JPS6247124A - 露光装置用高速シヤツタ− - Google Patents
露光装置用高速シヤツタ−Info
- Publication number
- JPS6247124A JPS6247124A JP60186600A JP18660085A JPS6247124A JP S6247124 A JPS6247124 A JP S6247124A JP 60186600 A JP60186600 A JP 60186600A JP 18660085 A JP18660085 A JP 18660085A JP S6247124 A JPS6247124 A JP S6247124A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- pinholes
- fly
- exposure apparatus
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Shutters For Cameras (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明のｉＴ ５ｉｌｌな説明
１光明の分野１
本発明は露光装置、特に半導体素子焼付用露光装置のシ
ャッターに関するものである。
ャッターに関するものである。
１光明の背蹟］
半導体素子、ＩＣ，１８１、ＶＬＳ Ｉ等のパターンの
微細化と高集積化の結実現在ではパターンの形成【こ１
μｍの線幅が要求されるようになっている。
微細化と高集積化の結実現在ではパターンの形成【こ１
μｍの線幅が要求されるようになっている。
そこで必要とされるのは１１１ｍの微細パターンの焼Ｆ
＋ ４□可能とし、複数Ｔ程にわたる各パターンを焼イ
、１線幅の数分の１の精面で正確にアライメン１〜Ｊる
ことができ、（）かもつＪハに欠陥を発生さけることが
少イカク、しかも生産性の高い露光装置ぐある。これま
でもこれらの要求に応えるＪ：う各種方式の微小投影露
光装置（ステッパー）が開発されてさた。
＋ ４□可能とし、複数Ｔ程にわたる各パターンを焼イ
、１線幅の数分の１の精面で正確にアライメン１〜Ｊる
ことができ、（）かもつＪハに欠陥を発生さけることが
少イカク、しかも生産性の高い露光装置ぐある。これま
でもこれらの要求に応えるＪ：う各種方式の微小投影露
光装置（ステッパー）が開発されてさた。
ところでステッパーは、微細パターンを焼付るためどう
しでも投影光学系の画角が小さくなる。
しでも投影光学系の画角が小さくなる。
そのため分割して焼付ねばならないが、このことが原因
となって他のアライナ−と比較して生産性が劣る。ステ
ッパーの生産性を向」−することを狙いとして１枚のウ
ェハに対し数十回繰り返し動作を行なうシャッターの＾
連化を提案するものである。
となって他のアライナ−と比較して生産性が劣る。ステ
ッパーの生産性を向」−することを狙いとして１枚のウ
ェハに対し数十回繰り返し動作を行なうシャッターの＾
連化を提案するものである。
従来のステッパー用シャッターは、霞光光の集光点に配
置された回転ブレードであり、以下のような問題点があ
る。
置された回転ブレードであり、以下のような問題点があ
る。
１）回転型のシャッターの＾連化を行なうには、七−タ
の馬連化が必要である。
の馬連化が必要である。
２）モータの高速化が困Ｈな場合、シトツタ−に増速機
構が心髄となる。シトツタ−の動作が０倍に増速すると
シャッターのｔＷ竹質崩も「１イ８となり、イの結果モ
ータを高ｉ〜ルク化し、大型化しな番プればならなくな
る。
構が心髄となる。シトツタ−の動作が０倍に増速すると
シャッターのｔＷ竹質崩も「１イ８となり、イの結果モ
ータを高ｉ〜ルク化し、大型化しな番プればならなくな
る。
３）ブレードの慣性質量が大ぎく、しかもブレードの回
転角（移動量）が人ぎいため、９Ｆがり時間と立下がり
時間が大きく４１つ（第２図参照）、そのため高速化が
困Ｈ′ｃある。
転角（移動量）が人ぎいため、９Ｆがり時間と立下がり
時間が大きく４１つ（第２図参照）、そのため高速化が
困Ｈ′ｃある。
し発明の目的１
本発明の目的は、露光装置、特に半導体素子焼付用露光
装置の高速シャッターを提供することである。
装置の高速シャッターを提供することである。
この目的は本発明に従って露光装置のフライズアイズレ
ンズの集光点位置にフライズアイズレンズ配列と同じ配
列のピンホールを有する２枚の遮光板と、これらの遮光
板を相対的に動かづ駆ｖ１手段とを備える露光￥ｉ画用
高速シャッターに」、って達成される。
ンズの集光点位置にフライズアイズレンズ配列と同じ配
列のピンホールを有する２枚の遮光板と、これらの遮光
板を相対的に動かづ駆ｖ１手段とを備える露光￥ｉ画用
高速シャッターに」、って達成される。
［実施例１
第１図は本発明にＪ：る高速シ１７ツターを装備した縮
小投影露光装置の略図である。
小投影露光装置の略図である。
第１図においで１は水銀ランプ光を反０＝１さυる楕円
ミラー、２は楕円ミラーの１つの焦点ｉｌｌ冒に配置さ
れた水銀ランプ、３は反射ミラー、４は楕円ミラーの別
の焦点に配置された焦電ムラをなくｔＪ ／ζめのフラ
イズアイズレンズ、５はフライズアイズレンズの集光点
に集光光径よりわずかに大きい径で、フライズアイズレ
ンズ４ど同じピッチでへｄ冒したピンホールを有Ｊる固
定遮光板、６はこの固定遮光板５）ど同じピンホールを
有する０４動連Ｗ、ｍ、７はフライズアイズレンズを通
過した光を広げる］ンデンサーレンズ、８は情報パター
ンをイ］りる原板（レチクル）、９はレチクルＥ３を投
影する投影光学系、１０は情報パターンを記録４る１１
体〈つ１−ハ）、１１はウェハ１０を移動さる］−Ｙス
テージ、１２はＸ−Ｙステージの４ｉ１買決め信号を受
ＩＪ取りシャッターの動作命令を出す制御部、１３はｉ
ｌ制御部よりの命令にＪ：リシャッターを動作させるた
めの電源部、１４はシャッターを作動さＵる駆動部、１
５は信号ケーブルである。
ミラー、２は楕円ミラーの１つの焦点ｉｌｌ冒に配置さ
れた水銀ランプ、３は反射ミラー、４は楕円ミラーの別
の焦点に配置された焦電ムラをなくｔＪ ／ζめのフラ
イズアイズレンズ、５はフライズアイズレンズの集光点
に集光光径よりわずかに大きい径で、フライズアイズレ
ンズ４ど同じピッチでへｄ冒したピンホールを有Ｊる固
定遮光板、６はこの固定遮光板５）ど同じピンホールを
有する０４動連Ｗ、ｍ、７はフライズアイズレンズを通
過した光を広げる］ンデンサーレンズ、８は情報パター
ンをイ］りる原板（レチクル）、９はレチクルＥ３を投
影する投影光学系、１０は情報パターンを記録４る１１
体〈つ１−ハ）、１１はウェハ１０を移動さる］−Ｙス
テージ、１２はＸ−Ｙステージの４ｉ１買決め信号を受
ＩＪ取りシャッターの動作命令を出す制御部、１３はｉ
ｌ制御部よりの命令にＪ：リシャッターを動作させるた
めの電源部、１４はシャッターを作動さＵる駆動部、１
５は信号ケーブルである。
つぎにこの露光＠画の動作を説明する。
ウェハ１０をのせたＸ−Ｙステージ１２の位置決め完了
信号及びフォーカス完了信号を制御部１１が受信した後
露光のため制御部はあらかじめ設定された露光量、ある
いはシャッター開放時間を指示するシャッター動作命令
を出す。
信号及びフォーカス完了信号を制御部１１が受信した後
露光のため制御部はあらかじめ設定された露光量、ある
いはシャッター開放時間を指示するシャッター動作命令
を出す。
この制御部からの動作信号により２枚のビン小−ルを有
する板を水平方向に相対運仙させることにより（この実
施例では固定遮光板５に対し可動遮光板６を動かすこと
により）シャッターを開閉する。すなわち２枚の遮光板
のピンホールが一致した時シャッターは開となり、一致
しない時シ１７ツターは閉となる。これによってあらか
じめＭＷにセットされたレチクル８士のパターンをつ］
二ハ１０十に投影する。
する板を水平方向に相対運仙させることにより（この実
施例では固定遮光板５に対し可動遮光板６を動かすこと
により）シャッターを開閉する。すなわち２枚の遮光板
のピンホールが一致した時シャッターは開となり、一致
しない時シ１７ツターは閉となる。これによってあらか
じめＭＷにセットされたレチクル８士のパターンをつ］
二ハ１０十に投影する。
以上の動作を繰り返しレチクルパターンをウェハ上に次
々に投影していく。
々に投影していく。
［発明の効宋］
本発明の高速シトツタ−により半導体ｖｉ光装置、特に
縮小投影露光装置の生産性の向上が達成される。
縮小投影露光装置の生産性の向上が達成される。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置用高速シャ
ッターを設請した縮小投影露光装置の構成図、 第２図は、従来のシ１１ツタ−の動作特性を説明４るグ
ラフＣある。 １：楕円ミラー、２：水銀ランプ、 ３：反射ミラー、４：フライズアイズレンズ、５：固定
遮光板、６：可動遮光板、 ７：］ンｆンサーレンズ、８：レチクル、９：投影光学
系、１０：つ■ハ、 １１：Ｘ−Ｙステージ、１２：制御部、１３：駆動部の
電源、１４：駆動部、 １５：信号ケーブル。
ッターを設請した縮小投影露光装置の構成図、 第２図は、従来のシ１１ツタ−の動作特性を説明４るグ
ラフＣある。 １：楕円ミラー、２：水銀ランプ、 ３：反射ミラー、４：フライズアイズレンズ、５：固定
遮光板、６：可動遮光板、 ７：］ンｆンサーレンズ、８：レチクル、９：投影光学
系、１０：つ■ハ、 １１：Ｘ−Ｙステージ、１２：制御部、１３：駆動部の
電源、１４：駆動部、 １５：信号ケーブル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 露光装置のフライズアイズレンズの集光点位置にフライ
ズアイズレンズ配列と同じ配列のピンホールを有する２
枚の遮光板と、 これらの遮光板を相対的に動かす駆動手段とを備えるこ
とを特徴とする露光装置用高速シャッター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60186600A JPS6247124A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 露光装置用高速シヤツタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60186600A JPS6247124A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 露光装置用高速シヤツタ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6247124A true JPS6247124A (ja) | 1987-02-28 |
| JPH0587010B2 JPH0587010B2 (ja) | 1993-12-15 |
Family
ID=16191396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60186600A Granted JPS6247124A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 露光装置用高速シヤツタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6247124A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01246003A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Mitsubishi Metal Corp | 表面被覆硬質材料製切削工具 |
| JPH01252304A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-09 | Mitsubishi Metal Corp | 表面被覆硬質材料製切削工具 |
| FR2890461A1 (fr) * | 2005-09-05 | 2007-03-09 | Sagem Defense Securite | Obturateur et illuminateur d'un dispositif de photolithographie |
| JP2011044480A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2015535949A (ja) * | 2012-09-25 | 2015-12-17 | サジャン・デファンス・セキュリテＳａｇｅｍ Ｄｅｆｅｎｓｅ Ｓｅｃｕｒｉｔｅ | 回折の制御を可能にするフォトリソグラフィック照明装置 |
-
1985
- 1985-08-27 JP JP60186600A patent/JPS6247124A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01246003A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Mitsubishi Metal Corp | 表面被覆硬質材料製切削工具 |
| JPH01252304A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-09 | Mitsubishi Metal Corp | 表面被覆硬質材料製切削工具 |
| FR2890461A1 (fr) * | 2005-09-05 | 2007-03-09 | Sagem Defense Securite | Obturateur et illuminateur d'un dispositif de photolithographie |
| WO2007028793A1 (fr) * | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Sagem Defense Securite | Illuminateur d'un dispositif de photolithographie |
| JP2009507387A (ja) * | 2005-09-05 | 2009-02-19 | サジャン・デファンス・セキュリテ | フォトリソグラフィデバイスのための照明装置 |
| US7982855B2 (en) | 2005-09-05 | 2011-07-19 | Miguel Boutonne | Illuminator for a photolithography device |
| JP2011044480A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Nikon Corp | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2015535949A (ja) * | 2012-09-25 | 2015-12-17 | サジャン・デファンス・セキュリテＳａｇｅｍ Ｄｅｆｅｎｓｅ Ｓｅｃｕｒｉｔｅ | 回折の制御を可能にするフォトリソグラフィック照明装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0587010B2 (ja) | 1993-12-15 |
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