JPS624562A - 磁気研磨装置 - Google Patents
磁気研磨装置Info
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- JPS624562A JPS624562A JP14506785A JP14506785A JPS624562A JP S624562 A JPS624562 A JP S624562A JP 14506785 A JP14506785 A JP 14506785A JP 14506785 A JP14506785 A JP 14506785A JP S624562 A JPS624562 A JP S624562A
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
2特許請求の範囲
〔技術分野〕
本発明は、磁性を有する研磨剤を磁場内にて配向させて
研磨剤ブラシを形成し、このブラシによって被研磨物を
研磨する磁気研磨装置に係り、特に非磁性体の被研磨物
の研磨が可能であり、且つディスク状の被研磨物を両面
研磨などもできるようにした磁気研磨装置に関する。
研磨剤ブラシを形成し、このブラシによって被研磨物を
研磨する磁気研磨装置に係り、特に非磁性体の被研磨物
の研磨が可能であり、且つディスク状の被研磨物を両面
研磨などもできるようにした磁気研磨装置に関する。
被研磨物を研磨する作業は、被研磨物よりも高度の高い
研磨剤を被研磨物に当接させ、被研磨物の材質や求めら
れる研磨精度などの条件に応じた速度ならびに圧力にて
研磨剤を研磨面に摺動させるようにしている。
研磨剤を被研磨物に当接させ、被研磨物の材質や求めら
れる研磨精度などの条件に応じた速度ならびに圧力にて
研磨剤を研磨面に摺動させるようにしている。
この研磨作業において、研磨面を精密に研磨するために
は研磨剤の均Tで且つ適正な圧力−が重要となる。その
ためには研磨剤を保持するう、プの材質などの技術的工
夫が必要である。この材質として従来は、布、ゴムある
いは合成樹脂などが使用されている。また、最近では、
磁気を利用した研磨装置が考えられている。この種の磁
気研磨装置の一例としては、磁性を有する研磨剤を磁場
にて配向せしめて研磨剤ブラシを構成し、この研磨剤ブ
ラシによって被研磨物を研磨するものがある。従来のこ
の種の磁気研磨装置は、旋盤などによって加工された回
転体形状の被研磨物、例えば金型やミシン用部品などを
研磨するのに最適である。
は研磨剤の均Tで且つ適正な圧力−が重要となる。その
ためには研磨剤を保持するう、プの材質などの技術的工
夫が必要である。この材質として従来は、布、ゴムある
いは合成樹脂などが使用されている。また、最近では、
磁気を利用した研磨装置が考えられている。この種の磁
気研磨装置の一例としては、磁性を有する研磨剤を磁場
にて配向せしめて研磨剤ブラシを構成し、この研磨剤ブ
ラシによって被研磨物を研磨するものがある。従来のこ
の種の磁気研磨装置は、旋盤などによって加工された回
転体形状の被研磨物、例えば金型やミシン用部品などを
研磨するのに最適である。
一方、最近では精密研磨しなくてはならない被研磨物が
多くなってきている。この種の被研磨物の例としては、
磁気ディスク、磁気テープ、アルミニウム製ディスク、
合成樹脂製ディスク、合成樹脂フィルムなどがある。こ
れらの被研磨物は研磨面が比較的広く、また研磨も高精
度にて行なわなければならない。
多くなってきている。この種の被研磨物の例としては、
磁気ディスク、磁気テープ、アルミニウム製ディスク、
合成樹脂製ディスク、合成樹脂フィルムなどがある。こ
れらの被研磨物は研磨面が比較的広く、また研磨も高精
度にて行なわなければならない。
この種の被研磨物のうちディスクを研磨する研磨装置の
一従来例な第5図とその側面図である第6図によって説
明する。この研磨@置では、ディスクDが所定の回転駆
動装置によって第5図における時計方向あるいは反時計
方向へ回転駆動される。またディスクDには研磨円盤1
が両面から対向している。各研磨円盤lは、研磨パッド
3とこれを支持する剛性プレート4とから構成されてお
り、この研磨円盤lが回転軸2によって回転駆動される
ようになっている。研磨パッド3はポリウレタンフ、オ
ームに研磨剤を混ぜたものなどによって構成されている
。この種の研磨装置では、各研磨円盤1をディスクDの
両面に圧接して回転させて研磨を行なうようになってい
る。研磨パッド3がウレタンフオームに研磨剤を混ぜた
ものなどによって形成されているので、その弾性的性質
によって研磨剤がディスクDの表面に均一な圧力にてむ
らなく接触して研磨が行なわれるようになっている。こ
の種の樹脂を混入した研磨パッド3を用いることによっ
て、適正な研磨剤の接触圧を実現できるような工夫がな
されている。この種の研磨装置としては1例えば特開昭
57−183834号公報に開示されているものがある
。しかしながら、このような研磨パッド3の改良を行な
ったとしても、研磨剤のディスクDに対する接触圧を高
精度に設定するのには限界があり、また研磨作業が進む
うちに研磨パッド3が摩耗する問題点もある。
一従来例な第5図とその側面図である第6図によって説
明する。この研磨@置では、ディスクDが所定の回転駆
動装置によって第5図における時計方向あるいは反時計
方向へ回転駆動される。またディスクDには研磨円盤1
が両面から対向している。各研磨円盤lは、研磨パッド
3とこれを支持する剛性プレート4とから構成されてお
り、この研磨円盤lが回転軸2によって回転駆動される
ようになっている。研磨パッド3はポリウレタンフ、オ
ームに研磨剤を混ぜたものなどによって構成されている
。この種の研磨装置では、各研磨円盤1をディスクDの
両面に圧接して回転させて研磨を行なうようになってい
る。研磨パッド3がウレタンフオームに研磨剤を混ぜた
ものなどによって形成されているので、その弾性的性質
によって研磨剤がディスクDの表面に均一な圧力にてむ
らなく接触して研磨が行なわれるようになっている。こ
の種の樹脂を混入した研磨パッド3を用いることによっ
て、適正な研磨剤の接触圧を実現できるような工夫がな
されている。この種の研磨装置としては1例えば特開昭
57−183834号公報に開示されているものがある
。しかしながら、このような研磨パッド3の改良を行な
ったとしても、研磨剤のディスクDに対する接触圧を高
精度に設定するのには限界があり、また研磨作業が進む
うちに研磨パッド3が摩耗する問題点もある。
さらに研磨作業が進行した後に研磨層を洗浄する必要が
あるが、このためのノズルなどの設備が必要となり、装
置が複雑になる欠点もある。
あるが、このためのノズルなどの設備が必要となり、装
置が複雑になる欠点もある。
そこで、この種のディスクDの研磨を磁気研磨装置によ
って行なうことが考えられる。磁気研磨装置では、磁場
の強さによって研磨剤が配向して均一な研磨剤面が形成
され、適正な圧力にて高精度の研磨作業が行ないやすく
なる。
って行なうことが考えられる。磁気研磨装置では、磁場
の強さによって研磨剤が配向して均一な研磨剤面が形成
され、適正な圧力にて高精度の研磨作業が行ないやすく
なる。
この磁気研磨装置によってディスクDなどのように比較
的面積の大きい研磨面を研磨する例としては、被研磨物
を支持するワークテーブル上に磁極を有する回転盤を設
け、この回転盤から被研磨物を透過する回路となる磁場
を形成し、回転盤と被研磨物との間の磁場内に、磁性を
有する研磨剤を配向させて介在して研磨剤によるブラシ
を形成したものがある。しかしながら、この種の磁気研
磨装置では、磁力線が被研磨物の内部を通過する構造で
あるため、磁性体の被研磨物しか処理できず、アルミニ
ウムや樹脂製のディスクの研磨が行ないにくい欠点があ
る。
的面積の大きい研磨面を研磨する例としては、被研磨物
を支持するワークテーブル上に磁極を有する回転盤を設
け、この回転盤から被研磨物を透過する回路となる磁場
を形成し、回転盤と被研磨物との間の磁場内に、磁性を
有する研磨剤を配向させて介在して研磨剤によるブラシ
を形成したものがある。しかしながら、この種の磁気研
磨装置では、磁力線が被研磨物の内部を通過する構造で
あるため、磁性体の被研磨物しか処理できず、アルミニ
ウムや樹脂製のディスクの研磨が行ないにくい欠点があ
る。
第7図はディスクなどを研磨できる磁気研磨装置の他の
従来例を示すものである。この磁気研磨装置は、ヨーク
5内に設けられた鉄芯6にコイル7が巻かれて電磁石が
構成されている。ヨーク5ならびに鉄芯6の下面には磁
極8aと8bが設けられており、両磁極8aと8bは非
磁性体9を介して接合されている。そして、この非磁性
体9が介在している部分がワークテーブル10上の被研
磨物であるディスクDに対向している。この研磨装置で
は、ディスクDが磁性体によって形成されている場合に
は、一方の磁極8aから出た磁力線がディスクD内を通
過して他方の磁極8b内へ戻るようになっている。磁極
8a、8bとディスクDとの間に、磁性を有する研磨剤
を介在させれば、この研磨剤が磁場にて配向されてブラ
シ状に構成される。磁極8a、8bとワークテーブル1
0を相対的に移動させれば、研磨剤のブラシによってデ
ィスクDの表面が研磨されることになる。また被研磨物
であるディスクDが非磁性体によって形成されている場
合には、ワークテーブル10kに磁性体による板11を
設置し、その上にディスクDを設置する。このように構
成すれば、磁極8aから磁性体の板11を通過して磁極
8bに至る磁気回路が構成され、この磁場に研磨剤を介
在させることによって研磨剤のブラシが構成できるよう
になる。よって非磁性体の被研磨物の研磨が可能になる
。この種の磁気研磨装置は1例えば特開昭59−118
0号公報に開示されている。
従来例を示すものである。この磁気研磨装置は、ヨーク
5内に設けられた鉄芯6にコイル7が巻かれて電磁石が
構成されている。ヨーク5ならびに鉄芯6の下面には磁
極8aと8bが設けられており、両磁極8aと8bは非
磁性体9を介して接合されている。そして、この非磁性
体9が介在している部分がワークテーブル10上の被研
磨物であるディスクDに対向している。この研磨装置で
は、ディスクDが磁性体によって形成されている場合に
は、一方の磁極8aから出た磁力線がディスクD内を通
過して他方の磁極8b内へ戻るようになっている。磁極
8a、8bとディスクDとの間に、磁性を有する研磨剤
を介在させれば、この研磨剤が磁場にて配向されてブラ
シ状に構成される。磁極8a、8bとワークテーブル1
0を相対的に移動させれば、研磨剤のブラシによってデ
ィスクDの表面が研磨されることになる。また被研磨物
であるディスクDが非磁性体によって形成されている場
合には、ワークテーブル10kに磁性体による板11を
設置し、その上にディスクDを設置する。このように構
成すれば、磁極8aから磁性体の板11を通過して磁極
8bに至る磁気回路が構成され、この磁場に研磨剤を介
在させることによって研磨剤のブラシが構成できるよう
になる。よって非磁性体の被研磨物の研磨が可能になる
。この種の磁気研磨装置は1例えば特開昭59−118
0号公報に開示されている。
しかしながら、このような磁気研磨装置では。
ディスク状の被研磨物の片面のみしか研磨できない欠点
がある。よって研磨作業は表裏2回行なわなければなら
ず、その度に磁場を破壊して研磨剤を回収したり、また
研磨剤を再度供給してブラシを形成しなくてはならなく
なり、段取りが煩雑になる欠点がある。
がある。よって研磨作業は表裏2回行なわなければなら
ず、その度に磁場を破壊して研磨剤を回収したり、また
研磨剤を再度供給してブラシを形成しなくてはならなく
なり、段取りが煩雑になる欠点がある。
本発明は上記従来の問題点に着目してなされたものであ
り、ディスク状の被研磨物の裏表面を同時に且つ均一な
圧力によってむらなく研磨でき、また円盤状以外の形状
の被研磨物の研磨も行なえ、しかも非磁性体の被研磨物
の研磨も可能にした磁気研磨装置を提供することを目的
としている。
り、ディスク状の被研磨物の裏表面を同時に且つ均一な
圧力によってむらなく研磨でき、また円盤状以外の形状
の被研磨物の研磨も行なえ、しかも非磁性体の被研磨物
の研磨も可能にした磁気研磨装置を提供することを目的
としている。
本発明による磁気研磨装置は、対向して同方向へ回転す
る一対の円盤の一方にS極の磁極が他方にN極の磁極が
形成されて、この両日盤の間に磁性を有する研磨剤が介
装されて、磁場にて配向した研磨剤による研磨ブラシが
形成されており、且つこの研磨ブラシの側方に、被研磨
物の保持部材が設けられて成るものである。
る一対の円盤の一方にS極の磁極が他方にN極の磁極が
形成されて、この両日盤の間に磁性を有する研磨剤が介
装されて、磁場にて配向した研磨剤による研磨ブラシが
形成されており、且つこの研磨ブラシの側方に、被研磨
物の保持部材が設けられて成るものである。
以下、第1図〜第3図の図面によって具体的に説明する
。
。
第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面図は、第
2図はその左側面図である。
2図はその左側面図である。
図中の符号21は回転軸である。この回転軸21は軸受
22aと22bに支持されており、且つモータなどの駆
動源によって回転駆動されるようになっている0回転軸
21には一対の円盤23が対向して固設されている。こ
の円盤23は、フェライト磁石などの永久磁石24と、
その対向面に固設された軟鉄製の円板25と、さらにそ
の対向面に固設されたフィン26とから構成されている
。2つの円盤23の対向面は、一方がN極で、他方がS
極となるように磁極が構成されている。
22aと22bに支持されており、且つモータなどの駆
動源によって回転駆動されるようになっている0回転軸
21には一対の円盤23が対向して固設されている。こ
の円盤23は、フェライト磁石などの永久磁石24と、
その対向面に固設された軟鉄製の円板25と、さらにそ
の対向面に固設されたフィン26とから構成されている
。2つの円盤23の対向面は、一方がN極で、他方がS
極となるように磁極が構成されている。
フィン26は磁性体によって形成されており、第2図に
示すように、回転軸21を中心として放射状に4枚固設
されている。このフィン26は部分的に磁束密度を高め
るために設けられているものである。
示すように、回転軸21を中心として放射状に4枚固設
されている。このフィン26は部分的に磁束密度を高め
るために設けられているものである。
符号27は注液管である。この注液管27は回転軸の中
心穴21a内に挿入されている。注液管・27の先端は
2つの円盤23の対向部分の中央まで延びている。そし
て回転軸21の半径方向に穿設された注液口21bに連
通されている。
心穴21a内に挿入されている。注液管・27の先端は
2つの円盤23の対向部分の中央まで延びている。そし
て回転軸21の半径方向に穿設された注液口21bに連
通されている。
符号28は保持軸である。この保持軸28は軸受29に
よって回転自在に支持されている。また保持軸28はモ
ータによって回転駆動されている。保持軸28の先端に
はナツトなどを用いた保持具28aが設けられており、
この保持具28aによってディスクDなどの被研磨物が
保持されるようになっている。
よって回転自在に支持されている。また保持軸28はモ
ータによって回転駆動されている。保持軸28の先端に
はナツトなどを用いた保持具28aが設けられており、
この保持具28aによってディスクDなどの被研磨物が
保持されるようになっている。
第2図に示すように、架台31上には支柱32と33が
固設されている。一方の支柱32に前記軸受22aと2
2bが保持されて、これにより回転軸21が支持されて
いる。また他方の支柱33には軸受29が保持されてお
り、これによって保持軸28が支持されている。また架
台31の縁部にはカバー支柱34が固設されており、こ
の支柱34の上にはカバー35が、下にはカバー36が
各々固設されている。
固設されている。一方の支柱32に前記軸受22aと2
2bが保持されて、これにより回転軸21が支持されて
いる。また他方の支柱33には軸受29が保持されてお
り、これによって保持軸28が支持されている。また架
台31の縁部にはカバー支柱34が固設されており、こ
の支柱34の上にはカバー35が、下にはカバー36が
各々固設されている。
磁性研磨剤40は、2つの円盤23の中間に充填される
。2つの永久磁石24の間の磁場によって磁性研磨剤4
0は配向され、2つの円@23の中間に磁性研磨剤によ
る研磨剤ブラシが形成される。一方、被研磨物であるデ
ィスクDは保持軸28に保持された状態にて前記研磨剤
40によって形成されたブラシ内に挿入される。モータ
によって回転軸21と保持軸28は、第2図の時計方向
へすなわち両者が同方向へ回転駆動される。そして、研
磨剤40のブラシによってディスクDの両面が同時に研
磨される。第2図に示すように、円盤23とディスクD
は同方向へ回転するので。
。2つの永久磁石24の間の磁場によって磁性研磨剤4
0は配向され、2つの円@23の中間に磁性研磨剤によ
る研磨剤ブラシが形成される。一方、被研磨物であるデ
ィスクDは保持軸28に保持された状態にて前記研磨剤
40によって形成されたブラシ内に挿入される。モータ
によって回転軸21と保持軸28は、第2図の時計方向
へすなわち両者が同方向へ回転駆動される。そして、研
磨剤40のブラシによってディスクDの両面が同時に研
磨される。第2図に示すように、円盤23とディスクD
は同方向へ回転するので。
ディスクDと研磨剤40のブラシとの間の相対速度を大
きくできることになる。また、第2図における (^)
部ではディスクDの角速度が小さいが、その分研磨剤4
0のブラシの角速度が大きくなっている。また(B)部
では逆にディスクDの角速度が大きくブラシの角速度が
小さくなっている。このように回転体の半径の速度差が
互いに補なわれるので、各部分が均一な条件で研磨でき
るようになる。
きくできることになる。また、第2図における (^)
部ではディスクDの角速度が小さいが、その分研磨剤4
0のブラシの角速度が大きくなっている。また(B)部
では逆にディスクDの角速度が大きくブラシの角速度が
小さくなっている。このように回転体の半径の速度差が
互いに補なわれるので、各部分が均一な条件で研磨でき
るようになる。
また、研磨動作中に、注液管27へ液体を注入すれば、
液体が注液口21bから回転遠心力によって研磨剤40
の内部を外周方向へ流れる。この流れによってディスク
Dの研磨屑などを連続的に排出することが可能になる。
液体が注液口21bから回転遠心力によって研磨剤40
の内部を外周方向へ流れる。この流れによってディスク
Dの研磨屑などを連続的に排出することが可能になる。
ディスクDが非磁性体のものである場合には、その研磨
屑を液体にて排出することによって、研磨剤40の配向
性の妨げになるのを防止できることになる。
屑を液体にて排出することによって、研磨剤40の配向
性の妨げになるのを防止できることになる。
第3図は本発明による磁気研磨装置を単一の磁石を用い
た構成にしたものを示す正面図であり。
た構成にしたものを示す正面図であり。
第4図はその左側面図である。
この磁気研磨装置は1回転軸21の中央にセンタリング
用のスリーブ42が固設されており、このスリーブ42
の外周に対向する2つの円盤41が固設されている。こ
の円盤41は軟鉄などの磁性材料よって形成されている
0両日盤41の中間にはフェライト磁石などの永久磁石
43が固設されている。また永久磁石43の表面には非
磁性体のカバー44が設けられている。また、内円盤4
1の対向面にはフィン45が固設されている。このフィ
ン45は第4図に示すように、回転軸21を中心として
放射状に配置されている 永久磁石43から発せられる磁力線は円盤41ならびに
フィン45を通過して閉ループの磁界が構成され、内円
盤41にN極とS極の磁極が構成される。磁性を有する
研磨剤40は内円盤41の中間に充填され、磁場によっ
て配向されて研磨剤40によるブラシが形成される。保
持軸2Bに保持されたディスクDは上記ブラシ内に挿入
される。そして、ブラシの回転とディスクDの回転によ
って研磨が行なわれる。
用のスリーブ42が固設されており、このスリーブ42
の外周に対向する2つの円盤41が固設されている。こ
の円盤41は軟鉄などの磁性材料よって形成されている
0両日盤41の中間にはフェライト磁石などの永久磁石
43が固設されている。また永久磁石43の表面には非
磁性体のカバー44が設けられている。また、内円盤4
1の対向面にはフィン45が固設されている。このフィ
ン45は第4図に示すように、回転軸21を中心として
放射状に配置されている 永久磁石43から発せられる磁力線は円盤41ならびに
フィン45を通過して閉ループの磁界が構成され、内円
盤41にN極とS極の磁極が構成される。磁性を有する
研磨剤40は内円盤41の中間に充填され、磁場によっ
て配向されて研磨剤40によるブラシが形成される。保
持軸2Bに保持されたディスクDは上記ブラシ内に挿入
される。そして、ブラシの回転とディスクDの回転によ
って研磨が行なわれる。
第3図に示す磁気研磨装置は、永久磁石43を1個のみ
使用して閉ループの磁界を形成しているので、構造が簡
単で効率の良い装置を構成できることになる。
使用して閉ループの磁界を形成しているので、構造が簡
単で効率の良い装置を構成できることになる。
なお、第1図と第3図の両実施例では、被研磨物として
ディスクDを示しているが、長尺物などの被研磨物を研
磨することも可能である。この場合は、長尺の被研磨物
を、研磨剤40のブラシを横切る方向へ供給し、回転す
る研磨剤ブラシによって研磨することになる。#に第3
図に示す構成の場合には、永久磁石43が回転軸21に
近い部分にある分だけ研磨剤40のブラシの面積が小さ
くなるので、長尺物の被研磨物を研磨する場合に、第1
図のものよりも適している。
ディスクDを示しているが、長尺物などの被研磨物を研
磨することも可能である。この場合は、長尺の被研磨物
を、研磨剤40のブラシを横切る方向へ供給し、回転す
る研磨剤ブラシによって研磨することになる。#に第3
図に示す構成の場合には、永久磁石43が回転軸21に
近い部分にある分だけ研磨剤40のブラシの面積が小さ
くなるので、長尺物の被研磨物を研磨する場合に、第1
図のものよりも適している。
また、各図では、永久磁石24.43によって磁気回路
を構成しているが、コイルによる電磁石を使用すること
も可能である。この場合、電磁石が回転するので1回転
式の電気接点を用いてコイルに通電することになる。電
磁石を使用した方が大きな磁力を得られるが、永久磁石
を使用した場合には、軽量化、コイルの発熱の防止の心
配がないなどの利点がある。また永久磁石を使用してい
る場合には、研磨剤40を配向させる磁力がやや弱くな
るが、アルミニウム製のディスクやプラスチック製のデ
ィスクなどの軟らかい被研磨物を研磨する場合には、そ
の研磨作用は十分に発揮できる。
を構成しているが、コイルによる電磁石を使用すること
も可能である。この場合、電磁石が回転するので1回転
式の電気接点を用いてコイルに通電することになる。電
磁石を使用した方が大きな磁力を得られるが、永久磁石
を使用した場合には、軽量化、コイルの発熱の防止の心
配がないなどの利点がある。また永久磁石を使用してい
る場合には、研磨剤40を配向させる磁力がやや弱くな
るが、アルミニウム製のディスクやプラスチック製のデ
ィスクなどの軟らかい被研磨物を研磨する場合には、そ
の研磨作用は十分に発揮できる。
本発明による磁気研磨装置に使用される磁気研磨剤40
は従来使用されていたものと同じものでよい、しかしな
がら1本発明では、対向する円盤の間に磁界を形成し、
その間に研磨剤40を充填してブラシを形成しているの
で、この構成に適する磁気研磨剤としては、均一で且つ
細かい粒径のものがよい、また比重の小さいものが実用
上扱いやすい、磁気研磨剤40の例としては、アルミナ
−鉄系、フェライト系、または二酸化クロム系などがあ
る。これらの磁気研磨剤の中では、フェライト系(バリ
ウムフェライト等)は、板状の粒子であるため、研磨速
度は低いが、高精度の仕上げに適している。また二酸化
クロムは針状であるため、磁場における配向性が良好で
ある。
は従来使用されていたものと同じものでよい、しかしな
がら1本発明では、対向する円盤の間に磁界を形成し、
その間に研磨剤40を充填してブラシを形成しているの
で、この構成に適する磁気研磨剤としては、均一で且つ
細かい粒径のものがよい、また比重の小さいものが実用
上扱いやすい、磁気研磨剤40の例としては、アルミナ
−鉄系、フェライト系、または二酸化クロム系などがあ
る。これらの磁気研磨剤の中では、フェライト系(バリ
ウムフェライト等)は、板状の粒子であるため、研磨速
度は低いが、高精度の仕上げに適している。また二酸化
クロムは針状であるため、磁場における配向性が良好で
ある。
実際には、焼付防止、研磨表面の酸化防止、研磨剤の風
散防止などのために、研磨剤に研磨油や添加剤を加える
ことになる。これらとしては1例えば、高級脂肪酸、高
級脂肪酸の金属石鹸、高級脂肪酸エステル、鉱油、シリ
コン油などのいずれか、またはこれらの組合わせ、また
はこれらを水に分散したものなどが使用される。なお、
これらの液体を、第1図の注液管27から供給してもよ
い。
散防止などのために、研磨剤に研磨油や添加剤を加える
ことになる。これらとしては1例えば、高級脂肪酸、高
級脂肪酸の金属石鹸、高級脂肪酸エステル、鉱油、シリ
コン油などのいずれか、またはこれらの組合わせ、また
はこれらを水に分散したものなどが使用される。なお、
これらの液体を、第1図の注液管27から供給してもよ
い。
次に本考案の具体的な実施例について説明する。
(実施例 1)
第1図の磁気研磨装置において、直径12o■のフェラ
イト磁石24に直径130■腸の軟鉄製円板25を固定
し、円盤23の間隔を10履■とした。研磨剤40はア
ルミナ−鉄系(鉄85% 、平均粒径5゜ト、ステアリ
ン約3z添加)のものを使用した。
イト磁石24に直径130■腸の軟鉄製円板25を固定
し、円盤23の間隔を10履■とした。研磨剤40はア
ルミナ−鉄系(鉄85% 、平均粒径5゜ト、ステアリ
ン約3z添加)のものを使用した。
被研磨物は5インチのアルミニウム製の磁気ディスク基
板であり、回転数100rp■(ディスクの外周での線
速度88cm/5ea)で2分間の研磨作業を行なった
。
板であり、回転数100rp■(ディスクの外周での線
速度88cm/5ea)で2分間の研磨作業を行なった
。
研磨面の研磨前の表面粗さはRsax=104mであっ
たが、研磨後の表面粗さは、ディスク外周部にてRma
x m O,3pm、内周部でRmax +Ill G
、4ILmとなった。
たが、研磨後の表面粗さは、ディスク外周部にてRma
x m O,3pm、内周部でRmax +Ill G
、4ILmとなった。
(実施例 2)
実施例1で示したものと同じディスクを被研磨物とし、
実施例1と同じ装置条件にし、研磨剤として二酸化クロ
ム(ステアリン酸!2添加)を使用して研磨作業を行な
った。
実施例1と同じ装置条件にし、研磨剤として二酸化クロ
ム(ステアリン酸!2添加)を使用して研磨作業を行な
った。
ディスクの回転数120rp■で4分間の研磨を行なっ
た。その結果、研磨後の表面粗さが、ディスクの外周部
にてR腸ax = 0.01ルm、内周部でR腸d!=
0.01鉢mであった。
た。その結果、研磨後の表面粗さが、ディスクの外周部
にてR腸ax = 0.01ルm、内周部でR腸d!=
0.01鉢mであった。
(実施例 3)
装置条件は実施例1と同じとし、研磨剤40としてバリ
ウムフェライトを使用した。第1図に示す注液管27か
らラウリル酸ソーダ0.03駕、カルボキシメチルセル
ロース0.1zを含む純水を、 1oocc/minに
て供給しながら、被研磨物として直径12C■で厚さ2
■■のポリカーボネート円盤を6分間研磨した。
ウムフェライトを使用した。第1図に示す注液管27か
らラウリル酸ソーダ0.03駕、カルボキシメチルセル
ロース0.1zを含む純水を、 1oocc/minに
て供給しながら、被研磨物として直径12C■で厚さ2
■■のポリカーボネート円盤を6分間研磨した。
研磨後の表面粗さが、ディスクの外周部にてRwax
=Q、Q44m、内周部でRmax =Q、Q4Bmで
あった。
=Q、Q44m、内周部でRmax =Q、Q4Bmで
あった。
以上のように本発明によれば以下に列記する効果を奏す
るようになる。
るようになる。
(1)ディスク状の被研磨物の場合に、その表裏面を同
時に研磨できる。よって研磨作業が効率的にできるよう
になる。
時に研磨できる。よって研磨作業が効率的にできるよう
になる。
(2)対向する円盤の間に磁界を形成して研磨剤のブラ
シを形成しているので、非磁性体による被研磨物でも研
磨が可能である。
シを形成しているので、非磁性体による被研磨物でも研
磨が可能である。
(3)ディスク状の被研磨物に限られず、長尺の被研磨
物であっても研磨は可能である。
物であっても研磨は可能である。
(0研磨剤は被研磨物に均一な圧力にて接触することに
なるので、広い研磨面であっても適正な研磨作業が行な
える。
なるので、広い研磨面であっても適正な研磨作業が行な
える。
第1図は本発明による磁気研磨装置を示す正面図、第2
図はその左側面図、第3図は第1図のものと異なる構造
の磁気研磨装置の正面図、第4図はその左側面図、第5
図は従来のディスク研磨装置の正面図、第6図はその側
面図、第7図は従来のディスク用の磁気研磨装置を示す
断面図である。 21・・・回転軸、23・・・円盤、24・・・永久磁
石、25・・・軟鉄製円板、28・・・保持軸、28a
・・・保持具、40・・・研磨剤、41・・・円盤、4
3・・・永久磁石、D・・・ディスク。 第2図 1I ・ 手続補正書印発) l 事件の表示 昭和60年特許願第145067号 2 発明の名称 磁気研磨装置 3 補正をする者 代表者 高 橋 博 4代理人 〒160 氏 名 弁理士(8545) 野 崎 照 夫8
補正の内容 (1)明細書第2頁3行の「2特許請求の範囲」を「3
発明の詳細な説明」に訂正します。 (2)明細書第2頁12行〜13行′の「高度」を「硬
度」に訂正します。
図はその左側面図、第3図は第1図のものと異なる構造
の磁気研磨装置の正面図、第4図はその左側面図、第5
図は従来のディスク研磨装置の正面図、第6図はその側
面図、第7図は従来のディスク用の磁気研磨装置を示す
断面図である。 21・・・回転軸、23・・・円盤、24・・・永久磁
石、25・・・軟鉄製円板、28・・・保持軸、28a
・・・保持具、40・・・研磨剤、41・・・円盤、4
3・・・永久磁石、D・・・ディスク。 第2図 1I ・ 手続補正書印発) l 事件の表示 昭和60年特許願第145067号 2 発明の名称 磁気研磨装置 3 補正をする者 代表者 高 橋 博 4代理人 〒160 氏 名 弁理士(8545) 野 崎 照 夫8
補正の内容 (1)明細書第2頁3行の「2特許請求の範囲」を「3
発明の詳細な説明」に訂正します。 (2)明細書第2頁12行〜13行′の「高度」を「硬
度」に訂正します。
Claims (4)
- (1)対向して同方向へ回転する一対の円盤の一方にS
極の磁極が他方にN極の磁極が形成されて、この両円盤
の間に磁性を有する研磨剤が介装されて、磁場にて配向
した研磨剤による研磨ブラシが形成されており、且つこ
の研磨ブラシの側方に、被研磨物の保持部材が設けられ
て成る磁気研磨装置。 - (2)被研磨物はディスク状であり、この被研磨物が保
持部材によって回転させられながら磁気ブラシ内にて両
面研磨される特許請求の範囲第1項記載の磁気研磨装置
。 - (3)対向する円盤は、永久磁石と、その対向面に設け
られた軟鉄製円板によって形成されている特許請求の範
囲第1項記載の磁気研磨装置。 - (4)対向する円盤は軟鉄製円板によって形成されてお
り、両円盤の間の回転軸に近い部分に永久磁石が介装さ
れている特許請求の範囲第1項記載の磁気研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14506785A JPS624562A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 磁気研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14506785A JPS624562A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 磁気研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624562A true JPS624562A (ja) | 1987-01-10 |
| JPH0227113B2 JPH0227113B2 (ja) | 1990-06-14 |
Family
ID=15376612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14506785A Granted JPS624562A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 磁気研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624562A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014188420A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Avanstrate Inc | ガラス基板の製造方法、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法、及びディスプレイ用ガラス基板の端面の洗浄方法 |
| JP2015229229A (ja) * | 2014-06-06 | 2015-12-21 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法、および、ガラス板の研磨装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5111831A (ja) * | 1974-07-22 | 1976-01-30 | Nobuyoshi Yokoyama | Seidendenchakudengensochi |
| SU502744A1 (ru) * | 1974-01-14 | 1976-02-15 | Физико-технический институт АН Белорусской ССР | Устройство дл магнитно-абразивной обработки шариков |
| SU598738A1 (ru) * | 1976-09-13 | 1978-03-25 | Ташкентский Институт Текстильной И Легкой Промышленности | Устройство дл сн ти заусенцев с деталей |
| JPS6071161A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-23 | Hitachi Zosen Corp | 円盤状工作物の鏡面加工方法 |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP14506785A patent/JPS624562A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU502744A1 (ru) * | 1974-01-14 | 1976-02-15 | Физико-технический институт АН Белорусской ССР | Устройство дл магнитно-абразивной обработки шариков |
| JPS5111831A (ja) * | 1974-07-22 | 1976-01-30 | Nobuyoshi Yokoyama | Seidendenchakudengensochi |
| SU598738A1 (ru) * | 1976-09-13 | 1978-03-25 | Ташкентский Институт Текстильной И Легкой Промышленности | Устройство дл сн ти заусенцев с деталей |
| JPS6071161A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-23 | Hitachi Zosen Corp | 円盤状工作物の鏡面加工方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014188420A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Avanstrate Inc | ガラス基板の製造方法、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法、及びディスプレイ用ガラス基板の端面の洗浄方法 |
| JP2015229229A (ja) * | 2014-06-06 | 2015-12-21 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法、および、ガラス板の研磨装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0227113B2 (ja) | 1990-06-14 |
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