JPS6259373B2 - - Google Patents

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JPS6259373B2
JPS6259373B2 JP54031661A JP3166179A JPS6259373B2 JP S6259373 B2 JPS6259373 B2 JP S6259373B2 JP 54031661 A JP54031661 A JP 54031661A JP 3166179 A JP3166179 A JP 3166179A JP S6259373 B2 JPS6259373 B2 JP S6259373B2
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JP
Japan
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servo
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track
writing
record carrier
Prior art date
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Application number
JP54031661A
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English (en)
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JPS54130103A (en
Inventor
Edeyuarudo Fuan Rosumaren Herarudo
Yoozefu Kureuterusu Uiruherumu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
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Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of JPS54130103A publication Critical patent/JPS54130103A/ja
Publication of JPS6259373B2 publication Critical patent/JPS6259373B2/ja
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    • G11B7/24085—Pits
    • G—PHYSICS
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    • G11B27/026—Electronic editing of analogue information signals, e.g. audio or video signals on discs
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線感応情報層を支持する円板状
基板を有し、前記情報層に、ビデオ情報および／
またはオーデイオ情報のような情報を、書込みス
ポツトに集束される放射線の書込みビームによつ
て光学的に検出し得る情報区域のトラツク状構造
の形態に書込み、全表面区域に亘つて延在する光
学的に検出し得るサーボトラツクを設けた記録キ
ヤリヤに関するものである。
サーボトラツクは螺旋状トラツクとするのが好
適であるがこれを多数の同心円で構成することも
できる。
放射線感応層は、放射線ビームによつて変化を
生ずる材料の層、例えば感光層または充分な大き
さの強度の放射線によつて種々の区域が溶融し得
る材料の層とする。
放射線ビームとは赤外線領域から紫外線領域ま
での範囲内にある波長を有する電磁波を含む放射
線のビームを意味するものとする。
本発明でいう記録キヤリヤとは、情報を書込ん
だ記録キヤリヤをも意味するものとする。
円板状記録キヤリヤのトラツク状に配設された
光学的に検出し得る情報区域にテレビジヨンプロ
グラムを記録し、情報を例えば空間周波数および
情報区域の長さによつて表すようにすることは既
知である。この場合には例えば0.5μの幅および
0.5μの平均長さを有する微小な情報区域を、例
えば螺旋状トラツクに例えば1.6μの一定のピツ
チで極めて正確に書込む必要がある。このこと
は、記録キヤリヤが回転する速度を正しく一定と
する必要があると共に放射線の書込みスポツトを
トラツクの方向（接線方向）およびトラツクの方
向に対し直角を成す方向（半径方向）に極めて正
確に移動させる必要があることを意味する。この
目的のためには書込み装置に極めて精密な駆動お
よび案内機構を設ける必要があり、従つて装置が
高価となる。
記録キヤリヤにいわゆる追従案内トラツクを設
けることは特願昭49−14606号〔特公昭57−37922
号……（特許第1186554号）〕において提案されい
る。この案内トラツクは光学的に案内し得る連続
トラツクである。この場合には情報書込み中に案
内トラツクに対する書込みスポツトの半径方向位
置を検出し補正するため情報は正しく規制された
情報トラツクに従つて書込まれる。これがため放
射線スポツトを極めて精密に半径方向に移動させ
る高価な機械装置を書込み装置に設ける必要はな
い。
しかし記録キヤリヤを定速度で回転させる極め
て精密な装置は依然として必要である。さらに記
録キヤリヤは偏心性を有しているため記録キヤリ
ヤを一定速度で回転させても情報は種々のトラツ
ク部分に同一速度で書込まれなくなる。
本発明の目的は、極めて一定の書込み速度を必
要とするテレビジヨンプログラムのような情報を
比較的簡単な装置によつて書込み得るように適切
に構成された記録キヤリヤを提供せんとするにあ
る。
本発明記録キヤリヤの特徴は、特許請求の範囲
に記載の如くである。
サーボ区域は、書込み中に書込みスポツトにロ
ツクされた放射線のサーボスポツトによつて読取
り、これにより書込みスポツトの接線方向速度に
比例する信号、いわゆるパイロツト信号を発生さ
せる。この信号によつて書込むべき情報が供給さ
れる速度即ち書込みスポツトの速度を補正する。
また、情報の一部分、例えばテレビジヨンプログ
ラムの一部分をまず最初に記録し、次いで任意の
次の瞬時に他の部分すなわち最初の部分に隣接す
る次の部分を極めて高精度に記録することもでき
る。これがためテレビジヨンプログラムまたはフ
イルムの種々の部分を記録キヤリヤに新たな順序
でいわゆる“ミキシング”して記録することもで
きる。さらにテレビジヨンプログラムの画像をあ
るトラツクにまず最初記録し、次いで同一のトラ
ツクのビデオ情報を含んでいない個所に音声を例
えば圧縮した形態で記録することができる。
サーボトラツクのサーボ区域の１回転当りの数
は放射線スポツトの接線方向速度の所望の精度に
依存する。サーボ区域の接線方向の周期は、サー
ボトラツクの半径方向の周期と同程度とするのが
好適である。またテレビジヨンプログラムを書込
みかつサーボトラツクを最終記録キヤリヤに可視
状態で残存させる場合にはサーボトラツクの周期
を適宜選定してサーボ区域を読取ることにより得
られる信号の周波数がテレビジヨン信号の周波数
スペクトルの情報の無い部分に位置し得るように
するのが好適である。
本発明によれば書込み中に用いるサーボ情報を
記録キヤリヤに設けるため、書込み装置は光学書
込みヘツドおよび記録キヤリヤの機械的な駆動並
び種々の光学素子の無振動懸垂に対し厳しい要求
が課せられる必要はなくなるが、これらの厳しい
要求は、サーボ区域より成るサーボトラツクを
“マスター”記録キヤリヤに形成する装置に課せ
られるようになる。かかる高価な装置によつて多
数の記録キヤリヤを１個所で製造することができ
る。これらの記録キヤリヤは、比較的廉価な書込
み装置を用いることにより多数の個所で書込むこ
とができる。
固定の空間周波数を有する区域より成るサーボ
トラツクを設けた記録キヤリヤにテレビジヨンプ
ログラムを書込むことは米国特許第3701846号明
細書から既知である。しかしこのサーボトラツチ
は、１回転分だけ延在するものであつて記録キヤ
リヤの全表面区域にわたつて延在するものではな
い。このサーボトラツクは、書込み速度を制御す
るために用いるのではなくテレビジヨン信号をサ
ンプルする瞬時を規制するために用いるものであ
る。すなわちこのサーボトラツクによつて、全て
の回転トラツクの関連する情報区域が同一の初期
半径方向位置を有し従つて隣接するトラツク部分
がほぼ同一の情報内容を有するようする。これが
ため上記米国特許明細書ではトラツク部分にある
程度の漏話が許容されると共に放射線スポツトの
半径方向位置を補正する必要はない。１回転だけ
有効となるサーボトラツクによつて正確な接線方
向の制御を行うためには記録キヤリヤを著しく剛
固とする必要がある。しかし実際には記録キヤリ
ヤは左程剛固ではない。また記録キヤリヤが回転
する速度が極めて高いため精度が害われるように
なる。任意の個所でサーボ情報が得られる本発明
記録キヤリヤによれば剛固でない記録キヤリヤの
場合にも書込み速度を正確に制御することができ
る。
サーボトラツクを振幅構造とする。すなわちサ
ーボトラツクと交差する放射線ビームの振幅は、
サーボトラツクと交差しない放射線ビームの振幅
とは相違する。サーボトラツクを位相構造として
サーボトラツクに入射する放射線ビーム内に位相
差が生じるようにするのが好適である。
本発明に用いる記録キヤリヤによればサーボト
ラツクの半径方向の周期をサーボトラツクの幅の
数倍とする。これがため複数の情報トラツクをサ
ーボトラツク部分間で同時に書込んで最大情報転
送速度を著しく増大させることができる。このこ
とは例えばデイジタルビデオ情報を記憶する必要
がある場合に重要である。
複数個の情報トラツクを同時に書込むことは例
えばドイツ国特許第1499422号明細書から既知で
ある。しかしかかる書込みはサーボ区域で構成さ
れるサーボトラツクを有する記録キヤリヤに対し
てなされたものではない。
サーボトラツクを有する本発明記録キヤリヤは
種々の目的に用いることができる。例えば特定の
プログラムを１個または多くとも数個の記録キヤ
リヤに記憶する必要のあるテレビジヨンスタジオ
のような職業的な用途について考察する。この場
合には記録キヤリヤを同一のスタジオまたは他の
同様のスタジオにおいて読取る。次いで１個の記
録キヤリヤを用い、これにサーボトラツクが中央
位置で書込まれた第１のいわゆる“マスター”記
録キヤリヤからプレスを行う。
かかる用途に用いる記録キヤリヤは、情報層を
直接読取り−書込み材料で構成する。
所望に応じ、この記録キヤリヤに書込むことに
より得た記録キヤリヤから数回のプレスを行うこ
とができる。
この記録キヤリヤは、テレビジヨンプログラム
の大規模配給に、すなわち消費者マーケツトに対
し多数の記録キヤリヤを形成するために用いるこ
とができる。
かかる用途の記録キヤリヤもいわゆる“マスタ
ー”記録キヤリヤからのプレスによつて得ること
ができる。かかる用途の記録キヤリヤでは、情報
層をフオトレジストをもつて構成し、かつこのフ
オトレジスト層とサーボトラツクとの間に中間層
を介挿し、そのサーボトラツクとは反対側の面を
平坦とし、これら中間層およびフオトレジスト層
はサーボトラツクが書込み中に追従するサーボビ
ームの放射線を透過し得るようにする。
情報が書込まれた後、すなわちフオトレジスト
が書込むべき情報に応じて断続的に露出された後
フオトレジストを現像する。この場合フオトレジ
ストの種類に依存しフオトレジストの露出区域ま
たは未露出区域の何れかが除去されるようにな
る。次いで例えはまず最初無電解メツキ処理を施
し、次いで電解ニツケルメツキ処理を施し、その
後サーボトラツクを有する記録キヤリヤをニツケ
ルデイスクから取外す処理を行うことができる。
かくして得た“フアーザーデイスク”を母型とし
て用いてこのフアーザーデイスクからいわゆる第
１プレス（“マザーデイスク”）を形成し、次いで
第２プレス……を行う。次いでこれらのプレスを
夫々母型として用いる。かかる中間層を用いるた
めサーボトラツクはプレスにおいては再生されな
くなり従つて最終的に得られた記録キヤリヤにも
サーボトラツクは再生されない。かくして得られ
た記録キヤリヤはすでに提案されている読取装置
によつて読取ることができる。
消費者マーケツト用の記録キヤリヤを造る場合
にはマスター記録キヤリヤからプレスを造る代わ
りにマスター記録キヤリヤ上に中間層およびフオ
トレジスト層を直接堆積することもできる。この
場合には次いでこのマスター記録キヤリヤに情報
の記録を行い、現像を行う等の種々の処理を施
す。フアーザーデイスクをマスター記録キヤリヤ
から分離させた後にフオトレジスト層および中間
層をマスター記録キヤリヤから取除くが、サーボ
トラツクはそのまま残存する。
記録キヤリヤのこれら全ての用途に対し情報を
書込む特定の装置を用いる。かかる装置は、書込
みビームを発生する第１放射線源と、サーボビー
ムを発生する第２放射線源と、書込むべき情報に
応じ書込みビームの放射線強度を切換える手段
と、情報層の書込みスポツトおよびサーボスポツ
トに書込みビームおよびサーボビームを集束する
対物レンズ系とを具え、記録キヤリヤから到来す
るサーボビームの通路内に放射線感応検出器を設
け、この検出器の出力側にサーボスポツトの局部
接線方向速度を表す信号を発生させ、上記出力側
を比較回路の第１入力側に接続し、この比較回路
の第２入力側に書込むべき情報を供給される速度
に比例する基準信号を供給し得るようにする。
中間層およびフオトレジスト層を設けた記録キ
ヤリヤに情報の書込みを行う場合には書込みビー
ムの波長をフオトレジストのスペクトル感度に適
合させるようにする。サーボビームの波長はこれ
がフオトレジストおよび中間層によつて吸収され
ないような値とする。また、情報はサーボトラツ
クと半径方向に一致するトラツクに書込むことが
できる。
情報層が直接読取り−書込み材料より成る記録
キヤリヤ本体に情報を書込む装置においては、同
時に現われる書込みスポツトおよびサーボスポツ
トがサーボトラツクの半径方向周期の1/2の距離
だけ互に半径方向にずれるようにする。
記録キヤリヤの情報書込み中に情報層に書込み
スポツトだけでなく第２放射線スポツトを投影す
ることはドイツ国特許第2462056号明細書から既
知である。この第２放射線スポツトは書込みスポ
ツトに追従すると共に同一の半径方向位置を有し
ている。この第２放射線スポツトを用いて書込み
直後の情報区域を読取りこれら情報区域と書込む
べき情報とを比較し、書込みスポツトの半径方向
位置および接線方向速度を検出しないようにす
る。
多数の情報トラツクを同時に書込む装置には、
各々が書込みビームを発生する多数の書込み放射
線源を設け、書込みビームにより形成される書込
みスポツトを半径方向に互に隣接させ、各書込み
ビームに対し、このビームにより書込むべき情報
に応じ書込みビームの強度を切換える手段を設け
る。
中間層およびフオトレジスト層を有する記録キ
ヤリヤに情報を書込み次いでプレスを行つて得た
記録キヤリヤには唯１個の情報トラツクを設け
る。
情報層が直接読取り−書込み材料より成る記録
キヤリヤに情報を書込むことにより得た記録キヤ
リヤは、サーボトラツクおよび少なくとも１個の
情報トラツクを設け、情報トラツク部分とサーボ
トラツク部分とは半径方向に交互に配置し、サー
ボトラツクにはトラツクの方向に中間区域と交互
に配置された光学的に検出し得るサーボ区域を設
け、サーボトラツクの１回転当りのサーボ区域の
数を大きくかつ一定とし、サーボ区域の大きさを
中間区域の大きさとほぼ同一とし、情報トラツク
には空間周波数および／または長さが情報を表す
光学的に検出し得る情報区域を設ける。
情報トラツクおよびサーボトラツクの一方を位
相構造とし、他方を振幅構造とする。或いはまた
両方のトラツクを位相構造または振幅構造の何れ
かとすることができる。また、情報トラツクの位
相深さをサーボトラツクの位相深さとは相違させ
て読取り中サーボトラツクから情報トラツクへの
漏話が最小となるようにするのが好適である。こ
こに云う位相深さとは、トラツクによる１次回折
ビームの位相と零次回折ビームの位相との間の差
を意味するものとする。
中間層およびフオトレジスト層を設けた記録キ
ヤリヤ本体に情報を書込むことにより得られた記
録キヤリヤを読取るためには既知の読取り装置例
えば“フイリツプス・テクニカル・レポート”第
33巻、第７号、第194〜201頁に記載されている読
取り装置を用いることができる。この読取り装置
には読取りビームを発生する放射線源と、情報面
に読取りビームを集束する対物レンズ系と、記録
キヤリヤから到来する読取りビームの通路内に配
設され、このビームを記憶された情報を表す信号
に変換する放射線感応検出器とを設ける。また読
取るべき情報トラツクをサーボトラツクとしても
用いる。
情報トラツクのほかにサーボトラツクを具える
記録キヤリヤを読取る装置には、サーボビームを
発生する放射線源を設け、このサーボビームを対
物レンズ系により情報層のサーボスポツトにも集
束させ、記録キヤリヤから到来するサーボビーム
の通路内にサーボビームを読取りスポツトの局部
接線方向速度および半径方向位置に関する情報が
含まれている電気信号に変換する放射線感応検出
器を設ける。
以下図面を参照して本発明を説明する。
第１図は、記録キヤリヤ１の一部を示す平面図
である。記録キヤリヤは、数mmの厚さと約数十cm
の直径とを有するプラスチツクデイスクとするこ
とができる。この記録キヤリヤは、たとえばらせ
ん状サーボトラツク４を具えている。このサーボ
トラツクは、多数のサーボ区域５を具えており、
サーボトラツクの一回転当りのサーボ区域の数は
一定である。書込みの際には、明確に定められた
通路に従つて記録キヤリヤ上に情報を記録するた
めにサーボトラツクを用い、正しい速度で情報を
記録するためにサーボ区域を用いる。記録キヤリ
ヤは、適切な放射線により照射される場合に光学
的に検出しうる変化を受ける材料層９を具えてい
る。
サーボトラツク４は、振幅構造とすることがで
きる。サーボ区域５は、中間区域６あるいはラン
ド（lands）７とは異なる反射率または透過率を
有している。この場合、ランド７のみを放射線感
応層９で被覆する。
サーボトラツクを位相構造とし、サーボ区域を
基板内の凹部で構成するのが好適である。この場
合、サーボトラツク４を有するマスター記録キヤ
リヤから、多数の記録キヤリヤを公知の複製技術
を用いて製造することができる。
記録キヤリヤの全表面区域上に放射線感応層を
延在させることができる。サーボ区域５を凸部
（hills）によつても構成できることは明らかであ
る。
第２図は、第１図の記録キヤリヤの−′線
断面図の一部を示す。サーボトラツクの半径方向
に隣接する部分を再び４で示す。従つて、サーボ
トラツクの長さ方向は、図の平面に垂直である。
情報層９を基板８上に堆積する。
第３図は、第１図の記録キヤリヤの−′線
断面図の一部を示す。この図では、サーボ区域５
が示されている。
第１、第２、第３図の記録キヤリヤでは、層９
を直接読取り−書込み（direct−read−after−
write）材料で構成する。情報を、サーボトラツ
ク部４間のランド７に書込む。
情報層９は、たとえばテルルの薄い金属層で構
成することができる。この金属層は、充分に高い
強度のレーザビームにより局部的に溶融すること
ができ、したがつてこの情報層は局部的に異なる
反射率が与えられる。サーボ情報が位相構造内に
含まれ使用者によつて記録された情報が振幅構造
内に含まれる記録キヤリヤが得られる。
情報層９は、入射放射線の影響のもとで化学的
に反応する金属２重層たとえば鉄上に設けられた
アルミニウムの形態とすることもできる。高エネ
ルギー放射線ビームが照射される個所では、
FeAl6の層９が形成され、この層は反射率の低い
反射層である。テルル上に設けられたビスマスの
２重層の場合（この場合にはBi2Te3が形成され
る）にも同様の効果が得られる。あるいはまた、
層９を反射防止層で構成することもできる。この
場合、レーザビームが局部的に反射する情報区域
を生成することができる。
第４図は、多数の記録キヤリヤの製造に用いら
れる記録キヤリヤの半径方向断面の一部である。
基板５は、たとえばプラスチツクである。サーボ
トラツク４の位相構造を、表面６２が平面である
中間層６１により被膜する。層６１上にホトレジ
スト層６３を堆積する。このホトレジスト層およ
び中間層は、書込みの際に用いられるサーボビー
ムの波長に対しては透明である。サーボトラツク
の正確な検出を保証するために、たとえばアルミ
ニウムあるいはクロムの層を堆積した。中間層６
１は、ホトレジスト層が充分に粘着し、書込ビー
ムにより影響を受けない材料である。この層は、
透明ラツカーまたは樹脂で、あるいは透明プラス
チツク層で構成することができる。書込ビームお
よびサーボビームは異なる波長を有しているた
め、書込みの際に書込スポツトをサーボスポツト
上に配置して、書込まれる情報トラツクをサーボ
トラツク上に正確に重ね合わせることができる。
書込スポツトおよびサーボスポツトを重ね合わせ
る代わりに、互いに隣接するように配置すること
も勿論可能である。
第４図の記録キヤリヤを照射および現像した後
に、充分な厚さのニツケル層を層６３上に堆積す
る。ホトレジスト層内に含まれる情報が転写され
たニツケル・デイスクを取りはずして、プレスす
るためのいわゆる“フアーザー（father）”デイ
スクとして用いる。サーボトラツク４は、“フア
ーザー”デイスク上に再製されない。
情報が直接に書込まれる“マスター”記録キヤ
リヤは、また、第４図に示す形態をとる。しかし
この場合には、基板５はガラスである。ガラス・
デイスクの利点は、それが高い寸法安定性を有す
ることである。サーボトラツク４を、ガラス・デ
イスク内にエツチングする。“マスター”記録キ
ヤリヤは、数回再使用される。“フアーザー”デ
イスクを取りはずした後、層６３および層６１を
このために除去する。したがつて、サーボトラツ
クの位相構造が再び表面に現れる。次に、新しい
層６１およびホトレジスト層を堆積して、他のプ
ログラムを書込むことができる。
簡単にするため、第１図は数巻回のサーボトラ
ツクのみを示している。実際には、このサーボト
ラツクは、７cmの内半径および14cmの外半径を有
する領域ではたとえば35000巻回のトラツクを有
している。半径方向におけるサーボトラツクの周
期はたとえば２μｍであり、トラツク幅はたとえ
ば0.5μｍである。半径10cmのところのサーボ区
域の長さはたとえば0.5μｍであり、この長さ
は、書込まれる情報区域の平均長さとすることも
できる。
書込装置では、サーボスポツトをサーボトラツ
ク上に投射する。記録キヤリヤより到来するサー
ボビームを、放射線感応検出装置によつて受取
る。サーボビームがサーボ区域たとえば凹部に入
射する場合に、サーボビームが２個のサーボ区域
間に入射する場合よりも異なる放射線強度を検出
装置が受け取ることによつて、サーボ区域を検出
することができる。さらに、検出装置によつて受
取られた放射線強度は、サーボスポツトの中心が
サーボトラツクの中央に一致する程度に依存す
る。
サーボスポツトの寸法は、たとえば約１サーボ
トラツク幅の大きさである。サーボトラツクを読
取るときに、回折効果が発生し、サーボビームが
零次副ビーム、１次副ビームおよび多数の高次副
ビームに分割される。位相構造を有するサーボト
ラツクは、一定の位相深さを有している。このこ
とは、零次ビームと第１次ビームの１つとの間の
位相差を意味するものと理解すべきである。
サーボトラツクの中央に対するサーボスポツト
の位置を、２個の放射線感応検出器によつて検出
することができる。これら検出器は、零次の副ビ
ームの断面が１次の副ビームの断面に部分的にオ
ーバーラツプする面に配置する。したがつて、ト
ラツク方向に事実上平行であるラインの両側に検
出器を配置する。テレビジヨン・プログラムが記
憶されている記録キヤリヤを読取るためのこのよ
うなトラツキング方法は、“消費者エレクトロニ
クスにおけるI.E.E.E.会報”（1976年、11月）の
307ページの論文“ビデオデイスクの光学的読取
り（Optical read−out of ａ video disk）”に
開示されている。この方法は、一定の位相深さを
有する位相トラツクを追従するために用いること
ができる。
サーボスポツトおよび書込みスポツトを半径方
向に配置するためには、サーボトラツクを波状ト
ラツクとすることもできる。第５図は、波状サー
ボトラツクを有する記録キヤリヤの一部の平面図
を示す。本願人の出願に係る特願昭49−118302号
（特開昭50−68413号公報）「記録担体並に該記録
担体用の情報読取装置および情報書込装置」に記
載されている情報トラツクについて説明されてい
るように、波状トラツクを有するサーボトラツク
の中心線の平均位置に対する放射線スポツトの位
置の偏移の大きさおよび方向を、１個の検出器の
みを用いて検出することができる。この検出器
は、それぞれのサーボ区域を読取る、すなわちサ
ーボスポツトおよび書込スポツトの接線方向速度
を決定するためにも用いることができる。
波状サーボトラツクに対しては、波状トラツク
波動の空間周波数（１／ｐ）はサーボ区域の空間周波 数（１／ｑ）よりもかなり小さく、したがつてサーボ トラツクの波動に基づく検出器信号中の変調を、
周波数に関し、サーボ区域列に基づく変調と区別
することができる。サーボトラツク波動の振幅ａ
は、サーボトラツクの幅ｂよりも十分小さいの
で、サーボスポツトの大部分が常にサーボトラツ
ク上に入射する。振幅は、たとえばトラツク幅の
1/10である。
本願人の出願に係る特願昭48−96749号〔特公
昭56−52361号（特許第1127516号）〕「円板状情報
キヤリヤおよびその製造法」は、たとえばガラス
のキヤリヤ（このキヤリヤはホトレジスト層を具
えている）にテレビジヨン・プログラムを光学的
に書込む方法を開示している。この場合、レーザ
ビームの強度は高レベルと低レベルとの間で切換
えられ、切換え瞬時は書込まれる情報により決定
される。レーザビームに対して移動するホトレジ
スト層は、書込むべき情報に従つて断続的に照射
される。本発明記録キヤリヤにサーボトラツクを
書込むために、同様の方法を用いることができ
る。この場合、書込みビームの強度は、たとえば
4MHzの一定の周波数で高レベルと低レベルとの
間で切換えられる。公知の現像およびエツチング
技術を用いて、このようにして得られた照射パタ
ーンを、トラツク状に配置されたサーボ凹部の深
さ形状に変換することができる。前述したよう
に、中間層およびホトレジスト層を堆積した後に
得られる“マスター”記録キヤリヤは情報を具え
ることができる。オーデイオ・レコードの製造に
用いられる複製技術に似た複製技術を用いること
によつて、“マスター”記録キヤリヤからたとえ
ばプラスチツクの多数の記録キヤリヤを作ること
もできる。これらの記録キヤリヤに“直接読取り
−書込み”材料あるいは中間層とホトレジスト層
のいずれかを設けた後に、これら記録キヤリヤ本
体は書込みに適するようになる。
波状サーボトラツクを有する“マスター”記録
キヤリヤを製造する場合、前記特開昭50−68413
号公報に記載されているように、放射線ビームの
方向を書込みの間に小さな角度にわたつて周期的
に変動させる。このためには、方向変調器たとえ
ば音響−光学変調器を、放射線ビーム通路内に設
ける。このような変調器は、水またはガラスのよ
うな或る媒質を有するセルを具えており、このセ
ル上に電子機械的変換器が設けられている。これ
らの変換器に信号が供給されると、音響波がセル
に発生する。これはセルの媒質内にいわゆるブラ
ツグ（Bragg）回折を生じ、このためセルを通過
する放射線ビームが回折される。回折角は、電子
機械的変換器に供給される信号の周波数によつて
決定される。この周波数を周期的かつ連続的に変
えることによつて、書込まれているサーボトラツ
クが波状トラツクとなる。
第６図は、本発明書込装置の一例を示す。１
は、螺旋状サーボトラツク４の設けられた円形デ
イスク状記録キヤリヤを示す。この記録キヤリヤ
は、モータ１２によつて駆動される軸１１によつ
て回転される。情報を層９にこの層を局部的に溶
融することによつて書込む場合には、書込光源１
３はたとえば１ワツトの連続出力と480nmの波長
を有するアルゴンレーザである。このレーザによ
り発生された放射線ビーム１４を、第１反射鏡１
５および第２反射鏡１６によつて記録キヤリヤに
反射させ、たとえばサーボトラツク４間で、対物
レンズ１７により放射線感応層９上の書込放射線
スポツトV1に焦点合わせする。補助レンズ１８
は、対物レンズが正確に調整され、放射線スポツ
トV1が最小寸法となるようにする。
反射鏡１６は傾斜反射鏡であり、たとえば反射
鏡が２方向に、すなわち図の平面に垂直な軸の周
りに、および記録キヤリヤに平行かつ前記垂直軸
に垂直な軸の周りに傾斜できるように、ダイヤモ
ンド支柱１９上で回動する。前者の軸の周りの傾
斜運動（これは電磁コイル２０により実現され
る）は、書込スポツトV1の半径方向位置を補正
できるようにし、後者の軸の周りの傾斜運動（こ
れは電磁コイル２１によつて実現される）は、書
込スポツトの接線方向速度を補正できるようにす
る。さらに、対物レンズ１７を、たとえば可動コ
イル２２内につり下げて、対物レンズがその光学
軸に沿つて動くようにすることができる。したが
つて、情報層９に対する対物レンズの焦点合わせ
を補正することができる。
モータ１２は、搬送台２３に取付ける。この搬
送台は、搬送台モータ２６によつて駆動される送
りネジ２５により矢印２４の方向に動かすことが
できる。搬送台を動かすことによつて、記録キヤ
リヤが書込スポツトV1に対して移動する。この
ようにして、傾斜反射鏡１６による密制御に加え
て、書込スポツトV1の半径方向位置の粗制御が
可能である。
書込ビーム１４の通路内に、強度変調器２７を
設ける。この変調器によつて、書込ビームの強度
を、層９に変化を生じさせる高レベルとこのよう
な変化を生じさせない低レベルとの間で切換える
ことができる。変調器２７は、変調器制御回路３
０により制御する。この制御回路の入力端子は、
書込むべき情報を供給する情報源３８に接続され
ている。
第６図に示す変調器２７は、電子−光学変調器
とすることができる。この変調器は、供給される
電圧に基づいて放射線ビームの偏光面を回転させ
る電子−光学結晶２８と、偏光の変化を放射線ビ
ームの強度変動に変換する検光子２９とを具えて
いる。
変調器２７は、音響−光学変調器とるすことも
でき、この場合には、音響−光学セルとたとえば
零次ビームを透過するのみである開口とを具えて
いる。音響波がセルを横切らない場合には、放射
線は回折されず、開口は記録キヤリヤにすべての
放射線を透過させる。音響波がセルを通過する場
合には、大半の放射線が回折され、少量の放射線
のみが層９に達する。
書込装置は、第２放射線源３１、たとえば
5mWの連続出力と632.8nmの波長とを有するヘリ
ウム−ネオン・レーザを具えている。この放射線
源により発生されたビーム３２を、ビーム分割器
３３によつて反射鏡１５に反射させる。この反射
鏡は、赤色ヘリウム−ネオン光を透過し、青色ア
ルゴン光を反射するフイルター反射鏡の形態をと
る。ビーム３２は要素１８，１６，１７を通過
し、サーボスポツトV2がサーボトラツク上に形
成される。
第７図は、一例として、書込スポツトV1およ
びサーボスポツトV2がサーボトラツク４に対し
どのように配置できるかを示す。この図では、書
込スポツトにより書込まれる情報トラツクを１０
で示す。
ビーム３２は、層９によつて反射され、ビーム
自身に沿つて引返す。反射ビーム３２′を、放射
線感応検出装置によりさえぎられるように、ビー
ム分割器３３によつて透過する。このビーム分割
器３３は、たとえば放射線源３１により放出され
たビーム（このビームは特定方向の偏光を有す
る）を透過する偏光選択プリズムであり、ビーム
の放射通路内に、λ／４プレート（λがビーム３
２の波長である）を対角位置に配置する。このプ
レートはビームの偏光面を45゜にわつて回転させ
る。ビーム３２はλ／４プレートを２回通過する
ので、偏光面は全体として90゜にわたつて回転さ
れ、このため反射ビーム３２′は分割器プリズム
３３によつて透過される。
透過ビーム３２′は、反射鏡３９によつて放射
線感応検出器D1に反射される。補助レンズ３５
は、放射線を検出器上に集めるようにする。この
検出器D1の出力端子に、サーボ区域の周波数に
より変調された信号Ｓtが発生する。この信号Ｓt
は、サーボスポツトの接線方向速度についての情
報、および書込スポツトがサーボスポツトに組合
わされている（locked）ので、書込スポツトの接
線方向速度についての情報を有している。
検出器D1の出力端子を比較回路３６の入力端
子に接続し、この比較回路の第２入力端子には基
準信号Ｒfを供給する。比較回路３６には周波数
比較回路を設け、これにて信号Ｓtの周波数を基
準信号源３７の周波数Ｒfと比較する。比較回路
３６には一層精密な制御をするために、信号Ｓt
とＲfの位相を比較する位相比較回路も設ける。
基準信号源３７は情報源３８に接続される電子ク
ロツクによつて構成することができ、このクロツ
クは書込むべき情報を書込み装置に与える速度を
決定する。比較回路３６の出力端子に現れる信号
Ｓt′はクロツク信号および書込みスポツトの接線
方向の速度を互に適合させるのに用いる。
第６図の書込み装置を中間層およびホトレジス
ト層を有している記録キヤリヤに情報を書込むの
に用いる場合には、最終記録キヤリヤにはサーボ
トラツクが最早や存在しないため、信号Ｓt′は第
６図にライン５８で示すように電子クロツク３７
のクロツク周波数を補正するのに用いることがで
きる。書込み装置を直接読取り−書込み材料層に
情報を書込むのに用いる場合には、サーボトラツ
クが記録キヤリヤに存在するので、信号Ｓt′は書
込みスポツトの接線方向の速度を補正するのに用
いる。この目的のため、信号Ｓt′を書込みスポツ
トの接線方向制御装置４０に供給し、この制御装
置の出力端子をコイル２１に接続する。対物レン
ズ１７の像視野内に書込みスポツトを保つため
に、回転モータの速度はモータ制御装置４１を介
して制御することができる。このための制御信号
は傾斜ミラー１６の中心位置に対するこのミラー
の接線方向のずれ量から導出することができる。
書込みスポツトV1の半径方向の位置に対する
制御信号を導出するには、波形サーボトラツクに
つき前述した方法を用いることができる。さらに
前述したように、サーボトラツクが非波形トラツ
クの場合には１個の検出器D1の代わりに２個の
サブ−検出器を用いることもできる。この場合、
上記サブ−検出器の一方は０次ビームと＋１次サ
ブビームとの重畳領域内に位置させると共に、第
２のサブ検出器は０次ビームと−１次のサブビー
ムとの重畳領域内に位置させる。両サブ−検出器
の出力信号の差はサーボスポツトのサーボトラツ
クに対する半径方向の位置のずれ量およびその方
向によつて定まる。サブ−検出器の出力信号を互
に加算することによつて得られる信号は単一の検
出器D1によつて供給される信号と同じであり、
この信号から書込みスポツトの接線方向の速度制
御信号を導出することもできる。
第６図には半径方向の制御信号を導出する別の
方法も示してある。放射線源３１とスプリツタ−
プリズム３３との間には、例えば格子４２のよう
なビームスプリツターを設ける。この格子４２に
よつて放射線ビーム３２を０次ビーム３２ａと、
＋１次ビーム３２ｂと、−１次ビーム３２ｃとに
分割する。ビーム３２ａを層９上のサーボスポツ
トV2に集束させ、ビーム３２ｂおよび３２ｃを
補助スポツトV3およびV4に集束させる。第７図
に示すように、補助スポツトV3およびV4はサー
ボスポツトV2に対して反対方向に接線方向およ
び半径方向にずらせる。サーボスポツトの中心が
サーボトラツクの中央に位置する場合には補助ス
ポツトの中心はサーボトラツクの両縁部に位置す
る。
層９にて反射した後、ビーム３２ａ，３２ｂお
よび３２ｃは素子１７，３４，１６，１８，１
５，３３，３９および３５を通過する。サーボス
ポツト３１ａを検出器D1上に結像させる。ビー
ム３２ａは前述したビーム３２と同じ作用をす
る。補助スポツトV3およびV4を放射線感応検出
器D2およびD3上に結像させる。サーボスポツト
V2の半径方向の位置、従つて書込みスポツトV1
の位置が正しければ、両検出器D2およびD3に結
像される補助スポツトV3およびV4の強度が等し
くなることは明らかである。サーボスポツトの半
径方向の位置がサーボトラツクに対してずれてい
る場合には、検出器D2およびD3の何れか一方が
他方のものよりも多い放射線を受光する。従つ
て、検出器D2およびD3の出力信号の差は、サー
ボスポツト、従つて書込みスポツトの半径方向位
置のずれの大きさおよび方向に依存する。
検出器D2およびD3の出力信号を差動増幅器４
３に供給する。この増幅器の出力端子には書込み
スポツトの半径方向の誤差信号Ｓrが現れる。こ
の信号Ｓrを半径方向制御装置４４に供給する。
制御装置４４の出力端子はミラー１６を半径方向
に傾けるコイル２０に接続する。ミラー１６を誤
差信号Ｓrが０となるように傾斜させる。対物レ
ンズ１７の視野内に書込みスポツトを保つため
に、キヤリツジモータはキヤリツジモータ制御装
置４５より既に制御しておく。この目的のための
制御信号は、傾斜ミラー１６の中心位置から、こ
のミラー１６が半径方向にずれている量から導出
することができる。
対物レンズ１７の集束面と情報層の平面との間
のずれ量を表す集束誤差信号を発生させるため
に、書込み装置には例えば半透ミラー３９の後方
に第２の放射線感応検出系４６を設けることがで
きる。この検出系４６は４個のサブ−検出器４６
ａ，４６ｂ，４６ｃおよび４６ｄを具えている。
半透ミラー３９と検出系４６との間には光学くさ
び４７を設ける。この光学くさび４７は記録キヤ
リヤによつて反射されたビーム３２′を２つのサ
ブビーム３２′ａと３２′ｂとに分割する。サブビ
ーム３２′ａおよび３２′ｂは検出器４６ａ，４６
ｂと４６ｃ，４６ｄとそれぞれ共働する。補助レ
ンズ４８は対物レンズ１７の射出ひとみを検出系
４６に結像させると共に、ビーム３２′を光学く
さび４７の頂点に集束させる作用をする。
第６図はビーム３２を層９に正確に集束させて
ある状態を表している。この場合、反射ビーム３
２′は光学くさび４７の頂点に正確に集束し、サ
ブビーム３２′ａおよび３２′ｂは検出器４６ａお
よび４６ｂと、検出器４６ｃおよび４６ｄとにそ
れぞれ対称に入射する。ビーム３２が層９の上方
にて集束される場合には、反射ビーム３２′は光
学くさび４７の頂点の左側にて集束してしまう。
このような場合には、サブビーム３２′ａおよび
３２′ｂが内方に変位してしまい、従つて検出器
４６ｂまたは４６ｃが検出器４６ａおよび４６ｄ
の受光量よりもそれぞれ多量の放射線ビームを受
光するようになる。ビーム３２が層９の下側にて
集束する場合には、上述した状態とは逆の状態が
得られる。
検出器４６ａおよび４６ｄの出力端子は差動増
幅器４９の第１入力端子に接続し、検出器４６ｂ
および４６ｃの出力端子は増幅器４９の第２入力
端子に接続する。差動増幅器４９の出力端子には
集束誤差信号Ｓfが現れる。この信号をビーム集
束用制御装置５０に供給し、この制御装置により
対物レンズ１７のコイル２２に流す電流を制御し
て、情報層９の平面に対する対物レンズ１７の位
置を制御する。
第６図に基づくビーム集束誤差検出系によれ
ば、光学くさび４７に対する検出系４６の変位、
またはビーム３２′の方向に垂直の光路における
他の光学素子がビーム集束誤差信号Ｓfに及ぼす
影響をなくすことができると云う利点がある。光
学くさび４７が検出系４６に対して変位する場合
には、サブビーム３２′ａおよび３２′ｂもそれぞ
れ関連する検出器４６ａおよび４６ｂと、検出器
４６ｃおよび４６ｄの上にて同一方向に変位され
る。検出器４６ａおよび４６ｃからの信号を互い
に加算すると共に、検出器４６ｂおよび４６ｄか
らの信号も互に加算し、このようにしてそれぞれ
加算した信号を互に減算して位置誤差信号を得
る。この信号によつて、例えば検出系に対する光
学くさび４７のビーム方向に垂直方向の位置を補
正することができる。
今までは層９が反射性の層として述べてきた
が、本発明は放射線を透過する情報層の場合にも
用いることができる。この場合には検出器D1，
D2およびD3を、記録キヤリヤを通過する放射線
ビームの光路内に設けることができる。層９での
反射を利用する第６図によるビーム集束検出系の
代わりに、サーボ情報を利用するビーム集束検出
系を用いることもできる。この場合には例えば本
願人の出願に係る特願昭48−34419号（特公昭53
−13122号）に記載されているように、２個の検
出器を光ビームの光路内に互に接線方向に設ける
ことができる。２個の検出器の出力信号の位相差
は放射線ビームがトラツク面に集束された度合に
依存する。
第６図の書込み装置では放射線源としてガスレ
ーザを用いている。記録情報を読取る場合には、
半導体ダイオードレーザを使用することもでき
る。また、本発明者等は半導体ダイオードレーザ
によつて情報を適当な材料（テルル）に書込むの
にも成功した。これがため、第６図の装置にはガ
スレーザの代わりにダイオードレーザを用いるこ
とができる。
第４図に基づいて記録キヤリヤ本体に情報を書
込み、ついでこれを複製することによつて得られ
る最終記録キヤリヤは従来形状のものであり、こ
れは従来の装置で読取ることができる。このよう
な記録キヤリヤおよび読取り装置は、例えば
「Philips’ Technisch Tijdschrift」（33，No.
７、第194〜197頁）に記載されている。
第８図は第２および３図に基づく記録キヤリヤ
に情報を書込んだ記録キヤリヤの部分を示す平面
図である。第８図の記録キヤリヤの情報トラツク
部分１０は情報区域５１を具えており、これらの
情報区域５１をサーボトラツク部分４の間に位置
させる。書込み放射線ビームの切換周波数、場合
によつてはこれら情報区域の長さは蓄積する情報
によつて決定する。
第８図の記録キヤリヤを読取る場合には、特殊
な読取り装置、すなわち読取りビーム以外に、サ
ーボビームも発生する装置を用いる必要がある。
この種の装置は読取りスポツトの半径方向の位置
および接線方向の速度を制御し、かつ読取りビー
ムを集束させるために、第６図の装置と同様なサ
ーボ系を具えている。上述したような装置と第６
図の装置との相違点は、素子３８，３０，２８お
よび２９を省いて、放射線源３１の代わりに放射
エネルギーの低い放射線源を用い、この放射線源
とミラー１５との間に半透明ミラーを配置して、
これにより記録キヤリヤによつて反射された読取
りビームを放射線感応情報検出器に反射させるよ
うにする点だけである。なおこの場合上記放射線
感応情報検出器の出力信号は読取り情報に基づい
て変調される。
第６図の装置は情報が正確に書込まれたか否か
を検査するのにも用いることができる。この場合
情報の書込み後にビーム強度を一定の低レベルに
セツトでき、しかも記録キヤリヤをもう一度走査
することができる。読取り情報は情報源３８から
の情報と比較する。
上述したような検査は書込み時に行うこともで
きる。この場合には情報層によつて反射される書
込み放射線ビームの一部分を用いることができ
る。この放射線ビームの一部分は層９の局部状態
に依存し、このビーム部分をミラー１６および１
５と、検光子２９の前面とによつて反射して、追
加の検出器５３によつて遮ぎるようにする。この
検出器５３からの信号を比較回路５４の情報源３
８からの信号と比較することができる。
実際には読取りスポツトおよびサーボスポツト
が、情報トラツクおよびサーボトラツクの幅より
も僅かに大きいため、サーボトラツクから情報ト
ラツクへ、或いはその逆の漏話がなくなることは
ないが、このような漏話をなくすには多くの方法
がある。
前述したように、サーボトラツクは位相構造の
ものとし、また情報トラツクは振幅構造のものと
することができる。これは例えば書込み情報をビ
スマスまたはテルルの材料に書込む場合である。
サーボトラツクおよび情報トラツクを種々の光学
的な方法により読取る場合には、漏話を低減させ
ることができる。振幅構造の情報トラツクは記録
キヤリヤから到来するすべての読取り放射線ビー
ムを単一の検出器上に集束させて読取ることがで
きる。位相構造のものは、２個の検出器を対物レ
ンズ１７の出射ひとみ内か、或いはこの出射ひと
みの像内で、実際上トラツク方向に垂直に延在し
ているラインの両側に設けて読取ることができ
る。この場合、一方の検出器は０次ビームと＋１
次ビームとの重畳領域内に配置すると共に、他方
の検出器は０次ビームと−１次ビームとの重畳領
域内に配置する。１次ビームは位相トラツクの区
域で放射線をトラツク方向に回折して発生される
ビームである。２つのトラツクに対する位相深度
を相違させることによつても漏話を低減させるこ
とができる。トラツクが位相構造のものを特殊な
光学装置によつて読取る場合には、所定の最適位
相深度があり、それは例えばπラジアンである。
位相深度をπラジアンとすれば、放射線ビームが
或る区域に入射する場合および放射線ビームが２
つの区域間に入射する場合に、検出器によつて受
光される放射線強度の差が最大となる。このよう
なトラツクを走査すると、検出器は最適に変調さ
れる。特殊な光学的装置によつて読出しを行う場
合には、情報トラツクの位相深度を最適とし、サ
ーボトラツクの位相深度を相違させて、情報信号
の漏話を低減させるようにするだけの工程を採る
ことができる。
サーボトラツクから情報トラツクへの漏話は、
２個の追加の放射線スポツトを用いて情報トラツ
ク部分の両側に位置する２個のサーボトラツク部
分を情報トラツク部分と一緒に同時に読み出すこ
とによつて低減させることもできる。この場合に
は追加の放射線スポツトに関連する追加の検出器
の出力信号を加算し、この加算信号を係数Ｋだけ
減衰させて差動増幅器の一方の入力端子に供給す
る。差動増幅器の他方の入力端子には情報トラツ
クを読取る情報検出器からの信号を供給する。減
衰率Ｋが情報トラツクによる情報検出器信号の振
幅成分と、サーボトラツク部分による検出器信号
の振幅成分との比に等しい場合には、サーボトラ
ツクの影響が顕著に低減された信号が差動増幅器
の出力端子に得られる。
今まで述べてきた装置では書込み時に１つの書
込みスポツトを用い、読取り時には１つの読取り
スポツトを用いる。情報の最大転送速度Ｔrは書
込み放射線ビームを切換え得る周波数によつて限
定され、書込み放射線源としてダイオードレーザ
を用いる場合、情報の最大転送速度Ｔrはダイオ
ードレーザに流す電流を切換え得る周波数によつ
て限定される。さらに、情報の最大転送速度は記
録キヤリヤを回転し得る速度と、トラツクにおけ
る区域の最大空間周波数とによつても制限され
る。最大空間周波数とは各区域を依然として別々
に読取り得る区域の空間周波数のことである。
最大情報転送速度は、記録キヤリヤ本体のサー
ボトラツクのピツチを比較的大きく選定し、かつ
数個の書込み放射線源で書込み、数個の読取り放
射線源で読取ることによつて高めることがでる。
このことはビデオ情報をデイジタル形態にて書込
む必要のなる場合に特に重要なことである。この
場合情報転送速度は、ビデオ情報を周波数被変調
信号として書込む場合よりも遥かに高くする必要
がある。種々の書込み放射線源により発生される
書込みビームは各々強度変調される。また種々の
読取り放射線源によつて発生される読取りビーム
は個々の情報検出器と共働する。書込みスポツト
の幾つかはサーボトラツクの片側に投影し、他の
書込みスポツトはサーボトラツクの反対側に投影
する。この場合、サーボ情報は書込むべき各情報
トラツクにできるだけ接近して位置させる。この
ような複数個の書込みスポツトによる書込み法
は、書込みおよび読取り放射線源としてダイオー
ドレーザを用いる場合に特に興味あるものであ
る。
サーボトラツク部分の間に複数の情報トラツク
用の室がある場合には、例えば第１情報トラツク
にビデオ信号を記録し、第２情報トラツクに可聴
信号を記録することができる。この場合、ビデオ
信号は第１書込み処理中に記録し、また関連する
可聴信号はビデオ信号の書込み後における任意瞬
時の第２書込み処理中に記録することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明記録キヤリヤの１部分を示す平
面図、第２図は記録キヤリヤの第１例の１部分を
示す半径方向断面図、第３図は同じくその接線方
向断面図、第４図は記録キヤリヤの第２例の１部
分を示す半径方向断面図、第５図は波形サーボト
ラツクを有する記録キヤリヤの１部分を示す平面
図、第６図は記録キヤリヤに情報を書込む装置の
構成を示すブロツク図、第７図は種々のトラツク
に対する種々の放射線スポツトの位置を示す平面
図、第８図は本発明により記録キヤリヤから取出
した情報キヤリヤの１部分を示す平面図である。 １……記録キヤリヤ、４……螺旋状サーボトラ
ツク、５……サーボ区域、６……中間区域、７…
…ランド、８……基板、９……放射線感応層、１
０……情報トラツク、１１……軸、１２……モー
タ、１３……書込み放射線源、１４……放射線ビ
ーム、１５……第１反射鏡、１６……第２反射
鏡、１７……対物レンズ、１８……補助レンズ、
１９……ダイヤモンド支柱、２０，２１……電磁
コイル、２２……可動コイル、２３……搬送台、
２５……送りネジ、２６……搬送台モータ、２７
……強度変調器、２８……電子−光学結晶、２９
……検光子、３０……変調器制御回路、３１……
第２放射線源、３２……放射線ビーム、３３……
スプリツタープリズム、３６……比較回路、３７
……基準信号源（クロツク）、３８……情報源、
３９……半透ミラー、４０……書込みスポツト制
御装置、４１……モータ制御装置、４２……格子
（ビームスプリツター）、４３……差動増幅器、４
４……ビームスポツトの半径方向制御装置、４５
……キヤリツジモータ制御装置、４６……放射線
感応検出系、４７……光学くさび、４８……補助
レンズ、４９……差動増幅器、５０……ビーム集
束用制御装置、５１……情報区域、５３……検出
器、５４……比較回路、６１……中間層、６２…
…中間層の表面、６３……ホトレジスト層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 放射線感応情報層を支持する円板状基板を有
    し、前記情報層に、ビデオ情報および／またはオ
    ーデイオ情報のような情報を、書込みスポツトに
    集束される放射線の書込みビームによつて光学的
    に検出し得るトラツク状構造の形態の情報区域に
    書込む如くした記録キヤリヤであつて、該記録キ
    ヤリヤは全表面区域に亘つて延在する光学的に検
    出し得る事前形成サーボトラツクを設けてある記
    録キヤリヤにおいて、 前記事前形成サーボトラツクにはトラツクの方
    向に中間区域と交互に配設された光学的に検出可
    能な事前形成サーボ区域を設け、サーボトラツク
    の１回転当りのサーボ区域の数を一定の大きな値
    とし、サーボ区域の大きさを中間区域の大きさに
    ほぼ等しくし、前記サーボ区域の連続は、情報の
    書込中において、書込みスポツトと記録キヤリヤ
    基板との相対移動に関する速度に比例する信号を
    形成し、この信号により記録キヤリヤへの書込速
    度が制御できる如くなつていることを特徴とする
    記録キヤリヤ。 ２ サーボトラツクを位相構造としたことを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の記録キヤリ
    ヤ。 ３ サーボトラツクの半径方向の周期長をサーボ
    トラツクの幅の数倍としたことを特徴とする特許
    請求の範囲第１項記載の記録キヤリヤ。 ４ 情報層を直接読取り−書込み材料で構成した
    ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の記
    録キヤリヤ。 ５ 情報層をフオトレジスト層で形成し、このフ
    オトレジスト層とサーボトラツクとの間に中間層
    を介挿し、この中間層の前記サーボトラツクとは
    反対側を平坦とし、中間層およびフオトレジスト
    層は書込み中サーボトラツクが追従するサーボビ
    ームの放射線を透過し得るようにしたことを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の記録キヤリ
    ヤ。 ６ サーボトラツクを波形トラツクとし、その波
    形の振幅をサーボトラツクの幅よりも小さくし、
    波形の周波数をサーボ区域の空間周波数よりも低
    くしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
    載の記録キヤリヤ。 ７ 光学的に検出し得るトラツク状構造の形態の
    情報構造を有し、半径方向において、これら情報
    トラツクは、サーボ区域を有する事前形成サーボ
    トラツクと交互に配置されており、該情報トラツ
    ク部分は光学的に検出しうる情報区域と中間区域
    とが交互に配列されて形成され、これら情報区域
    の空間周波数及び／又は長さによつて書込むべき
    ユーザ情報を表わす如くした特許請求の範囲第１
    項記載の記録キヤリヤ。 ８ 情報トラツクおよびサーボトラツクの一方の
    トラツクを位相構造とし、他方のトラツクの振幅
    構造としたことを特徴とする特許請求の範囲第７
    項記載の記録キヤリヤ。 ９ 情報トラツクの位相深さをサーボトラツクの
    位相深さよりも相違させたことを特徴とする特許
    請求の範囲第７項記載の記録キヤリヤ。
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