53に比べ低く、そのため近視用の凹レン
ズに成形した場合、同じ度数で比べるとガラスレンズに
比べ縁厚が厚くなる欠点があった。合成樹脂レンズが眼
鏡装用者に不評な理由の最大のものは、この縁厚の問題
である。
れるようになって久しいが、眼鏡レンズ用としては、主
としてジエチレングリコールビス(アリルカーボネート
)というラジカル重合性モノマー(以下、CR−39と
略称する)を重合した樹脂が使用されている。しかしな
がら、このCR−39樹脂は、透明性、染色性、機械的
性質などは良好であるが、屈折率が1.49とレンズ用
ガラスの1.53に比べ低く、そのため近視用の凹レン
ズに成形した場合、同じ度数で比べるとガラスレンズに
比べ縁厚が厚くなる欠点があった。合成樹脂レンズが眼
鏡装用者に不評な理由の最大のものは、この縁厚の問題
である。
従来、屈折率の高い無色透明樹脂として最も汎剛的なも
のはポリスチレンであるが、ポリスチレンは耐衝撃性が
劣るという欠点があり、眼鏡レンズには使用されζいな
い。
のはポリスチレンであるが、ポリスチレンは耐衝撃性が
劣るという欠点があり、眼鏡レンズには使用されζいな
い。
一般に屈折率を高めるためには分子構造中にベンゼン環
の導4人が有効であるが、ベンゼン環の導入は樹脂を脆
くする傾向があり、従って高屈折率で耐衝撃性に優れレ
ンズ素+1として有用な合成樹脂の出現が望まれていた
。
の導4人が有効であるが、ベンゼン環の導入は樹脂を脆
くする傾向があり、従って高屈折率で耐衝撃性に優れレ
ンズ素+1として有用な合成樹脂の出現が望まれていた
。
本発明者らは、高屈折率で耐衝撃性に優れレンズ素材と
して有用な合成樹脂を入手すべく鋭意研究した結果、偶
然にも以下に一般式(1)で示す化合物が、ポリスチレ
ンのように高屈折率ではあるが耐衝撃性に劣る樹脂の改
質モノマーとして有用であることを見い出し、本発明を
成すに至った。
して有用な合成樹脂を入手すべく鋭意研究した結果、偶
然にも以下に一般式(1)で示す化合物が、ポリスチレ
ンのように高屈折率ではあるが耐衝撃性に劣る樹脂の改
質モノマーとして有用であることを見い出し、本発明を
成すに至った。
即ち、本発明は一般式(I):
で表されるザリチル酸フェニルエステル誘導体を提供す
る。
る。
但し、ト記一般弐(I)に於いて、R5ばH又はCH3
基であり、XはBr、Cp又はIから選択されるハロゲ
ン原子であり、nは0〜・1の整数であり、R7ばフェ
ニル暴である。
基であり、XはBr、Cp又はIから選択されるハロゲ
ン原子であり、nは0〜・1の整数であり、R7ばフェ
ニル暴である。
ここで一般式(1)に含まれる具体的な化合物の代表例
を挙げれば次の通りである。
を挙げれば次の通りである。
1−フェニルオキシ力ルホニルー2−アクリロイルオキ
シヘンゼン; 5−クロロ−1−フェニルオギシ力ルボニルー2−アク
リロイルオキシベンゼン; 3.5−ジクロロ−1−フェニルオキシカルボニル−2
−アクリロイルオキシベンゼン; 3.4,5.6−テトラクロロ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−アクリロイルオキシベンゼン;5−ブロ
モ−1−フェニルオキシカルボニル−2=アクリロイル
オキシベンゼン; 3.5−ジブロモ−1−フェニルオキシカルボニル−2
−アクリロイルオキシベンゼン; 3.4.5.6−テトラブロモ−1−フェニルオギシカ
ルポニルー2−アクリロイルオキシヘンゼン;3.5−
ショート−1−フェニルオキシカルボニル−2−アクリ
ロイルオキシベンゼン; ■−フェニルオキシカルボニルー2−メタクリロイルオ
キシベンゼン; 5−クロロ−1−フェニルオキシカルボニル−2−メタ
クリロイルオキシベンゼン; 3.5−ジクロロ−1−ツユニルオキシ力ルポニルー2
−メタクリロイルオキシベンゼン;3.4,5.6−−
テトラクロロ−1−フェニルオキシカルボニル−2−メ
タクリロイルオキシベンゼン;5−フ゛ロモー1−フェ
ニルオキシカルボニル−−メタクリロイルオキシベンゼ
ン; 3、5−ジブはモー1−フェニルオキシカルボニル−2
−メタクリロイルオキシベンゼン;3、4,5.6−テ
トラブロモ−1−フェニルオキシカ、l+/ ボニル−
2−メタクリロイルオギシベンゼン;3、5−ショート
−1−フェニルオキシカルボニル−2−メタクリロイル
オギシベンゼン;一般式(T)の化合物は、これまで文
献に報告がない新規な化合物であるが、これは例えば次
のような方法によって合成することができる。
シヘンゼン; 5−クロロ−1−フェニルオギシ力ルボニルー2−アク
リロイルオキシベンゼン; 3.5−ジクロロ−1−フェニルオキシカルボニル−2
−アクリロイルオキシベンゼン; 3.4,5.6−テトラクロロ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−アクリロイルオキシベンゼン;5−ブロ
モ−1−フェニルオキシカルボニル−2=アクリロイル
オキシベンゼン; 3.5−ジブロモ−1−フェニルオキシカルボニル−2
−アクリロイルオキシベンゼン; 3.4.5.6−テトラブロモ−1−フェニルオギシカ
ルポニルー2−アクリロイルオキシヘンゼン;3.5−
ショート−1−フェニルオキシカルボニル−2−アクリ
ロイルオキシベンゼン; ■−フェニルオキシカルボニルー2−メタクリロイルオ
キシベンゼン; 5−クロロ−1−フェニルオキシカルボニル−2−メタ
クリロイルオキシベンゼン; 3.5−ジクロロ−1−ツユニルオキシ力ルポニルー2
−メタクリロイルオキシベンゼン;3.4,5.6−−
テトラクロロ−1−フェニルオキシカルボニル−2−メ
タクリロイルオキシベンゼン;5−フ゛ロモー1−フェ
ニルオキシカルボニル−−メタクリロイルオキシベンゼ
ン; 3、5−ジブはモー1−フェニルオキシカルボニル−2
−メタクリロイルオキシベンゼン;3、4,5.6−テ
トラブロモ−1−フェニルオキシカ、l+/ ボニル−
2−メタクリロイルオギシベンゼン;3、5−ショート
−1−フェニルオキシカルボニル−2−メタクリロイル
オギシベンゼン;一般式(T)の化合物は、これまで文
献に報告がない新規な化合物であるが、これは例えば次
のような方法によって合成することができる。
一般式(■):
O
(但し、式中R2は上述と同じ意味である。)で表わさ
れる化合物■ (サリチル酸のエステル)をハロゲン化
して、一般式(■)ニ (但し、式中、R2、X及びnは上述の意味である。) で表わされる中間化合物■を合成し、この化合物■01
モルを一般式(■); cH.=cーcーx’ (式中、R1は上述の意味であり、Xo はハロゲン好
ましくは塩素である。) で表わされる化合物■の1モルと脱ハロゲン化水素反応
を行なわせると、最終目的物である一般式(T)の化合
物が得られる。
れる化合物■ (サリチル酸のエステル)をハロゲン化
して、一般式(■)ニ (但し、式中、R2、X及びnは上述の意味である。) で表わされる中間化合物■を合成し、この化合物■01
モルを一般式(■); cH.=cーcーx’ (式中、R1は上述の意味であり、Xo はハロゲン好
ましくは塩素である。) で表わされる化合物■の1モルと脱ハロゲン化水素反応
を行なわせると、最終目的物である一般式(T)の化合
物が得られる。
こうして得られる本発明にかかる一般式(1)の化合物
は、通常白色粉末として得られるが、末端にラジカル重
合性二重結合を有しており、単独で重合させると高屈折
率樹脂が得られるほか、他のラジカル重合性モノマーと
共重合させることもできる。本発明の化合物それ自体を
重合すると屈折率Nd=1.59以上の高屈折率樹脂を
与えるので、低屈折率樹脂の屈折率を高めるための改質
モノマーとしても有用である。
は、通常白色粉末として得られるが、末端にラジカル重
合性二重結合を有しており、単独で重合させると高屈折
率樹脂が得られるほか、他のラジカル重合性モノマーと
共重合させることもできる。本発明の化合物それ自体を
重合すると屈折率Nd=1.59以上の高屈折率樹脂を
与えるので、低屈折率樹脂の屈折率を高めるための改質
モノマーとしても有用である。
以下、本発明の実施例を示す。
(実施例1)
下記構造式を有する5−ブロモ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−メタクリロイルオキシベンゼン(以下B
I MPhSと称す)の合成:(1)下記構造式の中間
化合物■の合成:214、Ogのサリチル酸フェニルを
約500mlの1,4−ジオキサンに溶かし、室温で攪
拌しながら、1 6 0, O gの臭素をゆっくり滴
下した。滴下終了後、この溶液を室温で5時間、その後
、還流下で1時間反応させた。得られた混合液を十分に
冷却してから濃縮し、析出した結晶をクロロホルム−メ
タノール(1 : 4)混合溶媒で再結晶して、2 1
9. 8 gの生成物を得た。収率75%(2)最終
目的物の合成: 前項のl)の生成物136.9gを約250mlのテト
ラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却した。この溶液を
0℃に保持したまま5 3. 7 gのメタクリル酸ク
ロライド及び続いて2 1. 2 gの水酸化ナトリウ
ムを含む水溶液約70mlをゆっくり滴下し、そのまま
O ’Cで2時間反応させた。
ルボニル−2−メタクリロイルオキシベンゼン(以下B
I MPhSと称す)の合成:(1)下記構造式の中間
化合物■の合成:214、Ogのサリチル酸フェニルを
約500mlの1,4−ジオキサンに溶かし、室温で攪
拌しながら、1 6 0, O gの臭素をゆっくり滴
下した。滴下終了後、この溶液を室温で5時間、その後
、還流下で1時間反応させた。得られた混合液を十分に
冷却してから濃縮し、析出した結晶をクロロホルム−メ
タノール(1 : 4)混合溶媒で再結晶して、2 1
9. 8 gの生成物を得た。収率75%(2)最終
目的物の合成: 前項のl)の生成物136.9gを約250mlのテト
ラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却した。この溶液を
0℃に保持したまま5 3. 7 gのメタクリル酸ク
ロライド及び続いて2 1. 2 gの水酸化ナトリウ
ムを含む水溶液約70mlをゆっくり滴下し、そのまま
O ’Cで2時間反応させた。
反応生成物を静置すると、有機層と水層の2層に分離す
るので水層を除去し、有機層を濃縮した。
るので水層を除去し、有機層を濃縮した。
得られた濃縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下
し、生成した沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返
し、ろ別、乾燥させると、142.0gの白色粉末が得
られた。収率85% (3) 目的生成物の融点:85.8〜87.6℃(
4) 目的生成物の元素分析値: C I6.7 : H 12.8 : 0 3.8
: Br 1.1理論値:C17 :R13
:04 :Brl(5) 目的生成物のNMRチャ
ート:第1図(実施例2) 下記構造式を有する5−ブロモ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−アクリロイルオキシベンゼン(以下B、
APhSと称す)の合成:(1)最終目的物の合成: 実施例1の(1)項で合成した生成物74.8gを約1
4.0mlのテトラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却
した。この溶液をQ ’Cに保持したまま25;4gの
アクリル酸クロライド及び続いて11.6gの水酸化ナ
トリウムを含む水溶液約40m1をゆっくり滴下し、そ
のまま0℃で2時間反応させた。
し、生成した沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返
し、ろ別、乾燥させると、142.0gの白色粉末が得
られた。収率85% (3) 目的生成物の融点:85.8〜87.6℃(
4) 目的生成物の元素分析値: C I6.7 : H 12.8 : 0 3.8
: Br 1.1理論値:C17 :R13
:04 :Brl(5) 目的生成物のNMRチャ
ート:第1図(実施例2) 下記構造式を有する5−ブロモ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−アクリロイルオキシベンゼン(以下B、
APhSと称す)の合成:(1)最終目的物の合成: 実施例1の(1)項で合成した生成物74.8gを約1
4.0mlのテトラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却
した。この溶液をQ ’Cに保持したまま25;4gの
アクリル酸クロライド及び続いて11.6gの水酸化ナ
トリウムを含む水溶液約40m1をゆっくり滴下し、そ
のまま0℃で2時間反応させた。
反応生成物を静置すると、有機層と水層の2層に分離す
るので水層を除去し、有機層を濃縮した。
るので水層を除去し、有機層を濃縮した。
得られた濃縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下
し、生成した沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返
し、ろ別、乾燥させると、57.3gの白色粉末が得ら
れた。収率64% (2) 目的生成物の融点:119.O〜120.3
’c(3) 目的生成物の元素分析値; C16,2: H10,5: 03.9 : Br 1
.0理論値:C16:HI3 :04 +Br
1(4) 目的生成物のN M Rチャート:第2図
(実施例3) 下記構造式を有する3、5−ジブロモ−1−フェニルオ
キシカルボニル−2−アクリロイルオキシベンゼン(以
下B2APhSと称す)の合成:Br (1)下記構造式の中間化合物■の合成:Br 107、Ogのザリチル酸フェニルを約600m1のメ
タノールに溶かし、室温で攪拌しながら240、0 g
の臭素をゆっくりと滴下した。滴下終了後、還流下で6
時間反応させると白色固体が析出した。得られた反応混
合物を冷却後、析出物をろ別し、固形物をメタノールで
洗浄し、乾燥させると136.6gの生成物が得られた
。収率73%(2)最終目的物の合成: 前項(1)の生成物95.3 gを約150mβのテト
ラヒドロフランに溶解し、Q ’Cに冷却した。この溶
液をQ ’Cに保持したまま40.6 gのアクリル酸
クロライド及び続いて18.5 gの水酸化ナトリウム
を含む水溶液約70m1をゆっくり滴下し、そのまま0
℃で3時間反応させた。
し、生成した沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返
し、ろ別、乾燥させると、57.3gの白色粉末が得ら
れた。収率64% (2) 目的生成物の融点:119.O〜120.3
’c(3) 目的生成物の元素分析値; C16,2: H10,5: 03.9 : Br 1
.0理論値:C16:HI3 :04 +Br
1(4) 目的生成物のN M Rチャート:第2図
(実施例3) 下記構造式を有する3、5−ジブロモ−1−フェニルオ
キシカルボニル−2−アクリロイルオキシベンゼン(以
下B2APhSと称す)の合成:Br (1)下記構造式の中間化合物■の合成:Br 107、Ogのザリチル酸フェニルを約600m1のメ
タノールに溶かし、室温で攪拌しながら240、0 g
の臭素をゆっくりと滴下した。滴下終了後、還流下で6
時間反応させると白色固体が析出した。得られた反応混
合物を冷却後、析出物をろ別し、固形物をメタノールで
洗浄し、乾燥させると136.6gの生成物が得られた
。収率73%(2)最終目的物の合成: 前項(1)の生成物95.3 gを約150mβのテト
ラヒドロフランに溶解し、Q ’Cに冷却した。この溶
液をQ ’Cに保持したまま40.6 gのアクリル酸
クロライド及び続いて18.5 gの水酸化ナトリウム
を含む水溶液約70m1をゆっくり滴下し、そのまま0
℃で3時間反応させた。
反応生成物を静置すると、有機層と水層の2Nに分離す
るので、水層を除去し、有機層を濃縮した。得られた濃
縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下し、生成し
た沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返し、ろ別、
乾燥させると、64、0 gの白色粉末が得られた。収
率58%(3)目的生成物の融点:xoo、o〜1.0
5.0℃(4) 目的生成物の元素分析値: C15,9: H9,6: 03.6: Br 2.1
理論値:C16:HICl:04 :Br2(5)
目的生成物のNMRチャート:第3図(実施例4) 下記構造式を有する3、5−ジブロモ−1−フェニルオ
キシカルボニル−2−メタクリロイルオキシベンゼン(
以下82MPIISと称す)の合成:(1)最終目的物
の合成: 実施例3の(1)項で合成した生成物40.0gを約1
50m1のテトラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却し
た。この溶液を0℃に保持したまま13.8gのメタク
リル酸クロライド及び続いて5.5gの水酸化ナトリウ
ムを含む水溶液約40m1をゆっくり滴下し、そのまま
0℃で3時間反応させた。
るので、水層を除去し、有機層を濃縮した。得られた濃
縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下し、生成し
た沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返し、ろ別、
乾燥させると、64、0 gの白色粉末が得られた。収
率58%(3)目的生成物の融点:xoo、o〜1.0
5.0℃(4) 目的生成物の元素分析値: C15,9: H9,6: 03.6: Br 2.1
理論値:C16:HICl:04 :Br2(5)
目的生成物のNMRチャート:第3図(実施例4) 下記構造式を有する3、5−ジブロモ−1−フェニルオ
キシカルボニル−2−メタクリロイルオキシベンゼン(
以下82MPIISと称す)の合成:(1)最終目的物
の合成: 実施例3の(1)項で合成した生成物40.0gを約1
50m1のテトラヒドロフランに溶解し、0℃に冷却し
た。この溶液を0℃に保持したまま13.8gのメタク
リル酸クロライド及び続いて5.5gの水酸化ナトリウ
ムを含む水溶液約40m1をゆっくり滴下し、そのまま
0℃で3時間反応させた。
反応生成物を静置すると、有機層と水層の2層に分離す
るので、水層を除去し、有機層を濃縮した。得られた濃
縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下し、生成し
た沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返し、ろ別、
乾燥させると、16.3gの白色粉末が得られた。収率
34%(2) 目的生成物の融点:95.2〜97.
5℃(3) 目的生成物の元素分析値: C16,13: 1(11,6: O3,7: Br
2.1理論値:C17:H12:04 :Br2(4
)目的生成物のNMRチャー1・:第4図(実施例5) 下記構造式を有する5−クロロ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−メタクリロイルオキシヘンゼン(以下、
c、MPhsと称す)の合成:(1)下記構造式の中間
化合物■の合成:107.0gのサリチル酸フェニルに
300m1の塩化スルフリルを加え、室温で3日間反応
させた。
るので、水層を除去し、有機層を濃縮した。得られた濃
縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下し、生成し
た沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返し、ろ別、
乾燥させると、16.3gの白色粉末が得られた。収率
34%(2) 目的生成物の融点:95.2〜97.
5℃(3) 目的生成物の元素分析値: C16,13: 1(11,6: O3,7: Br
2.1理論値:C17:H12:04 :Br2(4
)目的生成物のNMRチャー1・:第4図(実施例5) 下記構造式を有する5−クロロ−1−フェニルオキシカ
ルボニル−2−メタクリロイルオキシヘンゼン(以下、
c、MPhsと称す)の合成:(1)下記構造式の中間
化合物■の合成:107.0gのサリチル酸フェニルに
300m1の塩化スルフリルを加え、室温で3日間反応
させた。
得られた反応混合液を濃縮し、析出した結晶をクロロホ
ルム−メタノール(1: 4>混合溶媒で再結晶して7
7.0 gの生成物を得た。収率62%(2)最終目的
物の合成: 前項(1)の生成物37.7gを約100m1のテトラ
ヒドロフランに溶解し、0℃に冷却した。この溶液を0
℃に保持したまま17.2gのメタクリル酸クロライド
及び続いて6.8gの水酸化ナトリウムを含む水溶液約
30mj!をゆっ(り滴下し、そのままO′Cで2時間
反応させた。
ルム−メタノール(1: 4>混合溶媒で再結晶して7
7.0 gの生成物を得た。収率62%(2)最終目的
物の合成: 前項(1)の生成物37.7gを約100m1のテトラ
ヒドロフランに溶解し、0℃に冷却した。この溶液を0
℃に保持したまま17.2gのメタクリル酸クロライド
及び続いて6.8gの水酸化ナトリウムを含む水溶液約
30mj!をゆっ(り滴下し、そのままO′Cで2時間
反応させた。
反応生成物を静置すると有機層と水層の2Nに分離する
ので水層を除去し、有機層を濃縮した。
ので水層を除去し、有機層を濃縮した。
得られた濃縮液を希薄水酸化ナトリウム水溶液中に滴下
し、生成した沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返
し、ろ別、乾燥させると37.9 gの白色粉末が得ら
れた。収率79% (3) 目的生成物の融点:SO,t〜84.8℃(
4) 目的生成物の元素分析値: C16,9: H13,4: O3,7: C7! 1
.2理論値:C17:HI3 :04 :czl
(5)目的生成物のNMRチャート:第5図(応用例) モノマー混合物100重量部(以下、単に部と略称する
)のうち、30部は前記実施例の化合物、’10部は架
橋剤として下記構造式を有する1、3−ビス(3,5−
ジブロモ−4−メタクリロイル−ベンゾイルオキシ)プ
ロパン(以下、BMBPと称す): ■ (CHz)a を用い、残り60部はスチレンを用い、これにラジカル
重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイl−を0.2
部添加して、50゛Cに加熱し、十分混合した後、アル
ミニウム製カップの中に注ぎ、注型重合を行った。重合
は窒素ガス雰囲気中で雰囲気を100℃に保ち、5時間
放置することで実施した。 得られた樹脂の性質を次の
第1表に示す。
し、生成した沈澱物をエタノールで2回再結晶を繰り返
し、ろ別、乾燥させると37.9 gの白色粉末が得ら
れた。収率79% (3) 目的生成物の融点:SO,t〜84.8℃(
4) 目的生成物の元素分析値: C16,9: H13,4: O3,7: C7! 1
.2理論値:C17:HI3 :04 :czl
(5)目的生成物のNMRチャート:第5図(応用例) モノマー混合物100重量部(以下、単に部と略称する
)のうち、30部は前記実施例の化合物、’10部は架
橋剤として下記構造式を有する1、3−ビス(3,5−
ジブロモ−4−メタクリロイル−ベンゾイルオキシ)プ
ロパン(以下、BMBPと称す): ■ (CHz)a を用い、残り60部はスチレンを用い、これにラジカル
重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイl−を0.2
部添加して、50゛Cに加熱し、十分混合した後、アル
ミニウム製カップの中に注ぎ、注型重合を行った。重合
は窒素ガス雰囲気中で雰囲気を100℃に保ち、5時間
放置することで実施した。 得られた樹脂の性質を次の
第1表に示す。
第1〜5図は、本発明の各実施例の化合物のNMRチャ
ートである。
ートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1はH又はCH_3であり、 XはBr、Cl又はIから選ばれるハロゲンであり、 nは0〜4の整数であり、そして R_2はフェニル基である) で表されるサリチル酸フェニルエステル誘導体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18243785A JPS6242952A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | サリチル酸フエニルエステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18243785A JPS6242952A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | サリチル酸フエニルエステル誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242952A true JPS6242952A (ja) | 1987-02-24 |
Family
ID=16118253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18243785A Pending JPS6242952A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | サリチル酸フエニルエステル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6242952A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11162004B2 (en) | 2016-09-23 | 2021-11-02 | Nichia Corporation | Electrically conductive adhesive and electrically conductive material |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP18243785A patent/JPS6242952A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11162004B2 (en) | 2016-09-23 | 2021-11-02 | Nichia Corporation | Electrically conductive adhesive and electrically conductive material |
| US11739238B2 (en) | 2016-09-23 | 2023-08-29 | Nichia Corporation | Electrically conductive adhesive and electrically conductive material |
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