JPS6251661A - 新規なスルホニウム塩 - Google Patents

新規なスルホニウム塩

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JPS6251661A
JPS6251661A JP19065685A JP19065685A JPS6251661A JP S6251661 A JPS6251661 A JP S6251661A JP 19065685 A JP19065685 A JP 19065685A JP 19065685 A JP19065685 A JP 19065685A JP S6251661 A JPS6251661 A JP S6251661A
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sulfonium salt
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貞 片岡
Mikiaki Tanaka
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Tsutomu Miyagawa
力 宮川
Hideo Takeuchi
秀夫 竹内
Hideaki Tone
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、光重合開始剤等として有用な新規なスルホニ
ウム塩に関する。
〔発明の背景〕
不飽和結合を分子中に有するモノマー、オリゴマー、プ
レポリマーが光重合開始剤の存在下で光 −重合、光硬
化することはよく知られている。
光重合法、光硬化法は熱重合法、熱硬化法と比べ、低温
、迅速に重合、硬化できるので、生産性向し、省エネル
ギー、無公害等の利点があり、染料、印刷インキ、フォ
トレジスト等の分野に於て広く用いられている。
かかる目的に使用される光重合開始剤としては従来から
種々の物質が提案され、使用されている0例えば、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル等のベンゾイン類、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ミヒラーズケトン等のケトン類、アゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物類、
アントラキノン、1.2−ベンズアントラキノン等のキ
ノン類、ジベンゾチアゾリルスルフィド、デシルフェニ
ルスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド等の
fdi黄化金化合物類臭化炭素、トリブロムフェニルス
ルホン酸等のハロゲン化合物類など紫外線の作用下でラ
ジカルを発生する光重合開始剤が代表的なものとして挙
げられる。
しかしながら、これらの光重合開始剤はいずれもその重
合活性の点に於て未だ充分満足できるものではなく、ま
た、その他の点、即ち、毒性、臭気、熱安定性、貯蔵安
定性、溶解性等の点に於ても、夫々一長一短があって、
全ての点に満足し得る優れた光重合開始剤はこれまでに
未だない。
従って、これら全ての点に於て優れた特性を有する更に
新しいタイプの光重合開始剤が渇望されている現状にあ
る。
〔発明に目的〕
本発明は、上記した如き現状に鑑みなされたもので、新
しいタイプの光重合開始剤等としての用途が期待できる
新規なスルホニウム塩を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明は、一般式(I) [式中、R1,R2は夫々独立1.て水素原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わし
、R3は水素原子又はハロゲン原子を表ゎ残基を表わす
、]で示されるスルホニウム塩又はその溶媒付加物の発
明であるや 一般式III で示される本発明のスルホニウム塩に於
てR1,R2で表わされる低級アルキル基としては、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基。
ブチル基、ペンチル基等炭素数1〜5の低級アルキル基
が挙げられ、低級アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等炭素
数1〜4の低級アルコキシ基が挙げられ、ハロゲン原子
としては、塩素、臭素、弗素、沃素等が挙げられる。ま
た、R3で表わされるハロゲン原子としては、塩素、臭
素、弗素、沃素等が挙げられる。また、Xで表わされる
ルイス酸残基としては1例えば、四弗化硼素酸、過塩素
酸、六弗化アンチモン酸、六弗化砒素酸、リン酸等の酸
残基が挙げられる。
本発明のスルホニウム塩は例えば、日化誌、ゼ(7)、
 75 (19H)に記載の方法に準じて、一般に下記
の如くして容易に合成し得る。
即ち、ジアリールスルフィドと、ブロモアセトフェノン
誘導体とを例えばハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メ
チレン、塩化エチレン、クロロホルム、テトラクロロエ
タン等)中、例えば、過塩素酸銀、四弗化硼酸銀等の銀
塩や過塩素酸アルカリ、四弗化硼酸アルカリ、六弗化ア
ンチモン酸アルカリ等のアルカリ金属塩等の存在下に室
温乃至加温下に数時間乃至数日間撹拌反応させる0反応
後、濾過して不溶物を除き、炉液を濃縮して得られるシ
ロップ状物をそのまま又は要すればエーテル、テトラヒ
ドロフラン(THF)等で結晶化させた後、クロロホル
ム−エーテル混液、アセトン−エーテル混液、塩化メチ
レン−エーテル混液、アセトニトリル、THF等適当な
溶媒で再結晶すれば、目的とするスルホニウム塩が容易
に得られる。但し、該スルホニウム塩の種類により、ま
た、用いた晶出溶媒の種類によっては溶媒付加物を形成
することもある(例えば、前記一般式[1] に於て、
R1,R2が低級アルキル基又は低級アルコキシ基等で
あるスルホニウム塩の場合、THEを品出溶媒に用いた
ときには該スルホニウム塩は1分子のTHF付加物とな
る。)。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物は、例えば
光ラジカル重合、光カチオン重合等、光重合に於ける重
合開始剤と出用途が期待できる。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物を光重合開
始剤として用いる場合、これを単独で用いても、また要
すれば、他の光重合開始剤や光増感剤と適宜併用して用
いても随意である。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物は、これを
光重合開始剤として用いた場合、特に臭気、毒性等の問
題点も無く、安定性にも優れてぉり、また既存の代表的
な光重合開始剤であるベンゾインエチルエーテルなどよ
りも重合活性が高いので極めて有用である。
本発明のスルホニウム塩又はその溶媒付加物からなる光
重合開始剤は1例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、フマル酸、マレイン酸及びその無水物、フタル
酸及びその無水物等の不飽和酸、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、アクリ゛ル酸ヒドロキシエチル、マレイン酸ジエ
チル。
フマル酸ジメチル、エチレングリコールジアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ビスフェノ
ールAジアクリレート等の不飽和酸エステル、及びスチ
レン、アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル
、N−ビニルピロリドン等のモノマー、更には、不飽和
ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリウレタ
ン、エポキシアクリレート等、重合性のエチレン系不飽
和結合を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー等の光
重合、光硬化に効果的に使用し得る。
以下に実施例及び参考例を示すが、本発明はこれら実施
例、参考例により同等制約を受けるものではない。
〔実施例〕
実施例1. 過塩素酸ジフェニルp−クロロフェナシル
スルホニウムの合成 硫化フェニル 2.8g (15n*ol)とP−クロ
ロフェナシルブロマイド 5.4g(23mmo l)
とを二塩化エチレン 251111! +Z溶解した0
次いで、この溶液に撹拌下、過塩素Mi銀(純度90%
) 3.4g (15n*ol)を少量ずつ加え、遮光
下反応混合物を室温で3時間撹拌した0反応後不溶物を
枦去し、炉液を濃縮して得た残渣にエーテルを加え、暫
時放置した。析出病を・枦取し、アセトニトリルで再結
晶すると無色のプリズム晶 4.1gが得られた。収率
62,2%。
厘、p、 195〜198℃。
元素分析値(C20H1BC1205S)計算値C%)
: C54,88,H3,8?実測値(%): C54
,4B、 H3,85I R(KBr):1895.1
Ei80(GO)、 1100cm−’(C104−)
N M R(CF3C:02H) :  δ 6.00
 (2H,s、 CH2)。
8.2  ppm  (12H,ts、  ArH)。
実施例2. 過塩素酸ビス(p−トリル)p−ブロモフ
ェナシルスルホニウムの合成 硫化P−1リル 3.2g (15anal)とp−ブ
ロモフェナシルブロマイド 4.75g (17,1m
mol)とを塩化メチレン 251に溶解し、これに撹
拌下過塩素酸銀(純度90%)  3.4g (15m
eal)を少量ずつ加えた。加え終った後、遮光下、緩
やかに還流させながら12時間撹拌反応を行なった0反
応後吸引が過して不純物を除き、炉液を濃縮して得た油
状物にTHFを加えて放置し結晶を析出せしめた後、析
出病をアセトン−エーテルで再結晶して無色プリズム晶
 5.5gを得た。このものは分子中に1分子のアセト
ンを含むアセトン付加物であることが元素分析及びNM
Rより明らかとなった。収J84.3%0m、p、83
〜85℃。
元素分析値(アセトン1分子付加物としてC25H26
BrCIOBS ) 計算値C%): C52,70,H4,60実X1ll
 イa($):  C52,32,H4,57I R(
KBr):1700(Co)、 1100cIl−’(
C104−) 。
〜8.01ppm  (8B、rn、Ar)l)。
また、前記方法と同様に反応、後処理を行ない、得られ
た粗品をTHFで再結晶して無色プリズム品 5.8g
を得た。このものは元素分析及びNMRより分子中に1
分子のTHFを含むTHF付加物であることが確認され
た。収率66.5%、 m、p。
121−124℃。
元素分析値(THFI分子付加物として02BHH2B
BrC106S) 計算値C%>: C53,4B、 8 4.83実測値
($): C53,34,H4,87I R(KBr)
+1700(CO)、 l100c+s−’(C104
−) 。
NMR(CF3CO2H) :  δ 2.50 (8
H,s、 CH3)5.90 (2H,s、 CH2)
、 、 7.55 (4H,d、 J=9.0 Hz。
3.8〜4.2 (48,ts、 THF(7) C’
、C’プロトン)、1.9〜2.2ppm(4H,rm
、 THFのC2,C”プロトン)実施例3. 過塩素
酸ビス(p−メトキシフェニル)P−クロロフェナシル
スルホニウムの 合成 硫化p−メトキシフェニル 3.7g (15mmol
)とp−クロロフェナシルプロマイI’  3.7g 
(15,8mmo l)とを二塩化エチレン 25−に
溶解し、これに撹拌下過塩素酸銀(純度90%)  3
.4g (15mmol)を少量ずつ加えた後、緩やか
に還流させながら10時間撹拌反応を行なった0反応後
濾過して不溶物を除き、7戸液を漬縮して得た油状物に
THFを加えて放置し、結晶を析出せしめた後、析出晶
をTHFで再結晶して無色プリズム晶6.3gを得た。
このものは分子中に1分子のTHFを含むTHF付加物
であることが元素分析及びNMRの結果から明らかとな
った。収率73.4%、 m、p、97〜100℃元素
分析値(THFI分子付加物としてC2B)!28CI
2089 ) 計算値C%): C54,65,H4,94実測値(χ
): C54,8B、 H5,05I R(KBr):
1700((1:O)、 1100cm−’(C104
−) 。
のとして、3.8〜4.2 (4B、 rx、 C’、
 C’プロトン)、1.8〜2.2  pp履 (4H
1履 c2.c3プロ ト ン) 。
実施例4〜9 実施例1〜3の方法に準じて下記4〜9のスルホニウム
塩を合成した。物性、恒数等を表1に示す。
私考例1゜ 下記4種の本発明スルホニウム塩及び比較としてベンゾ
インエチルエーテル(以下、PS−8Aと略称する。)
を夫々重合開始剤として用い、下記重合条件、重合方法
によりMMAの光塊状重合を行ない、重合活性の比較を
行なった。
[使用したスルホこラム塩] [ff1合条件] Imm剤濃度+IX 10’mol/+ (但L、化合
物No 。
9はMMAに完溶しない為、上澄液を飽和溶液と見做し
て仕込みを行なった。) 光源:  100W高圧水銀灯、距離7cmで照射重合
温度:】8〜19℃(水冷下) [重合方法] 所定量の開始剤を溶解した七ツマー各5dをパイレック
ス製重合管中に仕込み、凍結排気法により溶存酸素を脱
気して除き減圧溶封した。これを水冷した光重合装置に
付し所定時間重合を行なった後1重合管を開封し、重合
反応液を約200dのメタノール中に注入してポリマー
を析出、沈鍛させた。−夜放置後グラスフィルター(I
G 4)で沈澱を枦取し、減圧乾燥してポリマーの@量
を求め、下式により、重合率を算出した。
[結 果] 重合時間と重合率との関係を表わした重合率曲線を第1
図に示す。但し、化合物No、5の場合は。
−+1)0−−’l?、No、6は一夕→!で、No、
2は−0−+−で、No、9は→÷で夫々示し、PS−
8Aの場合は→−×−で示しである。また、重合開始剤
を全く使用しないで重合した場合のデーターをブランク
として一番4−で示した。
第1図より明らかな如く、本発明化合物はいずれも既存
の代表的光重合開始剤であるPS−8Aよりも重合活性
が高い。
参考例2. 3種の本発明スルホニウム塩及び比較としてPS−8A
を夫々重合開始剤として用い、下記重合条件1重合方法
によりMMAの光塊状重合を行ない、重合活性の比較を
行なった。
[重合条件] 開始剤濃度: L X 10’mol/l (但し、N
o、7及びNo、8はMMAに完溶しないので、上澄飽
和液を用いた。) 光源:  100W高圧水銀灯、距17cmで照射重合
温度:16〜17℃(水冷下) [重合方法〕 参考例1.2と同じ。
[結 果] 各重合開始剤についての重合時間と重合率との関係を表
2に示す、尚、重合開始剤を全く使用しないで重合を行
なった場合のデータをブランクとして併記する。
以下余白 (1\。
また、参考例1と同様にして作成した重合率曲線を第2
図に示す、但し、N007の場合は一@十でNo、3の
場合は斗にでNo、8の場合は一一ドで夫々示し、PS
−8Aの場合は−×−×−で示しである。
また、ブランクは→←1で示した。
第2図より明らかな如く、本参考例に於ても本発明のス
ルホニウム塩がPS−8Aよりも重合活性が高いことが
判る。
〔発明の効果〕
以上述べた如く、本発明は、光重合開始剤としての用途
が期待できる新規なスルホニウム塩を提供するものであ
り、これを光重合開始剤として用いた場合には1重合活
性が高く、また、臭気も毒性も殆ど無く、安定性にも優
れたものである点にWJ著な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は、夫々参考例1.参考例2に係る重合
率曲線を示し、横軸の各反応時間に於ける重合率を縦軸
に沿ってプロットした点を結んだものである。 但し、−(1’−0−は本発明化合物No、2を用いた
場合、−0−0−は本発明化合物No、5を用いた場合
、−△−−は本発明化合物No、8を用いた場合、→→
−は本発明化合物N013を用いた場合、→−←は本発
明化合物No、3を用いた場合、−α→−は本発明化合
物No、 7を用いた場合、−14−は本発明化合物N
o、8を用いた場合、−x電−はベンゾインエチルエー
テルを用いた場合を夫々表わし、→←はブランクを表わ
す。 特許出願人 和光紬薬][業株式会社 笛10 1ビ  、a〜 #? gノミ   (#−ン第 2 
田 を今時間(カ 手続補正書 昭和61年11月27日 昭和60年 特許願 第190656号2、発明の名称 新規なスルホニウム塩 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒 541 住 所 大阪府大阪市東区道峰町3丁目10番地連絡先
 特許法(東京)置03−270−85714、補正命
令の日付 自発 ン 6、補正の内容 (1)明細書13頁の表1と同14頁の参考例1の間に
実施例10〜実施例19を下記の如く挿入する。 「実施例10.  四弗化硼酸ビス(p−メトキシフェ
ニル)p−クロロフェナシルスルホニウムの合成 実施例3に於ける過塩素酸銀(純度90χ)3.4gを
四弗化硼酸銀2.9gに代える以外は実施例3と全く同
様にして四弗化硼酸ビス(p−メトキシフェニル〉p−
クロロフェナシルスルホニウムのTHF付加物6.88
を得た。収率81.1%。糊、9.77〜79℃。 元素分析値(T)IF1分子付加物としてC26H28
Bに、IF404S) 計算値(%): C55,88,H5,05実測値(%
)  : C’ 55.67、 H4,97゜IR及び
NMRは実施例3の化合物と同じ。 実施例11〜17 実施例10の方法に準じて下記11〜17のスルホニウ
ム塩を合成した。結果を表2に示す。 実施例18.六弗化アンチモン酸ジフェニルp −クロ
ロフェナシルスルホニウムの合成 硫化フェニル10g(54imo l )とp−クロロ
フェナシルブロマイド19.6g(84vwol)とを
二塩化エチレン1001に溶解した。次いて、この溶液
に撹拌下、六弗化アンチモン酸銀18.5g(54n+
剛of)を少量づつ加え、遮光上反応混合物を室温で5
時閘攪拌した。反発後不溶物を濾去し、濾液を濃縮して
得た残渣に二塩化メチレンを加え、暫時放置した。析出
晶を濾取し、メタノールで再結晶すると無色のプリズム
晶24.8gが得られた。収率80.3χ。1.1.1
72〜173℃。 元素分析値(C20H,16CIF60SSb)計算値
(%): C41,,73,H2,80実測1m (%
’) :C41,70,H2,68゜T R(K B 
r )  : 1680(Co)、655cn+−’(
SbF6)N M R(DMSO−d6) :δ 6.
60(2)1.s、Ch)、?−4〜8.3ppm(1
4)1.m、ArH)。 実施例19.六弗化アンチモン酸ジフェニルp−プロモ
フェナシルスルホニウムの合成 実施例18のp−クロロフェナシルブロマイドに代えて
p−ブロモフェナシルブロマイド23.3g(84ml
Iof)を用いた以外は、実施例1日と全く同様にして
、六弗化アンチモン酸ジフェニルp−ブロモフェナシル
スルホニウムのプリズム晶25.6gを得た。収率76
.9%。糟、9.171〜173.5℃。 元素分析値(C2o)fteBrFao S Sb)計
算値(%) : C38,74,H2,60実測値(%
) : C38,67、H2,54゜I  R(K B
  r )  :  1680(Co)、  655c
II−1(SbF6−1)N M R(DMSClda
) :δ 6.50(2)1.s、CH2)、7.3〜
8.3ppm(14)1.m、ArH)。」(2)明細
書I7頁5行目に記載の「表2に示す。」を「表3に示
す。」と補正する。 (3)明5A書18頁の1表2」をr表3」と補正する
。 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、R^1、R^2は夫々独立して水素原子、低級
    アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を表わ
    し、R^3は水素原子又はハロゲン原子を表わす(但し
    、R^1、R^2が共に水素原子である場合にはR^3
    はハロゲン原子を表わす。)。また、Xはルイス酸残基
    を表わす。]で示されるスルホニウム塩又はその溶媒付
    加物。
JP19065685A 1985-08-29 1985-08-29 新規なスルホニウム塩 Granted JPS6251661A (ja)

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