JPS6248523B2 - - Google Patents
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- JPS6248523B2 JPS6248523B2 JP59107188A JP10718884A JPS6248523B2 JP S6248523 B2 JPS6248523 B2 JP S6248523B2 JP 59107188 A JP59107188 A JP 59107188A JP 10718884 A JP10718884 A JP 10718884A JP S6248523 B2 JPS6248523 B2 JP S6248523B2
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- cleaning
- catalyst
- storage tank
- separation tank
- gas
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、洗浄塔内で、触媒をけん濁状態で
含む洗浄液によりガス洗浄を行なう装置に関す
る。
含む洗浄液によりガス洗浄を行なう装置に関す
る。
ガス洗浄装置は、ガス中の特定成分を洗浄液に
吸収させるために充填材を介して気液接触させる
もので、一般に脱臭や排ガスの洗浄などに広く用
いられている。例えば、脱臭装置の例をあげる
と、洗浄液としてアルカリ水溶液を用い、し尿処
理塔などの悪臭ガスを洗浄して、ガス中の硫化水
素を吸収、アルカリ反応させて除去するものがあ
り、また、その洗浄液に触媒をけん濁状態で含ま
せて吸収効率を高めたものがある。
吸収させるために充填材を介して気液接触させる
もので、一般に脱臭や排ガスの洗浄などに広く用
いられている。例えば、脱臭装置の例をあげる
と、洗浄液としてアルカリ水溶液を用い、し尿処
理塔などの悪臭ガスを洗浄して、ガス中の硫化水
素を吸収、アルカリ反応させて除去するものがあ
り、また、その洗浄液に触媒をけん濁状態で含ま
せて吸収効率を高めたものがある。
これらは、洗浄液に吸収した物質の酸化生成物
が蓄積され、また、洗浄ガスが乾燥していると、
洗浄液中の水分が蒸発するため、溶解物質が濃縮
されることとなり、カルシウム、マグネシウムな
どのスケールが生成しやすくなる。このため、濃
縮率を高めないように補給水を加え、溶解物質を
常に排出させる必要がある。この排出された洗浄
液には触媒などがけん濁物として含まれているた
め、従来から種々の工夫がなされて、触媒を回収
再利用し、けん濁物のない上澄水として排出して
いる。
が蓄積され、また、洗浄ガスが乾燥していると、
洗浄液中の水分が蒸発するため、溶解物質が濃縮
されることとなり、カルシウム、マグネシウムな
どのスケールが生成しやすくなる。このため、濃
縮率を高めないように補給水を加え、溶解物質を
常に排出させる必要がある。この排出された洗浄
液には触媒などがけん濁物として含まれているた
め、従来から種々の工夫がなされて、触媒を回収
再利用し、けん濁物のない上澄水として排出して
いる。
その従来の一例を示せば、第1図に示すように
充填材1を内装した洗浄塔2内上部のスプレーノ
ズル3から洗浄液を噴出流下させるとともに、ブ
ロアー4により洗浄塔2内に下部から被洗浄ガス
を送り込み、その洗浄ガスを充填材1中で洗浄液
と気接触させ、デミスター5にて同伴するミスト
を除去したのち、外気に放出する。一方、充填材
1からの洗浄水は洗浄塔2下部の貯留槽6に流下
し、スラリーポンプ7によりスプレーノズル3に
循環される。
充填材1を内装した洗浄塔2内上部のスプレーノ
ズル3から洗浄液を噴出流下させるとともに、ブ
ロアー4により洗浄塔2内に下部から被洗浄ガス
を送り込み、その洗浄ガスを充填材1中で洗浄液
と気接触させ、デミスター5にて同伴するミスト
を除去したのち、外気に放出する。一方、充填材
1からの洗浄水は洗浄塔2下部の貯留槽6に流下
し、スラリーポンプ7によりスプレーノズル3に
循環される。
循環する洗浄水は、PH計8によりPH値が測定さ
れ、その値に基づき、調整器9によりアルカリ濃
厚液10がポンプ11を介して洗浄塔2内に適宜
に流入されて洗浄水のPH調整がなされる。
れ、その値に基づき、調整器9によりアルカリ濃
厚液10がポンプ11を介して洗浄塔2内に適宜
に流入されて洗浄水のPH調整がなされる。
また、悪臭成分あるいは悪臭成分の酸化生成物
が洗浄液中に蓄積濃縮されるのを防ぐため、一定
量の補給水12が加えられ、その加えた量の洗浄
液が貯留槽6の下部開口13から隣接する沈降分
離槽14に流入して上部から溢流する。
が洗浄液中に蓄積濃縮されるのを防ぐため、一定
量の補給水12が加えられ、その加えた量の洗浄
液が貯留槽6の下部開口13から隣接する沈降分
離槽14に流入して上部から溢流する。
この従来例においては、沈降分離槽14の側面
を傾斜させているため、ここでの液の流れはゆつ
くりとなり、更に上部へ行くほど流速は遅くな
り、けん濁している触媒が沈降分離されるとして
いる。
を傾斜させているため、ここでの液の流れはゆつ
くりとなり、更に上部へ行くほど流速は遅くな
り、けん濁している触媒が沈降分離されるとして
いる。
しかしながら、貯留槽6と分離槽14とは下部
開口13によつて連通しているため、貯留槽6下
部に集積する触媒が流水と共に分離槽14に流入
して大量となり、沈降せずに溢流水とともに外部
に流れ出る問題がある。すなわち、円滑な沈降分
離がなされない問題がある。
開口13によつて連通しているため、貯留槽6下
部に集積する触媒が流水と共に分離槽14に流入
して大量となり、沈降せずに溢流水とともに外部
に流れ出る問題がある。すなわち、円滑な沈降分
離がなされない問題がある。
また、沈降分離槽を洗浄塔とは別に設け、この
分離槽に貯留槽6を溢流した洗浄液を流入して触
媒を沈降分離するものも考案されている。
分離槽に貯留槽6を溢流した洗浄液を流入して触
媒を沈降分離するものも考案されている。
しかしながら、このものにおいては分離槽に沈
降した触媒は濃度が高く、その濃厚なスラリーを
ポンプにより洗浄塔2に返送しなければならない
ため、その操作が複雑となり、洗浄液中のけん濁
状態の触媒濃度が大きく変動する欠点がある。ま
た、運転操作だけでなく、装置が複雑化し、設置
面積も大きくなる欠点もある。
降した触媒は濃度が高く、その濃厚なスラリーを
ポンプにより洗浄塔2に返送しなければならない
ため、その操作が複雑となり、洗浄液中のけん濁
状態の触媒濃度が大きく変動する欠点がある。ま
た、運転操作だけでなく、装置が複雑化し、設置
面積も大きくなる欠点もある。
この発明は、上記問題点に留意し、触媒の円滑
な沈降分離を行ない得るとともに、その沈降した
触媒の洗浄塔への循環を自重により円滑に行ない
得るガス洗浄装置を提供することを目的とする。
な沈降分離を行ない得るとともに、その沈降した
触媒の洗浄塔への循環を自重により円滑に行ない
得るガス洗浄装置を提供することを目的とする。
この目的を達成するため、この発明にあつて
は、上記従来のガス洗浄装置において、洗浄塔内
の充填材と下部洗浄液貯留槽の間に、充填材から
流下する洗浄液の一部を受取る受部を設けると共
に、洗浄塔側部にその受部に連通する沈降分離槽
を設け、この分離槽底面を前記貯留槽の底面より
上位に位置し、分離槽底部と貯留槽とを開閉弁を
介して連通したものである。
は、上記従来のガス洗浄装置において、洗浄塔内
の充填材と下部洗浄液貯留槽の間に、充填材から
流下する洗浄液の一部を受取る受部を設けると共
に、洗浄塔側部にその受部に連通する沈降分離槽
を設け、この分離槽底面を前記貯留槽の底面より
上位に位置し、分離槽底部と貯留槽とを開閉弁を
介して連通したものである。
この様に構成することにより、従来と同様に気
液接触によつてガス洗浄が行なわれ、充填材から
の洗浄液の大部分は貯留槽に流下し、一部分は受
部に流れ込む。貯留槽に流下した洗浄水は前述と
同様に循環し、分離槽に流入した洗浄水はけん濁
状態の触媒が沈降分離し、その上澄液が溢流して
外部に流出する。分離槽に堆積した触媒は、弁の
開閉によりその自重でもつて適宜に貯留槽に返送
する。
液接触によつてガス洗浄が行なわれ、充填材から
の洗浄液の大部分は貯留槽に流下し、一部分は受
部に流れ込む。貯留槽に流下した洗浄水は前述と
同様に循環し、分離槽に流入した洗浄水はけん濁
状態の触媒が沈降分離し、その上澄液が溢流して
外部に流出する。分離槽に堆積した触媒は、弁の
開閉によりその自重でもつて適宜に貯留槽に返送
する。
したがつて、この発明によると、洗浄水を部分
的に取出し独立の沈降分離槽でもつて触媒を沈降
分離するため、その作用が確実に行なわれ、放出
流とともに流れ出る触媒が極めて少なくなり、ま
た、分離した触媒を自重により返送するので、操
作も容易である。
的に取出し独立の沈降分離槽でもつて触媒を沈降
分離するため、その作用が確実に行なわれ、放出
流とともに流れ出る触媒が極めて少なくなり、ま
た、分離した触媒を自重により返送するので、操
作も容易である。
以下、この発明の実施例を添付図面第2図に基
づいて説明する。なお、前記と同一符号は同一物
を示す。
づいて説明する。なお、前記と同一符号は同一物
を示す。
図に示すように、前述のガス洗浄装置におい
て、充填材1と貯留槽6との間に洗浄塔2内壁に
斜め上方に延びる受板14′を設けて流下する洗
浄液の一部を受取る箱状受部15を形成するとと
もに、その塔2外壁に受部15に連通する沈降分
離槽16を設け、受部15に流入した洗浄液を分
離槽16に導びき、触媒を沈降分離させてその上
澄水を溢流堰20から流出可能とする。分離槽1
6から放流する上澄水の量は溢流堰20の高さ及
び受板14′の上端高さによつて調節する。
て、充填材1と貯留槽6との間に洗浄塔2内壁に
斜め上方に延びる受板14′を設けて流下する洗
浄液の一部を受取る箱状受部15を形成するとと
もに、その塔2外壁に受部15に連通する沈降分
離槽16を設け、受部15に流入した洗浄液を分
離槽16に導びき、触媒を沈降分離させてその上
澄水を溢流堰20から流出可能とする。分離槽1
6から放流する上澄水の量は溢流堰20の高さ及
び受板14′の上端高さによつて調節する。
受部15と分離槽16の間に整流板17′を設
ければ、上澄液が受部15内のけん濁洗浄液を混
合せずに円滑な沈降分離が行なわれる。
ければ、上澄液が受部15内のけん濁洗浄液を混
合せずに円滑な沈降分離が行なわれる。
分離槽16はその底面が貯留槽6の底面より上
位になるように設け、底部を開閉弁17を介して
貯留槽6に連通し、開閉弁を開くことにより沈降
堆積した触媒をその自重により貯留槽6に返送可
能とする。
位になるように設け、底部を開閉弁17を介して
貯留槽6に連通し、開閉弁を開くことにより沈降
堆積した触媒をその自重により貯留槽6に返送可
能とする。
補給水12の配管には、ボールタツプ18を設
けて、このタツプ18により常時液面を一定位に
保つようにする。
けて、このタツプ18により常時液面を一定位に
保つようにする。
沈降分離槽16は、図示のごとくその側壁を傾
斜面とすれば、触媒沈降作用の点で有利となる。
斜面とすれば、触媒沈降作用の点で有利となる。
なお、貯留槽6に散気具19を設ければ、この
散気により触媒の沈降堆積が防止され、洗浄水の
触媒濃度が一定に保たれる。
散気により触媒の沈降堆積が防止され、洗浄水の
触媒濃度が一定に保たれる。
実施例は以上のように構成されており、つぎに
その作用を説明する。
その作用を説明する。
従来と同様に、スプレーノズル3から洗浄液が
噴出流下している状態において、ブロアー4によ
り洗浄塔2内に被洗浄ガスが送り込まれると、そ
の被洗浄ガスは、充填材1中で洗浄液と気液接触
し、デミスター5にて同伴するミストを除去され
たのち外気に放出される。
噴出流下している状態において、ブロアー4によ
り洗浄塔2内に被洗浄ガスが送り込まれると、そ
の被洗浄ガスは、充填材1中で洗浄液と気液接触
し、デミスター5にて同伴するミストを除去され
たのち外気に放出される。
一方、充填材1からの洗浄液の下部分は貯留槽
6に流下し、一部分は受部15に流れ込む。貯留
槽6に流下した洗浄水は前述と同様に循環し、分
離槽16に流入した洗浄水はけん濁状態の触媒が
沈降分離し、その上澄液が溢流して外部に流出す
る。分離槽に堆積した触媒は、弁17の開閉によ
りその自重でもつて適宜に貯留槽6に返送され
る。この弁17は自動開閉弁として一定間隔で開
閉するようにすることが好ましい。
6に流下し、一部分は受部15に流れ込む。貯留
槽6に流下した洗浄水は前述と同様に循環し、分
離槽16に流入した洗浄水はけん濁状態の触媒が
沈降分離し、その上澄液が溢流して外部に流出す
る。分離槽に堆積した触媒は、弁17の開閉によ
りその自重でもつて適宜に貯留槽6に返送され
る。この弁17は自動開閉弁として一定間隔で開
閉するようにすることが好ましい。
また分離槽16からの溢流によつて洗浄水が減
少するため、タツプ18を介して水が供給され、
貯留槽6の液位は常時一定に保たれる。
少するため、タツプ18を介して水が供給され、
貯留槽6の液位は常時一定に保たれる。
第1図は従来のガス洗浄装置の概略図、第2図
はこの発明のガス洗浄装置の一実施例の概略図で
ある。 1……充填材、2……洗浄塔、6……貯留槽、
15……受部、16……沈降分離槽、17……開
閉弁。
はこの発明のガス洗浄装置の一実施例の概略図で
ある。 1……充填材、2……洗浄塔、6……貯留槽、
15……受部、16……沈降分離槽、17……開
閉弁。
Claims (1)
- 1 充填剤の内装された洗浄塔内で、触媒をけん
濁状態で含む洗浄液により、ガス洗浄を行なう装
置において、前記洗浄塔内の充填剤と下部洗浄液
貯留槽の間に、充填材から流下する洗浄液の一部
を受取る受部を設けるとともに、洗浄塔側部にそ
の受部に連通する沈降分離槽を設け、この分離槽
底面を前記貯留槽の底面より上位に位置し、か
つ、分離槽底部と貯留槽とを開閉弁を介して連通
したことを特徴とするガス洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59107188A JPS60251920A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ガス洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59107188A JPS60251920A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ガス洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60251920A JPS60251920A (ja) | 1985-12-12 |
| JPS6248523B2 true JPS6248523B2 (ja) | 1987-10-14 |
Family
ID=14452697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59107188A Granted JPS60251920A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ガス洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60251920A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019063725A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス処理装置及びガス処理方法 |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP59107188A patent/JPS60251920A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60251920A (ja) | 1985-12-12 |
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