JPS6255501A - レ−ザ測長装置 - Google Patents
レ−ザ測長装置Info
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- JPS6255501A JPS6255501A JP60193882A JP19388285A JPS6255501A JP S6255501 A JPS6255501 A JP S6255501A JP 60193882 A JP60193882 A JP 60193882A JP 19388285 A JP19388285 A JP 19388285A JP S6255501 A JPS6255501 A JP S6255501A
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- half mirror
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、測長装置、特に光の干渉を利用して被測定物
の変位量を測定するレーザ測長装置に関するものである
。
の変位量を測定するレーザ測長装置に関するものである
。
（従来の技術）
従来、この種の装置としては、第５図に示す構成から成
るレーザ測長装置が公知である。ここで、１は可干渉光
束を出射するレーザ、２は干渉計、３はハーフミラ−１
４，４＆はコーナキューブ、５は受光装置、６は１７４
波長板（以下λ／４板と記す。）、７は被測定物、８は
平面鏡、Ａ １人、。
るレーザ測長装置が公知である。ここで、１は可干渉光
束を出射するレーザ、２は干渉計、３はハーフミラ−１
４，４＆はコーナキューブ、５は受光装置、６は１７４
波長板（以下λ／４板と記す。）、７は被測定物、８は
平面鏡、Ａ １人、。
Ａ２はレーザ光線を示す。レーザ１から出射したレーザ
光線人は干渉計２に入射し、この干渉計２の略々中央部
にレーザ光線Ａに対して約４５°傾けて設けたハーフミ
ラ−３によシ２方向に分離される。ハーフミラ−３によ
シ紙面上方に反射されたレーザ光線Ａ１は干渉計２の上
面に取付けたコーナキューブ４によシ反射され、入射方
向とは逆方向に出射して再度ノ・−７ミラー３で反射さ
れて受光装置５に入射する。一方、ノ・−フミラー３を
透過し紙面右方向に出射したレーザ光線Ａ８はλ／４板
６を介して被測定物７に取付けた平面鏡８に入射する。
光線人は干渉計２に入射し、この干渉計２の略々中央部
にレーザ光線Ａに対して約４５°傾けて設けたハーフミ
ラ−３によシ２方向に分離される。ハーフミラ−３によ
シ紙面上方に反射されたレーザ光線Ａ１は干渉計２の上
面に取付けたコーナキューブ４によシ反射され、入射方
向とは逆方向に出射して再度ノ・−７ミラー３で反射さ
れて受光装置５に入射する。一方、ノ・−フミラー３を
透過し紙面右方向に出射したレーザ光線Ａ８はλ／４板
６を介して被測定物７に取付けた平面鏡８に入射する。
ここで反射されたレーザ光線Ａ、は再度λ／４板６を通
過して干渉計２に入射し、ノ・−７ミラー３で反射され
た後干渉計２の下面に取付けたコーナキューブ４ａによ
シ反射され、入射方向とは逆方向に出射して干渉計２に
入射する。このレーザ光線Ａ、は干渉計２内のハーフミ
ラ−３で反射され（紙面右方向に）、λ／４板６を通過
し被測定物７に取付けた平面鏡８に再び入射する。ここ
で反射されたレーザ光線Ａ、は再度λ／４板６を通過し
て干渉計２に入射し、ハーフミラ−３を通過して受光装
置５に達する。即ち、２つの異なる経路を通ったレーザ
光線Ａ□及びＡ２が重なシ合うことで干渉が生じる。こ
こで、レーザ光線Ａ、は被測定物７の紙面左右方向の変
位に依存したド。
過して干渉計２に入射し、ノ・−７ミラー３で反射され
た後干渉計２の下面に取付けたコーナキューブ４ａによ
シ反射され、入射方向とは逆方向に出射して干渉計２に
入射する。このレーザ光線Ａ、は干渉計２内のハーフミ
ラ−３で反射され（紙面右方向に）、λ／４板６を通過
し被測定物７に取付けた平面鏡８に再び入射する。ここ
で反射されたレーザ光線Ａ、は再度λ／４板６を通過し
て干渉計２に入射し、ハーフミラ−３を通過して受光装
置５に達する。即ち、２つの異なる経路を通ったレーザ
光線Ａ□及びＡ２が重なシ合うことで干渉が生じる。こ
こで、レーザ光線Ａ、は被測定物７の紙面左右方向の変
位に依存したド。
プラー効果を受ける為、レーザ光線Ａ２の微小なる波長
変化が生じる。従って、受光装置５によシ入射光線Ａ１
及びＡ、の干渉で生じた干渉縞を計数することによシ被
測定物７の変位量を測定出来る。
変化が生じる。従って、受光装置５によシ入射光線Ａ１
及びＡ、の干渉で生じた干渉縞を計数することによシ被
測定物７の変位量を測定出来る。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、前述の如き従来の測長装置では、干渉計
２、ハーフミラ−３、コーナキューブ４゜４ａｐλ／４
板６等の光学素子から成る光学系を用い、単一の被測定
物を測定することしか出来ず、同一の装置で複数の被測
定物を測定することは不可能であった。
２、ハーフミラ−３、コーナキューブ４゜４ａｐλ／４
板６等の光学素子から成る光学系を用い、単一の被測定
物を測定することしか出来ず、同一の装置で複数の被測
定物を測定することは不可能であった。
本発明は、上記従来の問題点を解決する目的でなされ、
同一装置で複数の被測定物の変位量を測定可能なレーザ
測長装置を提供しようとするものである。
同一装置で複数の被測定物の変位量を測定可能なレーザ
測長装置を提供しようとするものである。
（問題点を解決するための手段）
前記問題点を解決する為の手段として、本発明に係るレ
ーザ測長装置は、可干渉光源と、該光源から出射した１
部の光束を被測定物に照射し該被測定物で反射された光
束と該光源から出射し異なる光路を経た光束とを干渉さ
せる光学系と、該光学系を介して得られる干渉光束を検
出する手段と、複数の被測定物の夫々に対応した複数の
光路と、該複数の光路の内任意の光路を選択する光路変
換手段とを有することを特徴とする。
ーザ測長装置は、可干渉光源と、該光源から出射した１
部の光束を被測定物に照射し該被測定物で反射された光
束と該光源から出射し異なる光路を経た光束とを干渉さ
せる光学系と、該光学系を介して得られる干渉光束を検
出する手段と、複数の被測定物の夫々に対応した複数の
光路と、該複数の光路の内任意の光路を選択する光路変
換手段とを有することを特徴とする。
（実施例）
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
尚、第５図に示した従来例と同一部材には同一符号を付
してその説明を省略する。
してその説明を省略する。
第１図は、本発明の一実施例を示すレーザ測長装置の概
略構成図である。ここで、３ａはハーフミラ−１４ｂは
コーナキューブ、７ｍは第２の被測定物、９及び９ａは
ＰＬＺＴ素子、１ｏは反射鏡を示す。レーザ１から出射
するレーザ光線Ａの同軸線上には、偏光子１１と４５°
に傾斜させたハーフミラ−３を内蔵した干渉計２とλ／
４板６、及び平面鏡８を取付けた被測定物７が配置され
ている。
略構成図である。ここで、３ａはハーフミラ−１４ｂは
コーナキューブ、７ｍは第２の被測定物、９及び９ａは
ＰＬＺＴ素子、１ｏは反射鏡を示す。レーザ１から出射
するレーザ光線Ａの同軸線上には、偏光子１１と４５°
に傾斜させたハーフミラ−３を内蔵した干渉計２とλ／
４板６、及び平面鏡８を取付けた被測定物７が配置され
ている。
干渉計２の上面には４５°の角度で配置したハーフミラ
−３ａが干渉計２の下面にはレーザ光を入射方向に対し
て逆方向に反射するコーナキー−ブ４ａが取付けられて
いる。ＰＬＺＴ素子９，９ａは印加する電圧のオン、オ
フによって光を透過又は遮断する機能を持つ素子であシ
、ハーフミラ−３＆の上部及び左側に配置されている。
−３ａが干渉計２の下面にはレーザ光を入射方向に対し
て逆方向に反射するコーナキー−ブ４ａが取付けられて
いる。ＰＬＺＴ素子９，９ａは印加する電圧のオン、オ
フによって光を透過又は遮断する機能を持つ素子であシ
、ハーフミラ−３＆の上部及び左側に配置されている。
更にＰＬＺＴ素子９ａと対向する様にコーナキューブ４
が配置されている。又、反射鏡１０はＰＬＺＴ素子９の
上方に光路に対し４５°の角度で配置されておシ、反射
鏡１０の右方向にはコーナキューブ４ｂを取付けた第２
の被測定物７ａが配置されている。
が配置されている。又、反射鏡１０はＰＬＺＴ素子９の
上方に光路に対し４５°の角度で配置されておシ、反射
鏡１０の右方向にはコーナキューブ４ｂを取付けた第２
の被測定物７ａが配置されている。
本レーザ測長装置は上述の様に構成されておシ、まず、
被測定物７の変位量を測定する際は、ＰＬＺＴ素子９を
光遮断状態にセ、） Ｌ、ＰＬＺＴ素子９ａを光透過状
態にセットする。この時、レーザ１から出射したレーザ
光ｆａ人は干渉計２に入射し、干渉計２内に４５°の角
度で取付けたハーフミラ−３によりて２方向に分離され
る。ハーフミラ−３によって上方に反射されたレーザ光
線Ａ□は、干渉計２の上面に取付けたハーフミラ−３ａ
で反射され、ＰＬＺＴ素子９龜を通過してコーナキュー
ブ４に入射する。ここで、レーザ光線Ａ１は光路を１８
０°曲げられ、再度Ｐ！、ＺＴ素子９＆を通過してハー
フミラ−３ｍ及び３で反射されて受光装置５に入射する
。
被測定物７の変位量を測定する際は、ＰＬＺＴ素子９を
光遮断状態にセ、） Ｌ、ＰＬＺＴ素子９ａを光透過状
態にセットする。この時、レーザ１から出射したレーザ
光ｆａ人は干渉計２に入射し、干渉計２内に４５°の角
度で取付けたハーフミラ−３によりて２方向に分離され
る。ハーフミラ−３によって上方に反射されたレーザ光
線Ａ□は、干渉計２の上面に取付けたハーフミラ−３ａ
で反射され、ＰＬＺＴ素子９龜を通過してコーナキュー
ブ４に入射する。ここで、レーザ光線Ａ１は光路を１８
０°曲げられ、再度Ｐ！、ＺＴ素子９＆を通過してハー
フミラ−３ｍ及び３で反射されて受光装置５に入射する
。
一方、ハーフミラ−３を透過したレーザ光線Ａ２は従来
例同様λ／４板６、平面鏡８、λ／４板６、ノー−７ミ
シー３、コーナキューブ４ａ、ノ１−７ミラー３、λ／
４板６、平面鏡８、λ／４板６、ノー−７ミシー３とい
う経路で受光装置５に入射する。従って１干渉計２、ノ
・−７ミラ一３ｍ３ｍ）コーナキー−プ４＃４ａ、λ／
４板６、及びＰＬＺＴ索子９ａから成る光学系によって
生じるレーザ光線Ａ１及びＡ、の干渉による干渉縞を受
光装置５で計数することによシ被測定物７の変位量を測
定する事が出来る。
例同様λ／４板６、平面鏡８、λ／４板６、ノー−７ミ
シー３、コーナキューブ４ａ、ノ１−７ミラー３、λ／
４板６、平面鏡８、λ／４板６、ノー−７ミシー３とい
う経路で受光装置５に入射する。従って１干渉計２、ノ
・−７ミラ一３ｍ３ｍ）コーナキー−プ４＃４ａ、λ／
４板６、及びＰＬＺＴ索子９ａから成る光学系によって
生じるレーザ光線Ａ１及びＡ、の干渉による干渉縞を受
光装置５で計数することによシ被測定物７の変位量を測
定する事が出来る。
次に、ＰＬＺＴ素子９を光透過状態にセットし、ＰＬＺ
Ｔ素子９＆を光遮断状態にセットする。この時、レーザ
１から出射したレーザ光線人は干渉計２に入射し、干渉
計２内に４５°の角度で取付は九ノ１−７ミラー３によ
って２方向に分離される。ハーフミラ−３によって上方
に反射されたレーザ光線Ａ１は、ハーフミラ−３亀を透
過してＰＬＺＴ索子９を通過し、レーザ光線Ａ１の光路
に対し４５°傾けて配置した反射鏡１０で反射され被測
定物７ａに取付けたコーナ午ユーブ４ｂに入射する。こ
のコーナキューブ４ｂによって１８０’光路を曲げられ
光の光路に沿って逆方向に進むレーザ光ｆｓＡ工は再度
反射鏡１０で反射されＰＬＺＴ素子９を通）、ハーフミ
ラ−３ａを通過してハーフミラ−３で反射されて受光装
置５に入射する。一方、ハーフミラ−３を透過したレー
ザ光線Ａ、は前述のＰＬＺＴ素子９がオフ、ＰＬＺＴ素
子９ａがＯＮの状態と同様に、λ／４板、平面鏡８、λ
／４板６、ハーフミラ−３、コーナキューブ４ｍ、ハー
フミラ−３、λ／４板６、平面鏡８、λ／４板６、ハー
フミラ−３という経路で受光装置５に入射する。従って
、この場合レシーバ５で計数される干渉縞数から被測定
物７及び７ａの相対変位量を測定出来る。
Ｔ素子９＆を光遮断状態にセットする。この時、レーザ
１から出射したレーザ光線人は干渉計２に入射し、干渉
計２内に４５°の角度で取付は九ノ１−７ミラー３によ
って２方向に分離される。ハーフミラ−３によって上方
に反射されたレーザ光線Ａ１は、ハーフミラ−３亀を透
過してＰＬＺＴ索子９を通過し、レーザ光線Ａ１の光路
に対し４５°傾けて配置した反射鏡１０で反射され被測
定物７ａに取付けたコーナ午ユーブ４ｂに入射する。こ
のコーナキューブ４ｂによって１８０’光路を曲げられ
光の光路に沿って逆方向に進むレーザ光ｆｓＡ工は再度
反射鏡１０で反射されＰＬＺＴ素子９を通）、ハーフミ
ラ−３ａを通過してハーフミラ−３で反射されて受光装
置５に入射する。一方、ハーフミラ−３を透過したレー
ザ光線Ａ、は前述のＰＬＺＴ素子９がオフ、ＰＬＺＴ素
子９ａがＯＮの状態と同様に、λ／４板、平面鏡８、λ
／４板６、ハーフミラ−３、コーナキューブ４ｍ、ハー
フミラ−３、λ／４板６、平面鏡８、λ／４板６、ハー
フミラ−３という経路で受光装置５に入射する。従って
、この場合レシーバ５で計数される干渉縞数から被測定
物７及び７ａの相対変位量を測定出来る。
第２図は、本発明の他の実施例を示し、１０ａは反射鏡
である。前述の第１図に示した実施例では、ＰＬＺＴ素
子９，９ａによって干渉計２、ハーフミラ−３、３ｍ、
コーナキューブ４ 、４ ｍ、λ／４板６から成る
光学系に入射するレーザ光ｍＡｔの光路を切換え被測定
物７，７ａの相対変位量を測定する構成を有していた。
である。前述の第１図に示した実施例では、ＰＬＺＴ素
子９，９ａによって干渉計２、ハーフミラ−３、３ｍ、
コーナキューブ４ 、４ ｍ、λ／４板６から成る
光学系に入射するレーザ光ｍＡｔの光路を切換え被測定
物７，７ａの相対変位量を測定する構成を有していた。
しかしながら、本実施例では第２図に示すようにハーフ
ミラ−３ａを反射鏡ｔＯａに代え、且つ反射鏡１０鳳を
可動可能にする事によってレーザ光線Ａ１の光路を切換
える事が出来る。尚、他の構成は第１図に示す実施例と
同様である。即ち、反射鏡１０ｍを４５°に傾斜させた
時（実線で示す。）は、被測定物７の変位量を測定する
ことが出来、立て走時（点線で示す。）は、被測定物７
，７＆の相対変位量を測定する事が可能となる。
ミラ−３ａを反射鏡ｔＯａに代え、且つ反射鏡１０鳳を
可動可能にする事によってレーザ光線Ａ１の光路を切換
える事が出来る。尚、他の構成は第１図に示す実施例と
同様である。即ち、反射鏡１０ｍを４５°に傾斜させた
時（実線で示す。）は、被測定物７の変位量を測定する
ことが出来、立て走時（点線で示す。）は、被測定物７
，７＆の相対変位量を測定する事が可能となる。
第３図は、本発明の更人る実施例を示すものである。本
実施例では、第５図に示した従来例とほぼ同様に構成し
たレーザ測長装置に於て、λ／４板６と被測定物７に取
付けた平面鏡８の間に光路に対し４５°に傾斜させたハ
ーフミラ−３ｂとＰＬＺＴ素子９ａが配置されている。
実施例では、第５図に示した従来例とほぼ同様に構成し
たレーザ測長装置に於て、λ／４板６と被測定物７に取
付けた平面鏡８の間に光路に対し４５°に傾斜させたハ
ーフミラ−３ｂとＰＬＺＴ素子９ａが配置されている。
そして、ハーフミラ−３ｂの上方にはＰＬＺＴ素子９と
光路に対し４５°に傾斜させた反射鏡１０を配置してい
る。更に反射鏡１０の右方向には平面鏡８ａを取付けた
測定物体７＆が配置されている。従って、ＰＬＺＴ素子
９を光遮断状態にセットし、ＰＬＺＴ素子９ａを光透過
状態にセットした時は、第５図に示した従来例と全く同
じ構成となり、前述した様に受光装置５で干渉縞を計数
する事によシ、被測定物７の変位量を測定する事が出来
る。
光路に対し４５°に傾斜させた反射鏡１０を配置してい
る。更に反射鏡１０の右方向には平面鏡８ａを取付けた
測定物体７＆が配置されている。従って、ＰＬＺＴ素子
９を光遮断状態にセットし、ＰＬＺＴ素子９ａを光透過
状態にセットした時は、第５図に示した従来例と全く同
じ構成となり、前述した様に受光装置５で干渉縞を計数
する事によシ、被測定物７の変位量を測定する事が出来
る。
次に、ＰＫ、ＺＴ素子９＆を光遮断状態にセットし、Ｐ
ＬＺＴ素子９を光透過状態にセ、トシた時は、ま玄レー
ザ１から出射したレーザ光線Ａの内、干渉計２内のハー
フミラ−３によう【上方に反射されたレーザ光線Ａ１は
、第５図に示した従来例と同様コーナキューｆ４、ハー
フミラ−３を経由して受光装置５に入射する。一方、ハ
ーフミラ−３を透過したレーザ光線Ａ、は、λ／４を通
過しハーフミラ−３１で反射される。そしてＰＬＺＴ素
子９を通過し反射鏡１０で反射され被測定物７ｍに取付
けた平面鏡８ａに入射する。そして、平面鏡８＆で逆方
向に反射されたレーザ光線Ａ２は、反射鏡１０で再び反
射されＰＬＺＴ素子９を通過してハーフミラ−３＆で反
射されて、λ／４板６を通ジノ・−７ミラー３で反射さ
れる。ハーフミラ−３で反射されたレーザ光線Ａ、はコ
ーナキューブ４で光路を１８０゜曲げられてハーフミラ
−３で再び反射され、λ／４板６を通ってハーフミラ−
３ａで反射され、ＰＬＺＴ素子９を通過する。その後反
射鏡工０で反射さへ再度被測定物７ａに取付けた平面鏡
８ａに入射する０そして、再度平面鏡８ａで逆方向に反
射されたレーザ光線人、は、反射鏡１０で反射されて、
ＰＬＺＴ素子９を通過し、ノ’−７ミラー３ａで反射さ
れてλ／４板６、干渉計２内のハーフミラ−３を介して
受光装置５に入射する。従って、干渉計２、ハーフミラ
−３及び３ｍ、コーナキューｆ４及び４＆、λ／４板６
、反射鏡１０及びＰＬＺＴ素子９゜９ａから成る光学系
を介しレーザ光線人□とレーザ光線人、の干渉による干
渉縞を受光装置５で計数することにより、被測定物７龜
の変位量を測定することができる。
ＬＺＴ素子９を光透過状態にセ、トシた時は、ま玄レー
ザ１から出射したレーザ光線Ａの内、干渉計２内のハー
フミラ−３によう【上方に反射されたレーザ光線Ａ１は
、第５図に示した従来例と同様コーナキューｆ４、ハー
フミラ−３を経由して受光装置５に入射する。一方、ハ
ーフミラ−３を透過したレーザ光線Ａ、は、λ／４を通
過しハーフミラ−３１で反射される。そしてＰＬＺＴ素
子９を通過し反射鏡１０で反射され被測定物７ｍに取付
けた平面鏡８ａに入射する。そして、平面鏡８＆で逆方
向に反射されたレーザ光線Ａ２は、反射鏡１０で再び反
射されＰＬＺＴ素子９を通過してハーフミラ−３＆で反
射されて、λ／４板６を通ジノ・−７ミラー３で反射さ
れる。ハーフミラ−３で反射されたレーザ光線Ａ、はコ
ーナキューブ４で光路を１８０゜曲げられてハーフミラ
−３で再び反射され、λ／４板６を通ってハーフミラ−
３ａで反射され、ＰＬＺＴ素子９を通過する。その後反
射鏡工０で反射さへ再度被測定物７ａに取付けた平面鏡
８ａに入射する０そして、再度平面鏡８ａで逆方向に反
射されたレーザ光線人、は、反射鏡１０で反射されて、
ＰＬＺＴ素子９を通過し、ノ’−７ミラー３ａで反射さ
れてλ／４板６、干渉計２内のハーフミラ−３を介して
受光装置５に入射する。従って、干渉計２、ハーフミラ
−３及び３ｍ、コーナキューｆ４及び４＆、λ／４板６
、反射鏡１０及びＰＬＺＴ素子９゜９ａから成る光学系
を介しレーザ光線人□とレーザ光線人、の干渉による干
渉縞を受光装置５で計数することにより、被測定物７龜
の変位量を測定することができる。
本実施例では、λ／４板６と平面鏡８を取付けた被測定
物７０間に配置した、ハーフミラ−３ａ。
物７０間に配置した、ハーフミラ−３ａ。
ＰＬＺＴ素子９ ｍ ＋ ９、反射鏡１０によシ、レー
ザ光線Ａ、の光路を切換えて被測定物７及び７ａの絶対
変位量を測定する構成を有していた。ここで更に第４図
に示す様に複数個（第４図では３個）の測定物体７ ＝
７ ａ ｔ ７ ｂ・・・を配置した場合も同様の手
段で実施する事が出来る。即ち、λ／４板６と被測定物
７に取付けた平面鏡８の間には、前記第３図で示した実
施例と同様に構成され九ノ・−フミ’：ｙ −３ｓ 、
ＰＬＺＴ素子９ａ、９を配置する。そして、その上方
にも同様にハーフミラ−３ｂ、３ｃ、ＰＬＺＴ素子９
ｂ ｅ ９ ｅ 、９ ｄ 、９ ｅを被測定物７１１
７ｂに取付けた平面鏡８ａ、３ｂと対向するようにして
構成する。そして、各ＰＬＺＴ素子９，９ａ。
ザ光線Ａ、の光路を切換えて被測定物７及び７ａの絶対
変位量を測定する構成を有していた。ここで更に第４図
に示す様に複数個（第４図では３個）の測定物体７ ＝
７ ａ ｔ ７ ｂ・・・を配置した場合も同様の手
段で実施する事が出来る。即ち、λ／４板６と被測定物
７に取付けた平面鏡８の間には、前記第３図で示した実
施例と同様に構成され九ノ・−フミ’：ｙ −３ｓ 、
ＰＬＺＴ素子９ａ、９を配置する。そして、その上方
にも同様にハーフミラ−３ｂ、３ｃ、ＰＬＺＴ素子９
ｂ ｅ ９ ｅ 、９ ｄ 、９ ｅを被測定物７１１
７ｂに取付けた平面鏡８ａ、３ｂと対向するようにして
構成する。そして、各ＰＬＺＴ素子９，９ａ。
９ｂ、９ｅ、９ｄ、９・を、適宜光透過又は光遮断状態
にセットしてレーザ光線Ａ、の光路を切換え、各被測゛
宝物７，７ｍ、７ｂの絶対変位量を測定する事が出来る
。
にセットしてレーザ光線Ａ、の光路を切換え、各被測゛
宝物７，７ｍ、７ｂの絶対変位量を測定する事が出来る
。
又、前記第１〜４図で示した実施例においては、ＰＬＺ
Ｔ素子９〜９・又は可動反射鏡１０ａがレーザ光線Ａ、
、Ａ、を透過又は遮断する光路変換手段としての働きを
したが、メカニカルなシャッター又は液晶を使用したシ
ャッター等によって、レーザ光線Ａ１ｅＡ＊を透過又は
遮断してレーザ光線の光路を切換えることも可能である
。
Ｔ素子９〜９・又は可動反射鏡１０ａがレーザ光線Ａ、
、Ａ、を透過又は遮断する光路変換手段としての働きを
したが、メカニカルなシャッター又は液晶を使用したシ
ャッター等によって、レーザ光線Ａ１ｅＡ＊を透過又は
遮断してレーザ光線の光路を切換えることも可能である
。
以上の実施例に示した構成は本発明の一形態であシ、２
光束を干渉させる為の光学系や光路変換手段には各種構
成が存在し、本発明の思想に於て様々な形態の装置を得
ることが出来る。
光束を干渉させる為の光学系や光路変換手段には各種構
成が存在し、本発明の思想に於て様々な形態の装置を得
ることが出来る。
（発明の効果）
以上説明した様に、本発明に係るレーザ測長装置は、複
数の被測定物に対応した複数の光路を、ＰＬＺＴ素子や
可動可能な反射鏡等によって切換えることが出来、単一
の装置で複数の被測定物の絶対変位量又は各被測定物間
の相対変位量の測定を行うことが可能でちる。
数の被測定物に対応した複数の光路を、ＰＬＺＴ素子や
可動可能な反射鏡等によって切換えることが出来、単一
の装置で複数の被測定物の絶対変位量又は各被測定物間
の相対変位量の測定を行うことが可能でちる。
第１図は、本発明の一実施例に係るレーザ測長装置の概
略構成図、第２〜４図は、いずれも本発明の他の実施例
に係るレーザ測長装置の概略構成図、第５図は、従来例
におけるレーザ測長装置の構成図。 １・・・レーザ、２−・・干渉計、３．３ｍ、３ｂ。 ３ｃ・・・ハーフミラ−１４，４ａ、４ｂ・・・コーナ
キューブ、５・・・受光装置、６・・・λ／４板、７
ｐ ７ ’ ｒ７ ｂ−・・被測定物、Ｂ 、 ｆ３
ｍ 、 ８ ｂ−・・平面鏡、９゜９ｍ、９ｂ＊９ｅｔ
９ｄ、９ｓ＝ＰＬＺＴ素子、１０゜１０ ａ ＝反射鏡
、１１−・・偏光子、Ａ 、Ａ１ ＋ １２・・・レ
ーザ光線。 代理人 弁理士 山 下 積 平 第１図 第３回 ｑ 第５図
略構成図、第２〜４図は、いずれも本発明の他の実施例
に係るレーザ測長装置の概略構成図、第５図は、従来例
におけるレーザ測長装置の構成図。 １・・・レーザ、２−・・干渉計、３．３ｍ、３ｂ。 ３ｃ・・・ハーフミラ−１４，４ａ、４ｂ・・・コーナ
キューブ、５・・・受光装置、６・・・λ／４板、７
ｐ ７ ’ ｒ７ ｂ−・・被測定物、Ｂ 、 ｆ３
ｍ 、 ８ ｂ−・・平面鏡、９゜９ｍ、９ｂ＊９ｅｔ
９ｄ、９ｓ＝ＰＬＺＴ素子、１０゜１０ ａ ＝反射鏡
、１１−・・偏光子、Ａ 、Ａ１ ＋ １２・・・レ
ーザ光線。 代理人 弁理士 山 下 積 平 第１図 第３回 ｑ 第５図
Claims (3)
- （１）可干渉光源と、該光源から出射した１部の光束を
被測定物に照射し該被測定物で反射された光束と該光源
から出射し異なる光路を経た光束とを干渉させる光学系
と、該光学系を介して得られる干渉光束を検出する手段
とを有する装置であって、複数の被測定物の夫々に対応
した複数の光路と、該複数の光路の内任意の光路を選択
する光路変換手段とを有するレーザ測長装置。 - （２）該光路変換手段が少なくとも２つの光変調素子を
有することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
のレーザ測長装置。 - （３）該光路変換手段が少なくとも１つの可動ミラーか
ら成ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載
のレーザ測長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60193882A JPS6255501A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | レ−ザ測長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60193882A JPS6255501A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | レ−ザ測長装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6255501A true JPS6255501A (ja) | 1987-03-11 |
Family
ID=16315304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60193882A Pending JPS6255501A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | レ−ザ測長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6255501A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08300597A (ja) * | 1995-05-02 | 1996-11-19 | Mdc Max Daetwyler Bleienbach Ag | 彫刻凹版印刷シリンダ及び彫刻凹版印刷版の彫込み装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5664604A (en) * | 1979-10-12 | 1981-06-01 | Farrand Ind Inc | Correction method of and apparatus for optical devices |
| JPS56130934A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-14 | Nec Kyushu Ltd | Inspecting device for semiconductor element |
-
1985
- 1985-09-04 JP JP60193882A patent/JPS6255501A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5664604A (en) * | 1979-10-12 | 1981-06-01 | Farrand Ind Inc | Correction method of and apparatus for optical devices |
| JPS56130934A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-14 | Nec Kyushu Ltd | Inspecting device for semiconductor element |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08300597A (ja) * | 1995-05-02 | 1996-11-19 | Mdc Max Daetwyler Bleienbach Ag | 彫刻凹版印刷シリンダ及び彫刻凹版印刷版の彫込み装置 |
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