JPS6251661A - 新規なスルホニウム塩 - Google Patents
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Landscapes
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、光重合開始剤等として有用な新規なスルホニ
ウム塩に関する。
ウム塩に関する。
不飽和結合を分子中に有するモノマー、オリゴマー、プ
レポリマーが光重合開始剤の存在下で光 −重合、光硬
化することはよく知られている。
レポリマーが光重合開始剤の存在下で光 −重合、光硬
化することはよく知られている。
光重合法、光硬化法は熱重合法、熱硬化法と比べ、低温
、迅速に重合、硬化できるので、生産性向し、省エネル
ギー、無公害等の利点があり、染料、印刷インキ、フォ
トレジスト等の分野に於て広く用いられている。
、迅速に重合、硬化できるので、生産性向し、省エネル
ギー、無公害等の利点があり、染料、印刷インキ、フォ
トレジスト等の分野に於て広く用いられている。
かかる目的に使用される光重合開始剤としては従来から
種々の物質が提案され、使用されている0例えば、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル等のベンゾイン類、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ミヒラーズケトン等のケトン類、アゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物類、
アントラキノン、1.2−ベンズアントラキノン等のキ
ノン類、ジベンゾチアゾリルスルフィド、デシルフェニ
ルスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド等の
fdi黄化金化合物類臭化炭素、トリブロムフェニルス
ルホン酸等のハロゲン化合物類など紫外線の作用下でラ
ジカルを発生する光重合開始剤が代表的なものとして挙
げられる。
種々の物質が提案され、使用されている0例えば、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル等のベンゾイン類、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ミヒラーズケトン等のケトン類、アゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物類、
アントラキノン、1.2−ベンズアントラキノン等のキ
ノン類、ジベンゾチアゾリルスルフィド、デシルフェニ
ルスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド等の
fdi黄化金化合物類臭化炭素、トリブロムフェニルス
ルホン酸等のハロゲン化合物類など紫外線の作用下でラ
ジカルを発生する光重合開始剤が代表的なものとして挙
げられる。
しかしながら、これらの光重合開始剤はいずれもその重
合活性の点に於て未だ充分満足できるものではなく、ま
た、その他の点、即ち、毒性、臭気、熱安定性、貯蔵安
定性、溶解性等の点に於ても、夫々一長一短があって、
全ての点に満足し得る優れた光重合開始剤はこれまでに
未だない。
合活性の点に於て未だ充分満足できるものではなく、ま
た、その他の点、即ち、毒性、臭気、熱安定性、貯蔵安
定性、溶解性等の点に於ても、夫々一長一短があって、
全ての点に満足し得る優れた光重合開始剤はこれまでに
未だない。
従って、これら全ての点に於て優れた特性を有する更に
新しいタイプの光重合開始剤が渇望されている現状にあ
る。
新しいタイプの光重合開始剤が渇望されている現状にあ
る。
本発明は、上記した如き現状に鑑みなされたもので、新
しいタイプの光重合開始剤等としての用途が期待できる
新規なスルホニウム塩を提供することを目的とする。
しいタイプの光重合開始剤等としての用途が期待できる
新規なスルホニウム塩を提供することを目的とする。
本発明は、一般式(I)
[式中、R1,R2は夫々独立1.て水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わし
、R3は水素原子又はハロゲン原子を表ゎ残基を表わす
、]で示されるスルホニウム塩又はその溶媒付加物の発
明であるや 一般式III で示される本発明のスルホニウム塩に於
てR1,R2で表わされる低級アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基。
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わし
、R3は水素原子又はハロゲン原子を表ゎ残基を表わす
、]で示されるスルホニウム塩又はその溶媒付加物の発
明であるや 一般式III で示される本発明のスルホニウム塩に於
てR1,R2で表わされる低級アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基。
ブチル基、ペンチル基等炭素数1〜5の低級アルキル基
が挙げられ、低級アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等炭素
数1〜4の低級アルコキシ基が挙げられ、ハロゲン原子
としては、塩素、臭素、弗素、沃素等が挙げられる。ま
た、R3で表わされるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、弗素、沃素等が挙げられる。また、Xで表わされる
ルイス酸残基としては1例えば、四弗化硼素酸、過塩素
酸、六弗化アンチモン酸、六弗化砒素酸、リン酸等の酸
残基が挙げられる。
が挙げられ、低級アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等炭素
数1〜4の低級アルコキシ基が挙げられ、ハロゲン原子
としては、塩素、臭素、弗素、沃素等が挙げられる。ま
た、R3で表わされるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、弗素、沃素等が挙げられる。また、Xで表わされる
ルイス酸残基としては1例えば、四弗化硼素酸、過塩素
酸、六弗化アンチモン酸、六弗化砒素酸、リン酸等の酸
残基が挙げられる。
本発明のスルホニウム塩は例えば、日化誌、ゼ(7)、
75 (19H)に記載の方法に準じて、一般に下記
の如くして容易に合成し得る。
75 (19H)に記載の方法に準じて、一般に下記
の如くして容易に合成し得る。
即ち、ジアリールスルフィドと、ブロモアセトフェノン
誘導体とを例えばハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メ
チレン、塩化エチレン、クロロホルム、テトラクロロエ
タン等)中、例えば、過塩素酸銀、四弗化硼酸銀等の銀
塩や過塩素酸アルカリ、四弗化硼酸アルカリ、六弗化ア
ンチモン酸アルカリ等のアルカリ金属塩等の存在下に室
温乃至加温下に数時間乃至数日間撹拌反応させる0反応
後、濾過して不溶物を除き、炉液を濃縮して得られるシ
ロップ状物をそのまま又は要すればエーテル、テトラヒ
ドロフラン(THF)等で結晶化させた後、クロロホル
ム−エーテル混液、アセトン−エーテル混液、塩化メチ
レン−エーテル混液、アセトニトリル、THF等適当な
溶媒で再結晶すれば、目的とするスルホニウム塩が容易
に得られる。但し、該スルホニウム塩の種類により、ま
た、用いた晶出溶媒の種類によっては溶媒付加物を形成
することもある(例えば、前記一般式[1] に於て、
R1,R2が低級アルキル基又は低級アルコキシ基等で
あるスルホニウム塩の場合、THEを品出溶媒に用いた
ときには該スルホニウム塩は1分子のTHF付加物とな
る。)。
誘導体とを例えばハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メ
チレン、塩化エチレン、クロロホルム、テトラクロロエ
タン等)中、例えば、過塩素酸銀、四弗化硼酸銀等の銀
塩や過塩素酸アルカリ、四弗化硼酸アルカリ、六弗化ア
ンチモン酸アルカリ等のアルカリ金属塩等の存在下に室
温乃至加温下に数時間乃至数日間撹拌反応させる0反応
後、濾過して不溶物を除き、炉液を濃縮して得られるシ
ロップ状物をそのまま又は要すればエーテル、テトラヒ
ドロフラン(THF)等で結晶化させた後、クロロホル
ム−エーテル混液、アセトン−エーテル混液、塩化メチ
レン−エーテル混液、アセトニトリル、THF等適当な
溶媒で再結晶すれば、目的とするスルホニウム塩が容易
に得られる。但し、該スルホニウム塩の種類により、ま
た、用いた晶出溶媒の種類によっては溶媒付加物を形成
することもある(例えば、前記一般式[1] に於て、
R1,R2が低級アルキル基又は低級アルコキシ基等で
あるスルホニウム塩の場合、THEを品出溶媒に用いた
ときには該スルホニウム塩は1分子のTHF付加物とな
る。)。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物は、例えば
光ラジカル重合、光カチオン重合等、光重合に於ける重
合開始剤と出用途が期待できる。
光ラジカル重合、光カチオン重合等、光重合に於ける重
合開始剤と出用途が期待できる。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物を光重合開
始剤として用いる場合、これを単独で用いても、また要
すれば、他の光重合開始剤や光増感剤と適宜併用して用
いても随意である。
始剤として用いる場合、これを単独で用いても、また要
すれば、他の光重合開始剤や光増感剤と適宜併用して用
いても随意である。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物は、これを
光重合開始剤として用いた場合、特に臭気、毒性等の問
題点も無く、安定性にも優れてぉり、また既存の代表的
な光重合開始剤であるベンゾインエチルエーテルなどよ
りも重合活性が高いので極めて有用である。
光重合開始剤として用いた場合、特に臭気、毒性等の問
題点も無く、安定性にも優れてぉり、また既存の代表的
な光重合開始剤であるベンゾインエチルエーテルなどよ
りも重合活性が高いので極めて有用である。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物からなる光
重合開始剤は1例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、フマル酸、マレイン酸及びその無水物、フタル
酸及びその無水物等の不飽和酸、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、アクリ゛ル酸ヒドロキシエチル、マレイン酸ジエ
チル。
重合開始剤は1例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、フマル酸、マレイン酸及びその無水物、フタル
酸及びその無水物等の不飽和酸、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、アクリ゛ル酸ヒドロキシエチル、マレイン酸ジエ
チル。
フマル酸ジメチル、エチレングリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ビスフェノ
ールAジアクリレート等の不飽和酸エステル、及びスチ
レン、アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル
、N−ビニルピロリドン等のモノマー、更には、不飽和
ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリウレタ
ン、エポキシアクリレート等、重合性のエチレン系不飽
和結合を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー等の光
重合、光硬化に効果的に使用し得る。
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ビスフェノ
ールAジアクリレート等の不飽和酸エステル、及びスチ
レン、アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル
、N−ビニルピロリドン等のモノマー、更には、不飽和
ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリウレタ
ン、エポキシアクリレート等、重合性のエチレン系不飽
和結合を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー等の光
重合、光硬化に効果的に使用し得る。
以下に実施例及び参考例を示すが、本発明はこれら実施
例、参考例により同等制約を受けるものではない。
例、参考例により同等制約を受けるものではない。
実施例1. 過塩素酸ジフェニルp−クロロフェナシル
スルホニウムの合成 硫化フェニル 2.8g (15n*ol)とP−クロ
ロフェナシルブロマイド 5.4g(23mmo l)
とを二塩化エチレン 251111! +Z溶解した0
次いで、この溶液に撹拌下、過塩素Mi銀(純度90%
) 3.4g (15n*ol)を少量ずつ加え、遮光
下反応混合物を室温で3時間撹拌した0反応後不溶物を
枦去し、炉液を濃縮して得た残渣にエーテルを加え、暫
時放置した。析出病を・枦取し、アセトニトリルで再結
晶すると無色のプリズム晶 4.1gが得られた。収率
62,2%。
スルホニウムの合成 硫化フェニル 2.8g (15n*ol)とP−クロ
ロフェナシルブロマイド 5.4g(23mmo l)
とを二塩化エチレン 251111! +Z溶解した0
次いで、この溶液に撹拌下、過塩素Mi銀(純度90%
) 3.4g (15n*ol)を少量ずつ加え、遮光
下反応混合物を室温で3時間撹拌した0反応後不溶物を
枦去し、炉液を濃縮して得た残渣にエーテルを加え、暫
時放置した。析出病を・枦取し、アセトニトリルで再結
晶すると無色のプリズム晶 4.1gが得られた。収率
62,2%。
厘、p、 195〜198℃。
元素分析値(C20H1BC1205S)計算値C%)
: C54,88,H3,8?実測値(%): C54
,4B、 H3,85I R(KBr):1895.1
Ei80(GO)、 1100cm−’(C104−)
N M R(CF3C:02H) : δ 6.00
(2H,s、 CH2)。
: C54,88,H3,8?実測値(%): C54
,4B、 H3,85I R(KBr):1895.1
Ei80(GO)、 1100cm−’(C104−)
N M R(CF3C:02H) : δ 6.00
(2H,s、 CH2)。
8.2 ppm (12H,ts、 ArH)。
実施例2. 過塩素酸ビス(p−トリル)p−ブロモフ
ェナシルスルホニウムの合成 硫化P−1リル 3.2g (15anal)とp−ブ
ロモフェナシルブロマイド 4.75g (17,1m
mol)とを塩化メチレン 251に溶解し、これに撹
拌下過塩素酸銀(純度90%) 3.4g (15m
eal)を少量ずつ加えた。加え終った後、遮光下、緩
やかに還流させながら12時間撹拌反応を行なった0反
応後吸引が過して不純物を除き、炉液を濃縮して得た油
状物にTHFを加えて放置し結晶を析出せしめた後、析
出病をアセトン−エーテルで再結晶して無色プリズム晶
5.5gを得た。このものは分子中に1分子のアセト
ンを含むアセトン付加物であることが元素分析及びNM
Rより明らかとなった。収J84.3%0m、p、83
〜85℃。
ェナシルスルホニウムの合成 硫化P−1リル 3.2g (15anal)とp−ブ
ロモフェナシルブロマイド 4.75g (17,1m
mol)とを塩化メチレン 251に溶解し、これに撹
拌下過塩素酸銀(純度90%) 3.4g (15m
eal)を少量ずつ加えた。加え終った後、遮光下、緩
やかに還流させながら12時間撹拌反応を行なった0反
応後吸引が過して不純物を除き、炉液を濃縮して得た油
状物にTHFを加えて放置し結晶を析出せしめた後、析
出病をアセトン−エーテルで再結晶して無色プリズム晶
5.5gを得た。このものは分子中に1分子のアセト
ンを含むアセトン付加物であることが元素分析及びNM
Rより明らかとなった。収J84.3%0m、p、83
〜85℃。
元素分析値(アセトン1分子付加物としてC25H26
BrCIOBS ) 計算値C%): C52,70,H4,60実X1ll
イa($): C52,32,H4,57I R(
KBr):1700(Co)、 1100cIl−’(
C104−) 。
BrCIOBS ) 計算値C%): C52,70,H4,60実X1ll
イa($): C52,32,H4,57I R(
KBr):1700(Co)、 1100cIl−’(
C104−) 。
〜8.01ppm (8B、rn、Ar)l)。
また、前記方法と同様に反応、後処理を行ない、得られ
た粗品をTHFで再結晶して無色プリズム品 5.8g
を得た。このものは元素分析及びNMRより分子中に1
分子のTHFを含むTHF付加物であることが確認され
た。収率66.5%、 m、p。
た粗品をTHFで再結晶して無色プリズム品 5.8g
を得た。このものは元素分析及びNMRより分子中に1
分子のTHFを含むTHF付加物であることが確認され
た。収率66.5%、 m、p。
121−124℃。
元素分析値(THFI分子付加物として02BHH2B
BrC106S) 計算値C%>: C53,4B、 8 4.83実測値
($): C53,34,H4,87I R(KBr)
+1700(CO)、 l100c+s−’(C104
−) 。
BrC106S) 計算値C%>: C53,4B、 8 4.83実測値
($): C53,34,H4,87I R(KBr)
+1700(CO)、 l100c+s−’(C104
−) 。
NMR(CF3CO2H) : δ 2.50 (8
H,s、 CH3)5.90 (2H,s、 CH2)
、 、 7.55 (4H,d、 J=9.0 Hz。
H,s、 CH3)5.90 (2H,s、 CH2)
、 、 7.55 (4H,d、 J=9.0 Hz。
3.8〜4.2 (48,ts、 THF(7) C’
、C’プロトン)、1.9〜2.2ppm(4H,rm
、 THFのC2,C”プロトン)実施例3. 過塩素
酸ビス(p−メトキシフェニル)P−クロロフェナシル
スルホニウムの 合成 硫化p−メトキシフェニル 3.7g (15mmol
)とp−クロロフェナシルプロマイI’ 3.7g
(15,8mmo l)とを二塩化エチレン 25−に
溶解し、これに撹拌下過塩素酸銀(純度90%) 3
.4g (15mmol)を少量ずつ加えた後、緩やか
に還流させながら10時間撹拌反応を行なった0反応後
濾過して不溶物を除き、7戸液を漬縮して得た油状物に
THFを加えて放置し、結晶を析出せしめた後、析出晶
をTHFで再結晶して無色プリズム晶6.3gを得た。
、C’プロトン)、1.9〜2.2ppm(4H,rm
、 THFのC2,C”プロトン)実施例3. 過塩素
酸ビス(p−メトキシフェニル)P−クロロフェナシル
スルホニウムの 合成 硫化p−メトキシフェニル 3.7g (15mmol
)とp−クロロフェナシルプロマイI’ 3.7g
(15,8mmo l)とを二塩化エチレン 25−に
溶解し、これに撹拌下過塩素酸銀(純度90%) 3
.4g (15mmol)を少量ずつ加えた後、緩やか
に還流させながら10時間撹拌反応を行なった0反応後
濾過して不溶物を除き、7戸液を漬縮して得た油状物に
THFを加えて放置し、結晶を析出せしめた後、析出晶
をTHFで再結晶して無色プリズム晶6.3gを得た。
このものは分子中に1分子のTHFを含むTHF付加物
であることが元素分析及びNMRの結果から明らかとな
った。収率73.4%、 m、p、97〜100℃元素
分析値(THFI分子付加物としてC2B)!28CI
2089 ) 計算値C%): C54,65,H4,94実測値(χ
): C54,8B、 H5,05I R(KBr):
1700((1:O)、 1100cm−’(C104
−) 。
であることが元素分析及びNMRの結果から明らかとな
った。収率73.4%、 m、p、97〜100℃元素
分析値(THFI分子付加物としてC2B)!28CI
2089 ) 計算値C%): C54,65,H4,94実測値(χ
): C54,8B、 H5,05I R(KBr):
1700((1:O)、 1100cm−’(C104
−) 。
のとして、3.8〜4.2 (4B、 rx、 C’、
C’プロトン)、1.8〜2.2 pp履 (4H
1履 c2.c3プロ ト ン) 。
C’プロトン)、1.8〜2.2 pp履 (4H
1履 c2.c3プロ ト ン) 。
実施例4〜9
実施例1〜3の方法に準じて下記4〜9のスルホニウム
塩を合成した。物性、恒数等を表1に示す。
塩を合成した。物性、恒数等を表1に示す。
私考例1゜
下記4種の本発明スルホニウム塩及び比較としてベンゾ
インエチルエーテル(以下、PS−8Aと略称する。)
を夫々重合開始剤として用い、下記重合条件、重合方法
によりMMAの光塊状重合を行ない、重合活性の比較を
行なった。
インエチルエーテル(以下、PS−8Aと略称する。)
を夫々重合開始剤として用い、下記重合条件、重合方法
によりMMAの光塊状重合を行ない、重合活性の比較を
行なった。
[使用したスルホこラム塩]
[ff1合条件]
Imm剤濃度+IX 10’mol/+ (但L、化合
物No 。
物No 。
9はMMAに完溶しない為、上澄液を飽和溶液と見做し
て仕込みを行なった。) 光源: 100W高圧水銀灯、距離7cmで照射重合
温度:】8〜19℃(水冷下) [重合方法] 所定量の開始剤を溶解した七ツマー各5dをパイレック
ス製重合管中に仕込み、凍結排気法により溶存酸素を脱
気して除き減圧溶封した。これを水冷した光重合装置に
付し所定時間重合を行なった後1重合管を開封し、重合
反応液を約200dのメタノール中に注入してポリマー
を析出、沈鍛させた。−夜放置後グラスフィルター(I
G 4)で沈澱を枦取し、減圧乾燥してポリマーの@量
を求め、下式により、重合率を算出した。
て仕込みを行なった。) 光源: 100W高圧水銀灯、距離7cmで照射重合
温度:】8〜19℃(水冷下) [重合方法] 所定量の開始剤を溶解した七ツマー各5dをパイレック
ス製重合管中に仕込み、凍結排気法により溶存酸素を脱
気して除き減圧溶封した。これを水冷した光重合装置に
付し所定時間重合を行なった後1重合管を開封し、重合
反応液を約200dのメタノール中に注入してポリマー
を析出、沈鍛させた。−夜放置後グラスフィルター(I
G 4)で沈澱を枦取し、減圧乾燥してポリマーの@量
を求め、下式により、重合率を算出した。
[結 果]
重合時間と重合率との関係を表わした重合率曲線を第1
図に示す。但し、化合物No、5の場合は。
図に示す。但し、化合物No、5の場合は。
−+1)0−−’l?、No、6は一夕→!で、No、
2は−0−+−で、No、9は→÷で夫々示し、PS−
8Aの場合は→−×−で示しである。また、重合開始剤
を全く使用しないで重合した場合のデーターをブランク
として一番4−で示した。
2は−0−+−で、No、9は→÷で夫々示し、PS−
8Aの場合は→−×−で示しである。また、重合開始剤
を全く使用しないで重合した場合のデーターをブランク
として一番4−で示した。
第1図より明らかな如く、本発明化合物はいずれも既存
の代表的光重合開始剤であるPS−8Aよりも重合活性
が高い。
の代表的光重合開始剤であるPS−8Aよりも重合活性
が高い。
参考例2.
3種の本発明スルホニウム塩及び比較としてPS−8A
を夫々重合開始剤として用い、下記重合条件1重合方法
によりMMAの光塊状重合を行ない、重合活性の比較を
行なった。
を夫々重合開始剤として用い、下記重合条件1重合方法
によりMMAの光塊状重合を行ない、重合活性の比較を
行なった。
[重合条件]
開始剤濃度: L X 10’mol/l (但し、N
o、7及びNo、8はMMAに完溶しないので、上澄飽
和液を用いた。) 光源: 100W高圧水銀灯、距17cmで照射重合
温度:16〜17℃(水冷下) [重合方法〕 参考例1.2と同じ。
o、7及びNo、8はMMAに完溶しないので、上澄飽
和液を用いた。) 光源: 100W高圧水銀灯、距17cmで照射重合
温度:16〜17℃(水冷下) [重合方法〕 参考例1.2と同じ。
[結 果]
各重合開始剤についての重合時間と重合率との関係を表
2に示す、尚、重合開始剤を全く使用しないで重合を行
なった場合のデータをブランクとして併記する。
2に示す、尚、重合開始剤を全く使用しないで重合を行
なった場合のデータをブランクとして併記する。
以下余白
(1\。
また、参考例1と同様にして作成した重合率曲線を第2
図に示す、但し、N007の場合は一@十でNo、3の
場合は斗にでNo、8の場合は一一ドで夫々示し、PS
−8Aの場合は−×−×−で示しである。
図に示す、但し、N007の場合は一@十でNo、3の
場合は斗にでNo、8の場合は一一ドで夫々示し、PS
−8Aの場合は−×−×−で示しである。
また、ブランクは→←1で示した。
第2図より明らかな如く、本参考例に於ても本発明のス
ルホニウム塩がPS−8Aよりも重合活性が高いことが
判る。
ルホニウム塩がPS−8Aよりも重合活性が高いことが
判る。
以上述べた如く、本発明は、光重合開始剤としての用途
が期待できる新規なスルホニウム塩を提供するものであ
り、これを光重合開始剤として用いた場合には1重合活
性が高く、また、臭気も毒性も殆ど無く、安定性にも優
れたものである点にWJ著な効果を奏するものである。
が期待できる新規なスルホニウム塩を提供するものであ
り、これを光重合開始剤として用いた場合には1重合活
性が高く、また、臭気も毒性も殆ど無く、安定性にも優
れたものである点にWJ著な効果を奏するものである。
第1図、第2図は、夫々参考例1.参考例2に係る重合
率曲線を示し、横軸の各反応時間に於ける重合率を縦軸
に沿ってプロットした点を結んだものである。 但し、−(1’−0−は本発明化合物No、2を用いた
場合、−0−0−は本発明化合物No、5を用いた場合
、−△−−は本発明化合物No、8を用いた場合、→→
−は本発明化合物N013を用いた場合、→−←は本発
明化合物No、3を用いた場合、−α→−は本発明化合
物No、 7を用いた場合、−14−は本発明化合物N
o、8を用いた場合、−x電−はベンゾインエチルエー
テルを用いた場合を夫々表わし、→←はブランクを表わ
す。 特許出願人 和光紬薬][業株式会社 笛10 1ビ 、a〜 #? gノミ (#−ン第 2
田 を今時間(カ 手続補正書 昭和61年11月27日 昭和60年 特許願 第190656号2、発明の名称 新規なスルホニウム塩 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒 541 住 所 大阪府大阪市東区道峰町3丁目10番地連絡先
特許法(東京)置03−270−85714、補正命
令の日付 自発 ン 6、補正の内容 (1)明細書13頁の表1と同14頁の参考例1の間に
実施例10〜実施例19を下記の如く挿入する。 「実施例10. 四弗化硼酸ビス(p−メトキシフェ
ニル)p−クロロフェナシルスルホニウムの合成 実施例3に於ける過塩素酸銀(純度90χ)3.4gを
四弗化硼酸銀2.9gに代える以外は実施例3と全く同
様にして四弗化硼酸ビス(p−メトキシフェニル〉p−
クロロフェナシルスルホニウムのTHF付加物6.88
を得た。収率81.1%。糊、9.77〜79℃。 元素分析値(T)IF1分子付加物としてC26H28
Bに、IF404S) 計算値(%): C55,88,H5,05実測値(%
) : C’ 55.67、 H4,97゜IR及び
NMRは実施例3の化合物と同じ。 実施例11〜17 実施例10の方法に準じて下記11〜17のスルホニウ
ム塩を合成した。結果を表2に示す。 実施例18.六弗化アンチモン酸ジフェニルp −クロ
ロフェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル10g(54imo l )とp−クロロ
フェナシルブロマイド19.6g(84vwol)とを
二塩化エチレン1001に溶解した。次いて、この溶液
に撹拌下、六弗化アンチモン酸銀18.5g(54n+
剛of)を少量づつ加え、遮光上反応混合物を室温で5
時閘攪拌した。反発後不溶物を濾去し、濾液を濃縮して
得た残渣に二塩化メチレンを加え、暫時放置した。析出
晶を濾取し、メタノールで再結晶すると無色のプリズム
晶24.8gが得られた。収率80.3χ。1.1.1
72〜173℃。 元素分析値(C20H,16CIF60SSb)計算値
(%): C41,,73,H2,80実測1m (%
’) :C41,70,H2,68゜T R(K B
r ) : 1680(Co)、655cn+−’(
SbF6)N M R(DMSO−d6) :δ 6.
60(2)1.s、Ch)、?−4〜8.3ppm(1
4)1.m、ArH)。 実施例19.六弗化アンチモン酸ジフェニルp−プロモ
フェナシルスルホニウムの合成 実施例18のp−クロロフェナシルブロマイドに代えて
p−ブロモフェナシルブロマイド23.3g(84ml
Iof)を用いた以外は、実施例1日と全く同様にして
、六弗化アンチモン酸ジフェニルp−ブロモフェナシル
スルホニウムのプリズム晶25.6gを得た。収率76
.9%。糟、9.171〜173.5℃。 元素分析値(C2o)fteBrFao S Sb)計
算値(%) : C38,74,H2,60実測値(%
) : C38,67、H2,54゜I R(K B
r ) : 1680(Co)、 655c
II−1(SbF6−1)N M R(DMSClda
) :δ 6.50(2)1.s、CH2)、7.3〜
8.3ppm(14)1.m、ArH)。」(2)明細
書I7頁5行目に記載の「表2に示す。」を「表3に示
す。」と補正する。 (3)明5A書18頁の1表2」をr表3」と補正する
。 以上
率曲線を示し、横軸の各反応時間に於ける重合率を縦軸
に沿ってプロットした点を結んだものである。 但し、−(1’−0−は本発明化合物No、2を用いた
場合、−0−0−は本発明化合物No、5を用いた場合
、−△−−は本発明化合物No、8を用いた場合、→→
−は本発明化合物N013を用いた場合、→−←は本発
明化合物No、3を用いた場合、−α→−は本発明化合
物No、 7を用いた場合、−14−は本発明化合物N
o、8を用いた場合、−x電−はベンゾインエチルエー
テルを用いた場合を夫々表わし、→←はブランクを表わ
す。 特許出願人 和光紬薬][業株式会社 笛10 1ビ 、a〜 #? gノミ (#−ン第 2
田 を今時間(カ 手続補正書 昭和61年11月27日 昭和60年 特許願 第190656号2、発明の名称 新規なスルホニウム塩 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒 541 住 所 大阪府大阪市東区道峰町3丁目10番地連絡先
特許法(東京)置03−270−85714、補正命
令の日付 自発 ン 6、補正の内容 (1)明細書13頁の表1と同14頁の参考例1の間に
実施例10〜実施例19を下記の如く挿入する。 「実施例10. 四弗化硼酸ビス(p−メトキシフェ
ニル)p−クロロフェナシルスルホニウムの合成 実施例3に於ける過塩素酸銀(純度90χ)3.4gを
四弗化硼酸銀2.9gに代える以外は実施例3と全く同
様にして四弗化硼酸ビス(p−メトキシフェニル〉p−
クロロフェナシルスルホニウムのTHF付加物6.88
を得た。収率81.1%。糊、9.77〜79℃。 元素分析値(T)IF1分子付加物としてC26H28
Bに、IF404S) 計算値(%): C55,88,H5,05実測値(%
) : C’ 55.67、 H4,97゜IR及び
NMRは実施例3の化合物と同じ。 実施例11〜17 実施例10の方法に準じて下記11〜17のスルホニウ
ム塩を合成した。結果を表2に示す。 実施例18.六弗化アンチモン酸ジフェニルp −クロ
ロフェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル10g(54imo l )とp−クロロ
フェナシルブロマイド19.6g(84vwol)とを
二塩化エチレン1001に溶解した。次いて、この溶液
に撹拌下、六弗化アンチモン酸銀18.5g(54n+
剛of)を少量づつ加え、遮光上反応混合物を室温で5
時閘攪拌した。反発後不溶物を濾去し、濾液を濃縮して
得た残渣に二塩化メチレンを加え、暫時放置した。析出
晶を濾取し、メタノールで再結晶すると無色のプリズム
晶24.8gが得られた。収率80.3χ。1.1.1
72〜173℃。 元素分析値(C20H,16CIF60SSb)計算値
(%): C41,,73,H2,80実測1m (%
’) :C41,70,H2,68゜T R(K B
r ) : 1680(Co)、655cn+−’(
SbF6)N M R(DMSO−d6) :δ 6.
60(2)1.s、Ch)、?−4〜8.3ppm(1
4)1.m、ArH)。 実施例19.六弗化アンチモン酸ジフェニルp−プロモ
フェナシルスルホニウムの合成 実施例18のp−クロロフェナシルブロマイドに代えて
p−ブロモフェナシルブロマイド23.3g(84ml
Iof)を用いた以外は、実施例1日と全く同様にして
、六弗化アンチモン酸ジフェニルp−ブロモフェナシル
スルホニウムのプリズム晶25.6gを得た。収率76
.9%。糟、9.171〜173.5℃。 元素分析値(C2o)fteBrFao S Sb)計
算値(%) : C38,74,H2,60実測値(%
) : C38,67、H2,54゜I R(K B
r ) : 1680(Co)、 655c
II−1(SbF6−1)N M R(DMSClda
) :δ 6.50(2)1.s、CH2)、7.3〜
8.3ppm(14)1.m、ArH)。」(2)明細
書I7頁5行目に記載の「表2に示す。」を「表3に示
す。」と補正する。 (3)明5A書18頁の1表2」をr表3」と補正する
。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、R^1、R^2は夫々独立して水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
し、R^3は水素原子又はハロゲン原子を表わす(但し
、R^1、R^2が共に水素原子である場合にはR^3
はハロゲン原子を表わす。)。また、Xはルイス酸残基
を表わす。]で示されるスルホニウム塩又はその溶媒付
加物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19065685A JPS6251661A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 新規なスルホニウム塩 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19065685A JPS6251661A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 新規なスルホニウム塩 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6251661A true JPS6251661A (ja) | 1987-03-06 |
| JPH0580467B2 JPH0580467B2 (ja) | 1993-11-09 |
Family
ID=16261718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19065685A Granted JPS6251661A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 新規なスルホニウム塩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6251661A (ja) |
-
1985
- 1985-08-29 JP JP19065685A patent/JPS6251661A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0580467B2 (ja) | 1993-11-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |