JPH0580467B2 - - Google Patents

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JPH0580467B2
JPH0580467B2 JP19065685A JP19065685A JPH0580467B2 JP H0580467 B2 JPH0580467 B2 JP H0580467B2 JP 19065685 A JP19065685 A JP 19065685A JP 19065685 A JP19065685 A JP 19065685A JP H0580467 B2 JPH0580467 B2 JP H0580467B2
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JP
Japan
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polymerization
mmol
thf
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nmr
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Mikio Hori
Sada Kataoka
Mikiaki Tanaka
Tsutomu Myagawa
Hideo Takeuchi
Hideaki Tone
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Fujifilm Wako Pure Chemical Corp
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Wako Pure Chemical Industries Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕 本発明は、光重合開始剤等として有用な新規な
スルホニウム塩に関する。 〔発明の背景〕 不飽和結合を分子中に有するモノマー、オリゴ
マー、プレポリマーが光重合開始剤の存在下で光
重合、光硬化することはよく知られている。 光重合法、光硬化法は熱重合法、熱硬化法と比
べ、低温、迅速に重合、硬化できるので、生産性
向上、省エネルギー、無公害等の利点があり、染
料、印刷インキ、フオトレジスト等の分野に於て
広く用いられている。 かかる目的に使用される光重合開始剤としては
従来から種々の物質が提案され、使用されてい
る。例えば、ベンゾイル、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン
類、ベンゾフエノン、アセトフエノン、ミヒラ−
ズケトン等のケトン類、アゾビスイソブチロニト
リル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物類、アン
トラキノン、1,2−ベンズアントラキノン等の
キノン類、ジベンゾチアゾリルスルフイド、デシ
ルフエニルスルフイド、テトラエチルチウラムジ
スルフイド等の硫黄化合物類、四臭化炭素、トリ
ブロムフエニルスルホン酸等のハロゲン化合物類
など紫外線の作用下でラジカルを発生する光重合
開始剤が代表的なものとして挙げられる。 しかしながら、これらの光重合開始剤はいずれ
もその重合活性の点に於て未だ充分満足できるも
のではなく、また、その他の点、即ち、毒性、臭
気、熱安定性、貯蔵安定性、溶解性等の点に於て
も、夫々一長一短があつて、全ての点で満足し得
る優れた光重合開始剤はこれまでに未だない。従
つて、これら全ての点に於て優れた特性を有する
更に新しいタイプの光重合開始剤が渇望されてい
る現状にある。 〔発明の目的〕 本発明は、上記した如き現状に鑑みなされたも
ので、新しいタイプの光重合開始剤等としての用
途が期待できる新規なスルホニウム塩を提供する
ことと目的とする。 〔発明の概要〕 本発明は、一般式〔〕
〔実施例〕
実施例1 過塩素酸ジフエニルp−クロロフエナ
シルスルホニウムの合成 硫化フエニル 2.8g(15mmol)とp−クロロ
フエナシルブロマイド5.4g(23mmol)とを二塩
化エチレン25mlに溶解した。次いで、この溶液に
攪拌下、過塩素酸銀(純度90%)3.4g
(15mmol)を少量ずつ加え、遮光下反応混合物
を室温で3時間攪拌した。反応後不溶物を去
し、液を濃縮して得た残渣にエーテルを加え、
暫時放置した。析出晶を取し、アセトニトリル
で再結晶すると無色のプリズム晶4.1gが得られ
た。収率62.2%,m.p.195〜198℃。 元素分析値(C20H16Cl2O5S) 計算値(%):C 54.68,H 3.67 実測値(%):C 54.48,H 3.65 IR(KBr):1695,1680(CO),1100cm-1(ClO4
) NMR(CF3CO2H):δ 6.00(2H,s,CH2)、
7.53(2H,d,j=9.0Hz,
【式】),7.50〜8.2ppm (12H,m,ArH)。 実施例2 過塩素酸ビス(p−トリル)p−ブロ
モフエナシルスルホニウムの合成 硫化p−トリル 3.2g(15mmol)とp−ブロ
モフエナシルブロマイド 4.75g(17.1mmol)
とを塩化メチレン 25mlに溶解し、これに攪拌下
過塩素酸銀(純度90%)3.4g(15mmol)を少量
ずつ加えた。加え終つた後、遮光下、緩やかに還
流させながら12時間攪拌反応を行なつた。反応後
吸引過して不純物を除き、液を濃縮して得た
油状物にTHFを加えて放置し結晶を析出せしめ
た後、析出晶をアセトン−エーテルで再結晶して
無色プロズム晶 5.5gを得た。このものは分子
中に1分子のアセトンを含むアセトン付加物であ
ることが元素分析及びNMRより明らかとなつ
た。収率64.3%。m.p.83〜85℃。 元素分析値(アセトン1分子付加物として C25H26BrClO6S) 計算値(%):C 52.70,H 4.60 実測値(%):C 52.32,H 4.57 IR(KBr):1700(CO),1100cm-1(ClO4 -)。 NMR(CF3CO2H):δ 2.05(6H,s,CH3
COCH3),2.50(6H,s,CH3),5.90(2H,
S,CH2),7.55(4H,d,J=9.0Hz.
【式】),7.70〜8.01ppm (8H,m,ArH)。 また、前記方法と同様に反応、後処理を行な
い、得られた粗晶をTHFで再結晶して無色プリ
ズム晶 5.8gを得た。このものは元素分析及び
NMRより分子中に1分子のTHFを含むTHF付
加物であることが確認された。収率66.5%。m.
p.121〜124℃。 元素分析値(THF1分子付加物として C26H28BrClO6S) 計算値(%):C 53.48,H 4.83 実測値(%):C 53.34,H 4.87 IR(KBr):1700(CO),1100cm-1(ClO4 -)。 NMR(CF3CO2H):δ 2.50(6H,s,CH3),
5.90(2H,s,CH2),7.55(4H,d,J=9.0
Hz.
【式】),7.70〜8.01ppm (8H,m,ArH),3.8〜4.2(4H,m,THF
のC1,C4プロトン),1.9〜2.2ppm(4H,m,
THFのC2,C3プロトン) 実施例3 過塩素酸ビス−(p−メトキシフエニ
ル)p−クロロフエナシルスルホニウムの合成 硫化p−メトキシフエニル3.7g(15mmol)と
p−クロロフエナシルブロマイド 3.7g
(15.8mmol)とを二塩化エチレン 25mlに溶解
し、これに攪拌下過塩素酸銀(純度90%) 3.4
g(15mmol)を少量ずつ加えた後、緩やかに還
流させながら10時間攪拌反応を行なつた。反応後
過して不溶物を除き、液を濃縮して得た油状
物にTHFに加えて放置し、結晶を析出せしめた
後、析出晶をTHFで再結晶して無色プリズム晶
6.3gを得た。このものは分子中に1分子の
THFを含むTHF付加物であることが元素分析及
びNMRの結果から明らかとなつた。収率73.4%.
m.p.97〜100℃ 元素分析値(THF1分子付加物として C26H28Cl2O8S) 計算値(%):C 54.65,H 4.94 実測値(%):C 54.66,H 5.05 IR(KBr):1700(CO),1100cm-1(ClO4 -)。 NMR(CF3CO2H):δ 3.95(6H,s,
OCH3),7.27(4H,d,J=9.0Hz.
【式】),7.53(2H,d,J= 9.0Hz,
【式】),7.95(4H, d,J=9.0Hz,
【式】), 8.02ppm(2H,d,J=9.0Hz,
【式】),他にTHFに起因するも のとして、3.8〜4.2(4H,m,C1,C4プロト
ン)、1.9〜2.2ppm(4H,m.C2,C3プロト
ン)。 実施例 4〜9 実施例1〜3の方法に準じて下記4〜9のスル
ホニウム塩を合成した。物性、恒数等を表1に示
す。
【表】
【表】
【表】 実施例10 四弗化硼酸ビス(p−メトキシフエニ
ル)p−クロロフエナシルスルホニウムの合成 実施例3に於ける過塩素酸銀(純度90%)3.4
gを四弗化硼酸銀2.9gに代える以外は実施例3
と全く同様にして四弗化硼酸ビス(p−メトキシ
フエニル)p−クロロナエナシルスルホニウムの
THF付化物6.8gを得た。収率81.1%。m.p.77〜
79℃。 元素分析値(THF1分子付加物として C26H28Cl2O8S) 計算値(%):C 55.88,H 5.05 実測値(%):C 55.67,H 4.97。 IR及びNMRは実施例3の化合物と同じ。 実施例11〜17 実施例10の方法に準じて下記11〜17のスルホニ
ウム塩を合成した。結果を表2に示す。
【表】
【表】 実施例18 六弗化アンナモン酸ジフエニルp−ク
ロロフエナシルスルホニウムの合成 硫化フエニル10g(54mmol)とp−クロロフ
エナシルブロマイド19.6g(84mmol)とを二塩
化エチレン100mlに溶解した。次いで、この溶液
に攪拌下、六弗化アンチモン酸銀18.5g
(54mmol)を少量づつ加え、遮光下反応混合物
を室温で5時間攪拌した。反応後不溶物を濾過
し、濾液を濃縮して得た残渣にニ塩化メチレンを
加え、暫時放置した。析出晶を濾取し、メタノー
ルで再結晶すると無色のプリズム晶24.8gが得ら
れた。収率80.3%。m.p172〜173℃ 元素分析値(C20H16ClF6OSSb) 計算値(%):C 41.73,H 2.80 実測値(%):C 41.70,H 2.68。 IR(KBr):1680(CO),655cm-1(SbF6 -)。 NMR(DMSO−d6):δ 6.60(2H,s,
CH2),7.4〜8.3ppm(14H,m,ArH)。 実施例19 六弗化アンチモン酸ジフエニルp−ブ
ロモフエナシルスルホニウムの合成 実施例18のp−クロロフエナルシルブロマイド
に代えてp−ブロモフエナシルブロマイド23.3g
(84mmol)を用いた以外は、実施例18と全く同
様にして、六弗化アンチモンのプリズム晶25.6を
得た。収率76.9%。m.p.171〜173.5℃。 元素分析値(C20H16BrF6OSSb) 計算値(%):C 38.74,H 2.60 実測値(%):C 38.67,H 2.54。 IR(KBr):1680(CO),655cm-1(SbF6 -)。 NMR(DMSO−d6):δ 6.50(2H,s,
CH2),7.3〜8.3ppm(14H,m,ArH)。 参考例 1 下記4種の本発明スルホニウム塩及び比較とし
てベンゾインエチルエーテル(以下、PS−8Aと
略称する。)を夫々重合開始剤として用い、下記
重合条件、重合方法によりメタクリル酸メチル
(MMA)の光塊状重合を行ない、重合活性の比
較を行なつた。
【表】
【表】 [重合条件] 開始剤濃度:1×10-2mmol/1(但し、化合
物No.9はMMAに完溶しない為、上澄液を飽
和溶液と見做して仕込みを行なつた。) 光源:100W高圧水銀灯、距離7cmで照射 重合温度:18〜19℃(水冷下) [重合方法] 所定量の開始剤を溶解したモノマー各5mlをパ
イレツクス製重合管中に仕込み、凍結排気法によ
り溶存酸素を脱気して除き減圧熔封した。これを
水冷した光重合装置に付し所定時間重合を行なつ
た後、重合管を開封し、重合反応液を約200mlの
メタノール中に注入してポリマーを析出、沈澱さ
せた。一夜放置後グラスフイルター(1G 4)で
沈澱を取し、減圧乾燥してポリマーの重量を求
め、下式により、重合率を算出した。 重合率(%)=乾燥ポリマー重量/仕込みモノマ
ー重量×100 [結果] 重合時間と重合率との関係を表わした重合率曲
線を第1図に示す。但し、化合物No.5の場合は、
〓〓でNo.6は〓〓で、No.2は〓〓で、No.9は〓〓
で夫々示し、PS−8Aの場合は〓〓で示してあ
る。また、重合開始剤を全く使用しないで重合し
た場合のデーターをブランクとして〓〓で示し
た。 第1図より明らかな如く、本発明化合物はいず
れも既存の代表的重合開始剤であるPS−8Aより
も重合活性が高い。 参考例 2 3種の本発明スルホニウム塩及び比較として
PS−8Aを夫々重合開始剤として用い、下記重合
条件、重合方法によりMMAの光塊状重合を行な
い、重合活性の比較を行なつた。 [重合条件] 開始剤濃度:1×10-2mmol/1(但し、No.7
及びNo.8はMMAに完溶しないので、上澄飽和
液を用いた。) 光源:100W高圧水銀灯、距離7cmで照射 重合温度:16〜17℃(水冷下) [重合方法] 参考例1,2と同じ。 [結果] 各重合開始剤についての重合時間と重合率との
関係を表3に示す。尚、重合開始剤を全く使用し
ないで重合を行なつた場合のデータをブランクと
して併記する。
〔発明の効果〕
以上述べた如く、本発明は、光重合開始剤とし
ての用途が期待できる新規なスルホニウム塩を提
供するものであり、これを光重合開始剤として用
いた場合には、重合活性が高く、また、臭気も毒
性も殆ど無く、安定性にも優れたものである点に
顕著な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は、夫々参考例1、参考例2に
係る重合率曲線を示し、横軸の各反応時間に於け
る重合率を縦軸に沿つてプロツトした点を結んだ
ものである。但し、〓〓は本発明化合物No.2を用
いた場合、〓〓は本発明化合物No.5を用いた場
合、〓〓は本発明化合物No.6を用いた場合、〓〓
は本発明化合物No.9を用いた場合、〓〓は本発明
化合物No.3を用いた場合、〓〓は本発明化合物No.
7を用いた場合、〓〓は本発明化合物No.8を用い
た場合、〓〓はベンゾインエチルエーテルを用い
た場合を夫々表わし、〓〓はブランクを表わす。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式[] 【化】 [式中、R1,R2は夫々独立して水素原子、低
    級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
    子を表わし、R3は水素原子又はハロゲン原子を
    表わす(但し、R1,R2が共に水素原子である場
    合にはR3はハロゲン原子を表わす。)。また、X
    はルイス酸残基を表わす。]で示されるスルホニ
    ウム塩又はその溶媒付加物。
JP19065685A 1985-08-29 1985-08-29 新規なスルホニウム塩 Granted JPS6251661A (ja)

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JP19065685A JPS6251661A (ja) 1985-08-29 1985-08-29 新規なスルホニウム塩

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JPS6251661A JPS6251661A (ja) 1987-03-06
JPH0580467B2 true JPH0580467B2 (ja) 1993-11-09

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