JPS6243835A - 磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスク装置の如き磁気的記憶装置の記
（ｊＱ媒体として用いられる磁気ディスクに関するもの
であり、詳細には磁性粉を樹脂結合剤とともに塗布する
ことにより磁性層が形成される、いわゆる塗布型の磁気
ディスクに関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、磁性粉末を樹脂結合剤とともに塗布すること
により磁性層が形成される（イを気ディスクにおいて、 基板に表面に化成被膜が形成された／１基板を用い、磁
性塗膜の結合剤として電子線硬化型樹脂を用いることに
より、 基板の耐蝕性を向上するとともに、磁性塗膜の密着性の
向上、磁気特性の改善を図ろうとするものである。

〔従来の技術〕

例えばコンピュータ等の記憶媒体としては、ランダムア
クセスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられて
おり、なかでも、応答性に優れること、記憶容量が大き
いこと、保存性が良好で信頼性が高いこと等から、基板
にＡ１合金板やガラス板、プラスチック板等の硬質材料
を用いた磁気ディスク、いわゆるハードディスクが固定
ディスク、あるいは外部ディスクとして使用されるよう
になっている。

上記ハードディスクは、例えばＡｌｆｆ合金上板上録再
生に関与する磁性層を形成したものであって、高速で回
転して同心円状の多数のトラ、りに情報の記録再生を行
うものである。

この種の磁気ディスクにおしゾζは、一般に、基板材料
としてＡｎ板を用いるとともに、磁性層である磁気ディ
スク塗膜に強度をもたせるため、樹脂結合剤として熱硬
化性樹脂が用いられており、この熱硬化性樹脂を硬化す
べく、２００　’ｃ〜３゜ＯｏＣの硬化条件で数時間焼
き付けを行い磁性層を形成している。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、上述のようにＡｆ基板を用いた磁気ディスク
にあっては、ＡＩｌ！基板が空気中の水分と反応し、水
酸化物（いわゆる錆）を生じ、実用上問題となる虞れが
ある。また、−１記Ａｐ基板は、磁性塗膜に対する密着
性が不充分である。

一方、磁性塗膜の結合剤に熱硬化性樹脂を用いた場合に
は、硬化時の焼き付は処理により磁性粉末の特性が劣化
する虞れがあり、また、低温で長時間かけて硬化すると
塗膜の物性が低下し耐久性に問題を生ずる。

そごで本発明は、上述の従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、Ａｌｌ！基板の耐蝕性を改善し、磁性塗
膜の密着性や磁気特性に優れ、高耐久性を有する磁気デ
ィスクを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するだめの手段〕

本発明借等は、化成被膜かＡｎ基板の耐蝕性改善に有効
で、また、同時に塗膜の密着性が向−トすることを見出
し本発明を完成するに至ったものであって、表面に化成
被膜を形成されたＡＡ基板上に磁性粉末と電子線硬化型
樹脂よりなる磁性塗膜が形成され、上記磁性塗膜が電子
線の照ル１により硬化されていることを特徴とするもの
である。

本発明の磁気ディスクは、第１図に示すように、表面に
化成被膜（２）を形成した円盤状の基板（１）上に磁性
層１１９（３）を塗布形成することにより構成される。

なお、−ヒ記磁性塗膜（３）は、基板（１）の両面に塗
布形成してもよいし、いずれか一方の面にのみ形成して
もよい。

上記基板（１）としては、Ａ１を主体とするＡ１基板が
使用される。

また、本発明においては、このＡｐ基板（１）上にあら
かじめ化成被膜（２）を形成しておく。

この化成被膜（２）の形成方法としては、クロメート処
理によりクロメートメッキ層を化成被膜として形成する
方法や、アロジン処理によりアロジンメッキ層を化成被
膜として形成する方法等が挙げられる。

さらに、」−記基板（１）に対して、いわゆるテクスチ
ャリング処理によって同心円状の微細な傷を形成し、こ
の基板（１）上に先の化成被膜（２）を形成してもよい
。

この場合、上記微細な傷による表面粗度は、ＪＩｓ規格
（ＪＩＳ　　ＢＯ６０１）に記載される中心線平均粗さ
Ｒａで２００〜１０００人の範囲とすることが好ましい
。この表面粗度がＲａで２゜０人未満では、密着性の向
−トや磁気特性の向上に対する効果が不充分なものとな
る。また、Ｒａで１０００人を越えると、却って磁気特
性が低下する。

上記微細な傷を形成する手法としては、ラッピングテー
プ等による方法や、ボンバード処理等のドライエツチン
グ、さらにはウェットエツチング等の方法が挙げられる
が、なかでもラッピングテープを用いて円周方向に傷を
付ける方法が好ましい。

−・方、本発明において磁性塗膜（３）の結合剤として
用いられる電子線硬化性＋ＡＩ脂は、磁性塗料を良好に
塗布し得るように、粘度が低いものが好ましく、また、
硬化時には硬いことが好ましい。このような電子線硬化
性樹脂としては、以下のものが挙げられる。

（以下余白） （１）式 （式中、ｎは粒数を表し、またＲ１は−Ｈ，−ＣＨ３等
を表し、Ｒ２は−Ｈ，−ＣＨ３，−Ｂｒ。

−Ｃ！等を表す。） て示されるフェノールノボラックエポキシアクリレート
あるいはメタクリレート。

（２）式 （式中、ｎは整数を表し、またＲ１は−＋（、−ＣＨ３
等を表し、Ｒ２は−）１．　　　ＣＨ：ｌ、　　−Ｂ　
ｒ。

−Ｃβ等を表す。） で示されるビスフェノールＡ型エポキシアクリレートあ
るいはメタクリレート。

（３）弐 （式中、Ｒ７は−１−（、−ＣＲ３等を表し、Ｒ３は２
価の炭化水素基を表す。） で示される脂環型エポキシアクリレ−１・あるいはメタ
クリレート。

上述のエポキシアクリレートあるいはエポキシメタクリ
レートの分子量は、４００〜５０００であることが好ま
しい。この分子量が大きすぎると、硬化時の強度が不足
する虞れがある。また、一分子当たりの不飽和結合当量
は、１５０〜３０００の範囲内であることが好ましい。

また、これらエポキシアクリレートまたはエポキシメタ
クリレートには、硬化剤として多官能アクリレート（２
官能〜６官能程度）を併用しても良い。

上記多官能アクリレート　（あるいはメタクリレート）
としては、オリゴエステルアクリレート（例えば東亜合
成社製、Ｍ８０６０．Ｍ８０３０゜Ｍ７１００．Ｍ８１
００）やトリメチロールプロパントリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールへ
キサアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、
等が挙げられる。また、上記２官能アクリレート（ある
いはメタクリレート）としては、１，３−ブタンジオー
ルジアクリレート、１．６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネ
オペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられ、商
品名ビスコート＃３７００．＃７００　（大阪打機社製
）や商品名ＭＡＮＤＡ　（日本火薬社製）、商品名アロ
ニソクスＭ６１００．Ｍ６２００．Ｍ６２５０、Ｍ６３
００．Ｍ２ＳＯ４（東亜合成社製）等が市販されている
。さらに、上記単官能アクリレート（あるいはメタクリ
レート）としては、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、商品名１（ＯＡ−ＭＰ
Ｅ　（共栄社製）、商品名アロニソクスＭ５７００　（
東亜合成社製）等が挙げられる。

これらエポキシアクリレートまたはエポキシメタクリレ
ートからなるＱ膜は、通常の電子線硬化性樹脂と比べて
非常に硬く、その硬度は鉛筆硬度で６Ｈ〜８Ｈ程度にも
なる。また、得られる塗膜は、研磨性にも優れ、したが
って研磨時等に焼き付きが起こる虞れもない。

また、本発明で使用される強磁性粉末としては、強磁性
酸化鉄粒子１強磁性二酸化クロム、強磁性合金粉末及び
六方晶系フェライト粒子等が挙げられる。

ここで、上記強磁性酸化鉄粒子は、一般式ＦｅＯｘで表
した場合、Ｘの値が１．３３≦Ｘ≦１．５０の範囲にあ
るもの、即ちマグネタイト（γ−Ｆｅｚ○、　　　ｘ＝
１．５０、マグネタイト　（Ｆｅ、０４ｘ＝１．３３）
、及びこれらの固溶体（ＦｅＯｘ１．３３　＜ｘ＜　１
．５０　）である。

これら強磁性酸化鉄には、抗磁力をあげる目的でコバル
トを添加してもよい。コバルト含有磁性酸化鉄には、大
別してトープ型と被着型の二種類があり、Ｃｏドープ型
酸化鉄磁性粒子は、水酸化コバルトを含む水酸化第２鉄
を水熱処理し生成した粉を１元・酸化する方法や針状ゲ
ータイトまたはマグヘマイトの表面にＣｏ化合物を吸着
させ比較的高い温度て熱処理する方法等により製造され
、また、Ｃｏ被着型酸化鉄磁性粒子は、アルカリ水溶液
中で針状磁性酸化鉄とコバルト塩を混合し加熱してコバ
ルト化合物を吸着させた後、水洗・乾燥して取り出し非
還元性雰囲気中で熱処理することにより得られる。Ｃｏ
被着型酸化鉄磁性粒子は、Ｃｏ）−プ型酸化鉄磁性粒子
と比べ、テープ化した時に転写特性・減磁特性に優れて
いる特徴を有する。

強磁性二酸化クロムとしては、ＣｒＯ□あるいはこれら
に抗磁力を向−ヒさせる目的てＲｕ、Ｓｎ。

Ｔｅ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ等の少なくとも一種
を添加したものを使用できる。

強磁性合金粉末としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ。

Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−ＮｉまたはＦ　ｅ　−Ｃｏ　−Ｎ　
ｉ等が使用でき、また、これらに種々の特性を改善する
目的でＡｅ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ。

Ｚｎ等の金属成分を添加したものが使用可能である。

さらに、上記磁性層中には、モース硬度６以上の非磁性
顔料を補強剤や、二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、シリコンオイル、プラスチック微粉
末、常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素、脂肪酸エステ
ル類、フルオロカーボン類等の潤滑剤、炭素数１２〜１
８の脂肪酸。

この脂肪酸のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属塩
である金属石鹸、脂肪酸のアミド、アルキルリン酸エス
テル、レシチン、１−リアルキルポリオレフィンオキシ
第四アンモニウム塩等の分散剤、等を添加してもよい。

これら各成分を、溶剤に溶解して磁性塗料を調製し、表
面に化成被膜（２）を設けたＡｌ基板（１）上（片面も
しくは両面）にＱ痛して磁性塗膜（３）を形成するが、
その塗布方法としては、スピンコード法やディップコー
ト法、その他のコーティング技法等によればよい。

そして、このように塗布した磁性塗膜に対して、電子線
を照射して硬化する。ごの場合、電子線の照射量は１〜
１０Ｍｒａｄの範囲内とすることが好ましく、通常は２
〜７Ｍｒａｄ程度に設定する。また、その照射エネルギ
ー（加速電圧）は１００ｋｅＶ以上とするのが好ましい
。この硬化速度は極めて速いので、硬化時間を大幅に短
縮することができる。

なお、このようにして硬化される磁性塗膜の表面に、通
常この種の媒体に用いられる潤滑剤の薄層をトップコー
ト層として形成してもよい。

〔作用〕

Ａβ基板の表面に化成被膜を形成することにより、この
へ１基板の耐蝕性が大幅に向上し、同時に磁性塗膜に対
する密着性が向上する。

また、磁性塗膜の結合剤として電子線硬化型用脂を用い
ているので、磁性粉末の特性の劣化や耐久性の低下は抑
制される。

〔実施例〕

以下、本発明の具体的な実施例について説明する。

実施例１゜ Ｃｏ被着ｒ−Ｆｅｚｏ３　　　・−・２００重量部ビス
フェノールＡ型エポキシアクリレート（分子量２０００
）　　・・・・８０重量部トリメチロールプロパントリ
アクリレート・・・・２０重量部 Ｃｒ２Ｏ３・・・・２０重量部 シクロヘキサノン　　　　　・・・２４０重量部ジエヂ
レングリコール千ノエチルエーテル・・・・６０重量部 以上に示すような組成を有する磁性塗料を調製し、これ
を第１表に示すように、クロメート処理によってクロメ
ートメッキ層を化成被膜として形成したＡ１基板上にス
ピンコード法により均一に僧布した後、電子線を５Ｍｒ
ａｄ照射して硬化し、常法にしたがって磁気ディスクを
作成した。

作成した各磁気ディスクの錆の発生を調べ、さらに接着
テープテスト及びＭ　Ｆ、　Ｋテストを行い、磁性塗膜
の密着性を調べた。ここで、錆の発生は、基板を温度５
０’Ｃ，相対湿度８０％の環境下に７日間放置した後、
光学顕微鏡で観察し、錆が発生している場合を×、錆が
発生していない場合を○とした。接着テープテストは、
接着テープを磁性塗膜に貼り付け、１８０°方向に剥が
した時の塗膜のヱ１１がれを調べ、磁性塗膜が？Ａｌｌ
かれれば×、剥がれなければ○とした。ＭＥＫテストは
、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）を綿棒につけ、その綿
棒で磁性塗膜を擦り、磁性塗膜がなくなるまでの回数で
表した。結果を第１表に示す。

（以下余白） 第１表 この第１表より、クロメ−トメ、キ層を形成したＡＡ基
板を用いた場合には、錆の発生はなく、接着テープテス
トやＭＥＫテストにおいて良好な結果が得られ、磁性塗
膜の密着性が向上したことがわかった。

実施例２゜ 第２表に示すように、アロシン処理によりアロジンメッ
キ層を化成被膜として形成したＡ／基板を用い、他は実
施例１と同様の方法により磁気ディスクを作成した。

得られた各磁気ディスクの錆の発生を調べ、さらに接着
テープテスト及びＭＥＫテストを行い、磁性塗膜の密着
性を調べた。結果を第２表に示す。

第２表 この第２表より、アロジン処理を施した場合にも、クロ
メート処理の場合と同様に、基板の耐蝕性や磁性塗膜の
密着性に優れた効果を発揮することがわかった。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ディス
クは、表面に化成被膜を形成したＡ１基板を用いている
ので、基板の耐蝕性が大幅に向上し、信頼性や保存性に
優れたものとなるとともに、磁性塗膜に対する密着性が
大幅に向上し、膜剥がれがなく耐久性に優れたものとな
る。

また、本発明の磁気ディスクにおいては、磁性塗膜の結
合剤として電子線硬化型樹脂を用いているので、磁性塗
膜の塗膜物性を向上することができ、磁気ディスクの耐
久性を向上することができるとともに、塗膜の硬化時間
を大幅に短縮することができ、生産性等の点でも有利で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ディスクの構成を示す概
略断面図である。 １・・・Ａ１基板 ２・・・化成被膜 ３・・・磁性塗膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 表面に化成被膜が形成されたＡｌ基板上に磁性粉末と電
   子線硬化型樹脂よりなる磁性塗膜が形成され、 上記磁性塗膜が電子線の照射により硬化されていること
   を特徴とする磁気ディスク。