JPS6260212A - 永久磁石材料の製造方法 - Google Patents
永久磁石材料の製造方法Info
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- JPS6260212A JPS6260212A JP60200890A JP20089085A JPS6260212A JP S6260212 A JPS6260212 A JP S6260212A JP 60200890 A JP60200890 A JP 60200890A JP 20089085 A JP20089085 A JP 20089085A JP S6260212 A JPS6260212 A JP S6260212A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
利用産業分野
この発明は、Fe−f3−R系永久磁石材料の製造方法
に係り、焼結永久磁石表面の少なくとも1主面に残存す
る黒皮、あるいは磁石表面の研削加工等に伴なう磁石特
性の劣化を防止し、さらに磁石材料の耐食性被膜の密着
性を改善した耐食性のすぐれたFe−B−R系永久磁石
材料の製造方法に関する。
に係り、焼結永久磁石表面の少なくとも1主面に残存す
る黒皮、あるいは磁石表面の研削加工等に伴なう磁石特
性の劣化を防止し、さらに磁石材料の耐食性被膜の密着
性を改善した耐食性のすぐれたFe−B−R系永久磁石
材料の製造方法に関する。
背景技術
現在の代表的な永久磁石材料は、アルニコ、ハードフェ
ライトおよび希土類コバルト磁石である。
ライトおよび希土類コバルト磁石である。
この希土類コバルト磁石は、磁気特性が格段にすぐれて
いるため、多種用途に利用されているが、主成分のSm
、Coは共に資源的に不足し、かつ高価であり、今後長
期間にわたって、安定して多量に供給されることは困難
である。
いるため、多種用途に利用されているが、主成分のSm
、Coは共に資源的に不足し、かつ高価であり、今後長
期間にわたって、安定して多量に供給されることは困難
である。
そのため、磁気特性がすぐれ、かつ安価で、さらに資源
的に豊富で今後の安定供給が可能な組成元素からなる永
久磁石材料が切望されてきた。
的に豊富で今後の安定供給が可能な組成元素からなる永
久磁石材料が切望されてきた。
本出願人は先に、高価なSmやらを含有しない新しい高
性能永久磁石としてFa−B−R系(RはYを含む希土
類元素のうち少なくとも1種)永久磁石を提案した(特
開昭59−46008号、特開昭59−64733号、
特開昭59−89401号、特開昭59−132104
@)。
性能永久磁石としてFa−B−R系(RはYを含む希土
類元素のうち少なくとも1種)永久磁石を提案した(特
開昭59−46008号、特開昭59−64733号、
特開昭59−89401号、特開昭59−132104
@)。
この永久磁石は、Rとして陶や円を中心とする資源的に
豊富な軽希土類を用い、B、Fsを主成分として25)
IGO8以上、最高では458GOe以上にも達する極
めて高いエネルギー積を示す、すぐれた永久磁石である
。
豊富な軽希土類を用い、B、Fsを主成分として25)
IGO8以上、最高では458GOe以上にも達する極
めて高いエネルギー積を示す、すぐれた永久磁石である
。
最近、磁気回路の高性能化、小形化に伴ない、Fe−B
−R系永久磁石材料が益々注目されてきた。
−R系永久磁石材料が益々注目されてきた。
かかる用途の永久磁石材料を製造するには、成形焼結し
た焼結磁石体表面の凹凸や歪みを除去するため、おるい
は表面酸化層を除去するため、ざらには磁気回路に組込
むために、磁石体の全面おるいは所要表面を切削加工あ
るいは研削加工する必要があり、加工には外周刃切断機
、内周刃切断機。
た焼結磁石体表面の凹凸や歪みを除去するため、おるい
は表面酸化層を除去するため、ざらには磁気回路に組込
むために、磁石体の全面おるいは所要表面を切削加工あ
るいは研削加工する必要があり、加工には外周刃切断機
、内周刃切断機。
表面研削機、センタレスグラインダー、ラッピングマシ
ン等が使用される。
ン等が使用される。
しかしながら、Fe−B−R系永久磁石材利を切削また
は研削加工すると、Fe−B−R系永久1石材料は、主
成分として、空気中で極めて酸化しやすく、直ちに安定
な酸化物を生成する希土類元素及び鉄を含有するため、
発熱したり大気と加工面との接触により酸化層が生成し
、磁気特性の劣化を招来する問題があった。
は研削加工すると、Fe−B−R系永久1石材料は、主
成分として、空気中で極めて酸化しやすく、直ちに安定
な酸化物を生成する希土類元素及び鉄を含有するため、
発熱したり大気と加工面との接触により酸化層が生成し
、磁気特性の劣化を招来する問題があった。
また、Fe −B −R系磁気異方性焼結体からなる永
久磁石を、磁気回路に組込んだ場合に、磁石表面に生成
する酸化物により、磁気回路の出力低下及び磁気回路間
の特性ばらつきを惹起し、また、表面酸化物の脱落によ
る周辺機器への汚染の問題がめった。
久磁石を、磁気回路に組込んだ場合に、磁石表面に生成
する酸化物により、磁気回路の出力低下及び磁気回路間
の特性ばらつきを惹起し、また、表面酸化物の脱落によ
る周辺機器への汚染の問題がめった。
そこで、出願人は先に、上記のFa−B−R系永久磁石
の耐食性の改善のため、磁石体表面に無電解めっき法お
るいは電解めっき法により耐食性金属めっき層を被覆し
た永久磁石(特願昭58−162350@)及び磁石体
表面にスプレー法あるいは浸漬法によって耐食性樹脂層
を被覆した永久磁石を提案(特願昭58−171907
号)した。
の耐食性の改善のため、磁石体表面に無電解めっき法お
るいは電解めっき法により耐食性金属めっき層を被覆し
た永久磁石(特願昭58−162350@)及び磁石体
表面にスプレー法あるいは浸漬法によって耐食性樹脂層
を被覆した永久磁石を提案(特願昭58−171907
号)した。
しかし、前者のめっき法では永久磁石体が焼結体であり
有孔性のため、この孔内にめっき前処理で酸性溶液また
はアルカリ性溶液が残留し、経年変化とともに発錆する
恐れがおり、また磁石体の耐薬品性が劣るため、めっき
時に磁石表面が腐食されて密着性・防食性が劣る問題が
あった。
有孔性のため、この孔内にめっき前処理で酸性溶液また
はアルカリ性溶液が残留し、経年変化とともに発錆する
恐れがおり、また磁石体の耐薬品性が劣るため、めっき
時に磁石表面が腐食されて密着性・防食性が劣る問題が
あった。
また後者のスプレー法による樹脂の塗装には方向性があ
るため、被処理物表面全体に均一な樹脂被膜を施すのに
多大の工程2手間を要し、特に形状が複雑な異形磁石体
に均一厚みの被膜を施すことは困難であり、また浸漬法
では樹脂被膜厚みが不均一になり、製品寸法精度が悪い
問題があった。
るため、被処理物表面全体に均一な樹脂被膜を施すのに
多大の工程2手間を要し、特に形状が複雑な異形磁石体
に均一厚みの被膜を施すことは困難であり、また浸漬法
では樹脂被膜厚みが不均一になり、製品寸法精度が悪い
問題があった。
このため発明者らは、Fs −B −R系永久磁石の耐
食性を改善する方法として、焼結磁石体表面に、特定粒
径、硬度を有する硬質粉末よるグリッドブラストを施し
た後、薄膜形成技術にて、磁石体表面にM薄膜層を被着
した永久磁石材料(特願昭60−110793号)を提
案した。
食性を改善する方法として、焼結磁石体表面に、特定粒
径、硬度を有する硬質粉末よるグリッドブラストを施し
た後、薄膜形成技術にて、磁石体表面にM薄膜層を被着
した永久磁石材料(特願昭60−110793号)を提
案した。
これにより、Fa −B −R系永久磁石は著しく耐食
性を増したが、上記AI薄膜は、蒸着法等において、蒸
発したへρ粒子が、磁石体表面に堆積して形成されるた
め、密度不足を生じ、長期間にわたる使用において、局
部的にA(1m膜が剥離したり、薄膜層に亀裂を生じた
りし、局部的な錆発生が懸念される問題があった。
性を増したが、上記AI薄膜は、蒸着法等において、蒸
発したへρ粒子が、磁石体表面に堆積して形成されるた
め、密度不足を生じ、長期間にわたる使用において、局
部的にA(1m膜が剥離したり、薄膜層に亀裂を生じた
りし、局部的な錆発生が懸念される問題があった。
発明の目的
この発明は、希土類・ボロン・鉄を主成分とする新規な
永久磁石材料において、焼結磁石体の切削加工あるいは
研削加工に伴なう磁気特性の劣化を改善し、さらに、腐
蝕性薬品等を使用あるいは接触させることなく、密着性
、防蝕性にすぐれた耐食性薄膜層を被着させた永久磁石
材料の製造方法を目的としている。
永久磁石材料において、焼結磁石体の切削加工あるいは
研削加工に伴なう磁気特性の劣化を改善し、さらに、腐
蝕性薬品等を使用あるいは接触させることなく、密着性
、防蝕性にすぐれた耐食性薄膜層を被着させた永久磁石
材料の製造方法を目的としている。
発明の構成と効果
この発明は、
R(RはNd、 Pr、 Dy、 Ho、 Tbのうち
少なくとも1種あるいはざらに、La、 Ce、 9r
TI、 (A、 Er、 Eu、 T[n。
少なくとも1種あるいはざらに、La、 Ce、 9r
TI、 (A、 Er、 Eu、 T[n。
Yb、 La、 Yのうち少なくとも1種からなる)1
0%〜30原子%、 B2原子%〜28原子%、 Fe65原子%〜80原子%を主成分とし、主相が正方
晶相からなる焼結永久磁石体の表面に、平均粒径201
Im〜3502@、モース硬度5以上の粉末の少なくと
も1種からなる不定形の硬質粉末を、圧力i、oh4〜
6.0kg、4の加圧気体とともに、0.5分〜60分
間噴射するグリッドブラストを施し、上記磁石体の表面
層を除去したのち、 上記磁石体表面にM薄膜層を被着し、 ざらに、平均粒径30.〜3000.is、モース硬度
3以上の粉末の少なくとも1種からなる球状粉末を、圧
力1.0kg4〜5.Okg着の加圧気体とともに、1
分〜60分間噴射するショットピーニングを施し、ある
いは必要に応じて、焼結磁石体表面にクロム酸塩処理を
施して、 焼結磁石体の耐食性を改善したことを特徴する永久磁石
材料の製造方法である。
0%〜30原子%、 B2原子%〜28原子%、 Fe65原子%〜80原子%を主成分とし、主相が正方
晶相からなる焼結永久磁石体の表面に、平均粒径201
Im〜3502@、モース硬度5以上の粉末の少なくと
も1種からなる不定形の硬質粉末を、圧力i、oh4〜
6.0kg、4の加圧気体とともに、0.5分〜60分
間噴射するグリッドブラストを施し、上記磁石体の表面
層を除去したのち、 上記磁石体表面にM薄膜層を被着し、 ざらに、平均粒径30.〜3000.is、モース硬度
3以上の粉末の少なくとも1種からなる球状粉末を、圧
力1.0kg4〜5.Okg着の加圧気体とともに、1
分〜60分間噴射するショットピーニングを施し、ある
いは必要に応じて、焼結磁石体表面にクロム酸塩処理を
施して、 焼結磁石体の耐食性を改善したことを特徴する永久磁石
材料の製造方法である。
詳述すれば、この発明は、焼結磁石体表面に、所要性状
からなる硬質粉末を、加圧気体とともに、噴射し、焼結
磁石体の黒皮、酸化層や加工歪層等の表面層を除去した
のち、清浄化された磁石体表面にM薄膜層を被着し、酸
化や切削加工にともなう磁石特性の劣化を改善し、さら
に、所要形状からなる特定の粉末を加圧気体とともに噴
射して、該AI薄膜層の緻密化を計り、材料と表面薄膜
層との密着性の改善し、またさらには、Al薄膜層を被
着した磁石体にクロム酸塩処理を施して、Al薄膜層表
面にクロム酸塩被膜を形成して、材料の耐食性をなお一
層向上させたものである。
からなる硬質粉末を、加圧気体とともに、噴射し、焼結
磁石体の黒皮、酸化層や加工歪層等の表面層を除去した
のち、清浄化された磁石体表面にM薄膜層を被着し、酸
化や切削加工にともなう磁石特性の劣化を改善し、さら
に、所要形状からなる特定の粉末を加圧気体とともに噴
射して、該AI薄膜層の緻密化を計り、材料と表面薄膜
層との密着性の改善し、またさらには、Al薄膜層を被
着した磁石体にクロム酸塩処理を施して、Al薄膜層表
面にクロム酸塩被膜を形成して、材料の耐食性をなお一
層向上させたものである。
また、この発明の永久磁石材料は平均結晶粒径が1〜8
0胡の範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物を
主相とし、体積比で1%〜50%の非磁性相(酸化物相
を除く)を含むことを特徴とする。
0胡の範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物を
主相とし、体積比で1%〜50%の非磁性相(酸化物相
を除く)を含むことを特徴とする。
この発明の製造方法は、Rとして陶や円を中心とする資
源的に豊富な軽希土類を用い、B、Feを主成分として
258GOe以上、最高では45HGOe以上にも達す
る極めて高いエネルギー積並びに、高残留磁束密度、高
保磁力を示す、すぐれた永久磁石であり、かつ研削加工
及び酸化層による磁気特性の劣化を防止し、かつ防蝕性
にすぐれたM薄膜あるいはさらにクロム酸塩被膜を表面
に安定被着したFe−El−R系永久磁石材料を、安価
に得ることh<できる。
源的に豊富な軽希土類を用い、B、Feを主成分として
258GOe以上、最高では45HGOe以上にも達す
る極めて高いエネルギー積並びに、高残留磁束密度、高
保磁力を示す、すぐれた永久磁石であり、かつ研削加工
及び酸化層による磁気特性の劣化を防止し、かつ防蝕性
にすぐれたM薄膜あるいはさらにクロム酸塩被膜を表面
に安定被着したFe−El−R系永久磁石材料を、安価
に得ることh<できる。
この発明において、ショツトブラストに使用するモース
硬度5以上の不定形硬質粉末としては、M2O3系、炭
化けい素系、 ZrO2系、炭化硼素系。
硬度5以上の不定形硬質粉末としては、M2O3系、炭
化けい素系、 ZrO2系、炭化硼素系。
ガーネット系等の粉末があり、硬度の高いN2O3系粉
末が好ましい。
末が好ましい。
上記の不定形硬質粉末のモース硬度が、5未満では、研
削力が小さすぎて、研削処理時間に長時間を要して好ま
しくない。
削力が小さすぎて、研削処理時間に長時間を要して好ま
しくない。
また、不定形硬質粉末の平均粒度を201Jm〜350
Iとするのは、201Jm未満では、研削力が小さすぎ
て研削に長時間を要し、また、35077mを越えると
、焼結磁石体表面の面粗度が粗くなりすぎ、研削量が不
均一となり、好ましくないためである。
Iとするのは、201Jm未満では、研削力が小さすぎ
て研削に長時間を要し、また、35077mを越えると
、焼結磁石体表面の面粗度が粗くなりすぎ、研削量が不
均一となり、好ましくないためである。
また、不定形硬質粉末の噴射条件として、圧力1、ok
g4未満では、研削処理に長時間を要し、また、圧力6
.0に94を越えると磁石体表面の研削量が不均一とな
り、面粗度の劣化が懸念される。
g4未満では、研削処理に長時間を要し、また、圧力6
.0に94を越えると磁石体表面の研削量が不均一とな
り、面粗度の劣化が懸念される。
さらに、噴射時間が0.5分間未満では、研削量が小さ
くかつ不均一であり、また、60分を越えると磁石体表
面の研削量が多くなり、面粗度が悪化して好ましくない
。
くかつ不均一であり、また、60分を越えると磁石体表
面の研削量が多くなり、面粗度が悪化して好ましくない
。
また、硬質粉末の噴射用加圧流体としては、空気あるい
はAr、 N2ガス等の不活性ガスが利用できるが、
磁石体の酸化防止のためには、不活性ガスが好ましく、
また、空気を用いる場合は、除湿を行なった空気が望ま
しい。
はAr、 N2ガス等の不活性ガスが利用できるが、
磁石体の酸化防止のためには、不活性ガスが好ましく、
また、空気を用いる場合は、除湿を行なった空気が望ま
しい。
また、この発明において、ショットピーニング用粉末と
しては、モース硬度3以上の球状硬質粉末を用い、スチ
ールポールやガラスピーズ等が利用でき、被着したAg
a膜層の硬度と同等以上の硬度であればよく、ガラスピ
ーズが好ましい。
しては、モース硬度3以上の球状硬質粉末を用い、スチ
ールポールやガラスピーズ等が利用でき、被着したAg
a膜層の硬度と同等以上の硬度であればよく、ガラスピ
ーズが好ましい。
ピーニング用球状粉末のモース硬度が、3未満ではA(
1m膜層の硬度より小さくなり、ピーニング効果が得ら
れないため好ましくない。
1m膜層の硬度より小さくなり、ピーニング効果が得ら
れないため好ましくない。
また、ピーニング用球状粉末の平均粒度を30万〜30
00μmとするのは、3011m未満では、Ag薄膜層
に対する押圧力が小さく処理に長時間を要し、また、3
000左を越えると、焼結磁石体表面の面粗度が粗くな
りすぎ、仕上面が不均一となり、好ましくないためであ
る。さらに好ましい平均粒度は、40.zmから200
0A用である。
00μmとするのは、3011m未満では、Ag薄膜層
に対する押圧力が小さく処理に長時間を要し、また、3
000左を越えると、焼結磁石体表面の面粗度が粗くな
りすぎ、仕上面が不均一となり、好ましくないためであ
る。さらに好ましい平均粒度は、40.zmから200
0A用である。
また、球状粉末の噴射条件としては、圧力1.Or4未
満では、All膜層に対する押圧力が小さく処理に長時
間を要し、また、圧力5.os4を越えるとAg薄膜層
への押圧力が不均一となり、面粗度の悪化を招来する さらに、噴射時間が1分間未満ては、全表面を均一に処
理できず、また、噴射時間の上限は、ピーニングの処理
量、処理条件によって決定されるが、60分を越えると
、面粗度が悪化して好ましくない。
満では、All膜層に対する押圧力が小さく処理に長時
間を要し、また、圧力5.os4を越えるとAg薄膜層
への押圧力が不均一となり、面粗度の悪化を招来する さらに、噴射時間が1分間未満ては、全表面を均一に処
理できず、また、噴射時間の上限は、ピーニングの処理
量、処理条件によって決定されるが、60分を越えると
、面粗度が悪化して好ましくない。
この発明において、焼結磁石体の酸化表面相を除去した
清浄表面に、N層を被着させるには、真空蒸着、スパッ
タリング、イオンブレーティング等の薄膜形成方法が適
宜選定利用できる。また、薄膜層の厚みは、薄膜層の剥
離あるいは機械的強度の低下並びに防蝕性の確保等を考
慮して、30通以下の厚みが好ましく、最も好ましくは
5如〜25、柵の層厚みである。
清浄表面に、N層を被着させるには、真空蒸着、スパッ
タリング、イオンブレーティング等の薄膜形成方法が適
宜選定利用できる。また、薄膜層の厚みは、薄膜層の剥
離あるいは機械的強度の低下並びに防蝕性の確保等を考
慮して、30通以下の厚みが好ましく、最も好ましくは
5如〜25、柵の層厚みである。
また、A&薄膜層上に被着するクロム酸塩被膜厚みは、
1項一0 Bmが好ましく、その外観は、明るい玉虫色
から黄金色を帯びた黄褐色に仕上げるのが好ましい。
1項一0 Bmが好ましく、その外観は、明るい玉虫色
から黄金色を帯びた黄褐色に仕上げるのが好ましい。
永久磁石材料の成分限定理由
この発明の永久磁石材料に用いる希土類元素Rは、組成
の10原子%〜301’7子%を占めるが、Nd。
の10原子%〜301’7子%を占めるが、Nd。
Pr、 Dy、 Ho、 Tbのうち少なくとも1種、
あるいはざら(こ、La、 Ce、 Sm、 Cd、
Er、 Eu、1m、 Yb、 La。
あるいはざら(こ、La、 Ce、 Sm、 Cd、
Er、 Eu、1m、 Yb、 La。
Yのうち少なくとも1種を含むものが好ましい。
また、通常Rのうち1種をもって足りるが、実用上は2
種以上の混合物(ミツシュメタル、ジジム等)を入手上
の便宜等の理由により用いることかC゛きる。
種以上の混合物(ミツシュメタル、ジジム等)を入手上
の便宜等の理由により用いることかC゛きる。
なお、このRは純希土類元素でなくてもよく、工業F−
人手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含イjするも
のでも差支えない。
人手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含イjするも
のでも差支えない。
1くは、新規な−「記系永久磁石材料にお(プる、必須
元素であって、10原子%未満では、結晶構造がα−鉄
と同一構造の立方晶組織となるため、高磁気14性、特
に高保磁力が得られず、30原子%を越えると、Rリッ
チな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下
して、すぐれた特性の永久磁石がjqら机ない。にっで
、希土類元素は、10原子%〜30原子%の範囲とする
。
元素であって、10原子%未満では、結晶構造がα−鉄
と同一構造の立方晶組織となるため、高磁気14性、特
に高保磁力が得られず、30原子%を越えると、Rリッ
チな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下
して、すぐれた特性の永久磁石がjqら机ない。にっで
、希土類元素は、10原子%〜30原子%の範囲とする
。
Bは、この発明による永久磁石材料にお(プる、必須元
素であって、2原子%未満では、菱面体溝造が主相とな
り、高い保磁力(iHC)は得られず、28原子%を越
えると、Bリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度
(Br)が低下するため、すぐれた永久磁石が得られな
い。よって、Bは、2原子%〜28原子%の範囲とする
。
素であって、2原子%未満では、菱面体溝造が主相とな
り、高い保磁力(iHC)は得られず、28原子%を越
えると、Bリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度
(Br)が低下するため、すぐれた永久磁石が得られな
い。よって、Bは、2原子%〜28原子%の範囲とする
。
Feは、新規な上記系永久磁石において、必須元素であ
り、65原子%未満では残留磁束密度(Br)が低下し
、80原子%を越えると、高い保磁力が得られないので
、Feは65原子%〜80原子%の含有とする。
り、65原子%未満では残留磁束密度(Br)が低下し
、80原子%を越えると、高い保磁力が得られないので
、Feは65原子%〜80原子%の含有とする。
また、この発明による永久磁石材料において、Feの一
部をCoで置換することは、得られる磁石の磁気特性を
損うことなく、温度特性を改善することができるが、C
O置換量がFeの20%を越えると、逆に磁気特性が劣
化するため、好ましくない。C。
部をCoで置換することは、得られる磁石の磁気特性を
損うことなく、温度特性を改善することができるが、C
O置換量がFeの20%を越えると、逆に磁気特性が劣
化するため、好ましくない。C。
の置換量が「eとCOの合計量で5原子%〜15原子%
の場合は、(Br)は置換しない場合に比較して増加す
るため、高磁束密度を得るために好ましい。
の場合は、(Br)は置換しない場合に比較して増加す
るため、高磁束密度を得るために好ましい。
また、この発明による永久磁石材料は、R,B。
Feの他、工業的生産上不可避的不純物の存在を許容で
きるが、Bの一部を4.0原子%以下のC13,5原子
%以下のP、2.5原子%以下のS、 3゜5原子%
以下の髄のうち少なくとも1種、合計量で4.0原子%
以下で置換することにより、永久磁石の製造性改善、低
価格化が可能である。
きるが、Bの一部を4.0原子%以下のC13,5原子
%以下のP、2.5原子%以下のS、 3゜5原子%
以下の髄のうち少なくとも1種、合計量で4.0原子%
以下で置換することにより、永久磁石の製造性改善、低
価格化が可能である。
また、下記添加元素のうち少なくとも1種は、R−B−
Fa系永久磁石に対してその保磁力、減磁曲線の角型性
を改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があるた
め添加することができる。
Fa系永久磁石に対してその保磁力、減磁曲線の角型性
を改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があるた
め添加することができる。
9.5原子%以下のA1.4,5原子%以下の丁119
.5原子%以下のVl B、5m子%以下のCr。
.5原子%以下のVl B、5m子%以下のCr。
8.0原子%以下のHn、5.0原子%以下のB119
.5原子%以下のNb、 9.5原子%以下のTa。
.5原子%以下のNb、 9.5原子%以下のTa。
9.5原子%以下のt(o、 9.5原子%以下のり
、2.5原子%以下のsb、7 原子%以下のGe。
、2.5原子%以下のsb、7 原子%以下のGe。
3.5原子%以下のSn、 5.5原子%以下のZr
。
。
9.0原子%以下のNi、9.0原子%以下のSi、1
.1原子%以下のZn、5.5原子%以下のHf、のう
ち少なくとも1種を添加含有、但し、2種以上含有する
場合は、その最大含有量は当該添加元素のうち最大値を
有するものの原子%以下の含有させることにより、永久
磁石の高保磁力化が可能になる。
.1原子%以下のZn、5.5原子%以下のHf、のう
ち少なくとも1種を添加含有、但し、2種以上含有する
場合は、その最大含有量は当該添加元素のうち最大値を
有するものの原子%以下の含有させることにより、永久
磁石の高保磁力化が可能になる。
結晶相は主相が正方品であることが、微細で均一な合金
粉末より、ずぐれた磁気特性を有する焼結永久磁石を作
製するのに不可欠である。
粉末より、ずぐれた磁気特性を有する焼結永久磁石を作
製するのに不可欠である。
また、この発明の永久磁石は、磁場中プレス成型するこ
とにより磁気的異方性磁石が得られ、また、無磁界中で
プレス成型することにより、磁気的等方性磁石を得るこ
とができる。
とにより磁気的異方性磁石が得られ、また、無磁界中で
プレス成型することにより、磁気的等方性磁石を得るこ
とができる。
この発明による永久磁石材料は、保磁力iHc≧1 k
os、残昭磁束密度Br> 4 kG、を示し、最大エ
ネルギー積(BH)maXは、(Btl)max≧10
HGOsを示し、最大値は25HGOe以上に達する。
os、残昭磁束密度Br> 4 kG、を示し、最大エ
ネルギー積(BH)maXは、(Btl)max≧10
HGOsを示し、最大値は25HGOe以上に達する。
また、この発明による永久@石のRの主成分が、その5
0%以上をNd及び円を主とする軽希土類金属が占める
場合で、R121i子%〜20原子%、B44原子〜2
4原子%、Fe 74原子%〜80原子%、を主成分
とするとぎ、(BH)max 35HGOe以上のすぐ
れた磁気特性を示し、特に軽希土類金属がNdの場合に
は、その最大値が45)IGQθ以上に達する。
0%以上をNd及び円を主とする軽希土類金属が占める
場合で、R121i子%〜20原子%、B44原子〜2
4原子%、Fe 74原子%〜80原子%、を主成分
とするとぎ、(BH)max 35HGOe以上のすぐ
れた磁気特性を示し、特に軽希土類金属がNdの場合に
は、その最大値が45)IGQθ以上に達する。
実施例
実施例1
出発原料として、純度99.9%の電解鉄、フェロボロ
ン合金、純度99.7%以上の陶を使用し、これらを配
合後高周波溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳造し、16.
ONd 7. OB 77、 OFeなる組成の鋳塊
を得た。
ン合金、純度99.7%以上の陶を使用し、これらを配
合後高周波溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳造し、16.
ONd 7. OB 77、 OFeなる組成の鋳塊
を得た。
その後このインゴットを、スタンプミルにより粗粉砕し
、次にボールミルにより微粉砕し、平均粒度2.8.q
mの微粉末を得た。
、次にボールミルにより微粉砕し、平均粒度2.8.q
mの微粉末を得た。
この微粉末を金型に挿入し、15 koeの磁界中で配
向し、磁界に垂直方向に、1.214の圧力で成形した
。
向し、磁界に垂直方向に、1.214の圧力で成形した
。
得られた成形体を、1100℃、1時間、 Ar雰囲気
中、の条件で焼結し、長さ2SmmX幅40mmX厚み
30mm寸法の焼結体を得た。
中、の条件で焼結し、長さ2SmmX幅40mmX厚み
30mm寸法の焼結体を得た。
さらにAt中での800’C,1時間と630’C,1
,5時間の2段時効処理を施した。
,5時間の2段時効処理を施した。
上記の永久1’5体を、大気中で、ダイヤモンド112
00番を砥石として、回転数240Orpm 、送り速
度5mm/minで、長さ5m+nX幅10mmX厚み
3mm寸法に切出した。
00番を砥石として、回転数240Orpm 、送り速
度5mm/minで、長さ5m+nX幅10mmX厚み
3mm寸法に切出した。
さらに、この切出し試料に、平均粒径50成、モース硬
度9の不定形Al2O3硬質粉末を用いて、圧力2.5
に3着、N2ガスの加圧気体とともに、20分間噴射す
る条件のグリッドブラストを施し、上記磁石体の表面層
を除去した。
度9の不定形Al2O3硬質粉末を用いて、圧力2.5
に3着、N2ガスの加圧気体とともに、20分間噴射す
る条件のグリッドブラストを施し、上記磁石体の表面層
を除去した。
次に、真空度5X10−5TOrrの真空容器内に、上
記試料を入れ、Arガスを送入し、I X 10−2
TorrのArガス中、 500 Vの電圧で15分間
の放電を行なった後、引続き、コーティング材料として
、純度99.99%のN板を用い、これを加熱し、蒸発
Alをイオン化し、これらイオン化粒子が電界に引かれ
て、陰極を構成する前記試験片に何着し、Al薄膜を形
成した。試験片表面に形成した薄膜厚みは15μmであ
った。
記試料を入れ、Arガスを送入し、I X 10−2
TorrのArガス中、 500 Vの電圧で15分間
の放電を行なった後、引続き、コーティング材料として
、純度99.99%のN板を用い、これを加熱し、蒸発
Alをイオン化し、これらイオン化粒子が電界に引かれ
て、陰極を構成する前記試験片に何着し、Al薄膜を形
成した。試験片表面に形成した薄膜厚みは15μmであ
った。
上記イオン・ブレーティング条件は、電圧1.5kV、
10分間処理であった。
10分間処理であった。
さらに、MN膜層を被着した磁石体試料に、平均粒径1
2077m、モース硬度6の球状がラスビーズ粉末を用
いて、圧力1.5kcJ4、N2ガスの加圧気体ととも
に、5分間噴射する条件のショットピーニングを施して
試験片を得た(本発明1)。
2077m、モース硬度6の球状がラスビーズ粉末を用
いて、圧力1.5kcJ4、N2ガスの加圧気体ととも
に、5分間噴射する条件のショットピーニングを施して
試験片を得た(本発明1)。
また、さらに、ショットピーニング後に、磁石体試料を
、30℃に保持した2%アロジン#1200(商品名、
日本ペイント社製)溶液中に、1分間浸漬し、ピーニン
ク後のM薄膜層表面に、黄金色にクロム酸塩被膜を被着
して試験片を得た(本発明2)。
、30℃に保持した2%アロジン#1200(商品名、
日本ペイント社製)溶液中に、1分間浸漬し、ピーニン
ク後のM薄膜層表面に、黄金色にクロム酸塩被膜を被着
して試験片を得た(本発明2)。
これらの試験片に耐食性試験と耐食性試験後の薄膜の密
着強度試験を行なった。また、耐食性試験前後の磁気特
性を測定した。試験結果及び測定結果を第1表に示す。
着強度試験を行なった。また、耐食性試験前後の磁気特
性を測定した。試験結果及び測定結果を第1表に示す。
また、比較のため、前記の切出しままの試験片(比較例
3)及び上記試験片に、トリクレンにて3分間溶剤脱脂
し、5%Na0)lにて60℃、3分間のアルカリ脱脂
した後、2%HCRにて室温、10秒間の酸洗しワット
浴にて、電流密度aA/dm2.浴温度60℃、 20
分間の条件にて、電気ニッケルめっきを行ない表面に2
0.qm厚みのニッケルめっき層を有する比較試験片(
比較例4)を得た。さらに、上記のAJ薄膜層を被着さ
せたのち、ショットピーニング処理しない比較試験片(
比較例5〉を得た。
3)及び上記試験片に、トリクレンにて3分間溶剤脱脂
し、5%Na0)lにて60℃、3分間のアルカリ脱脂
した後、2%HCRにて室温、10秒間の酸洗しワット
浴にて、電流密度aA/dm2.浴温度60℃、 20
分間の条件にて、電気ニッケルめっきを行ない表面に2
0.qm厚みのニッケルめっき層を有する比較試験片(
比較例4)を得た。さらに、上記のAJ薄膜層を被着さ
せたのち、ショットピーニング処理しない比較試験片(
比較例5〉を得た。
これらの比較試験片に上記の実施例1と同一の試験及び
測定を行ない、その結果を同様に第1表に示す。
測定を行ない、その結果を同様に第1表に示す。
耐食性試験は、上記試験片を70°Cの温度90%の湿
度の雰囲気に、500時間放置した場合の試験片外観状
況及び密着強度、耐蝕試験前後の磁気特性でもって評価
した。また、この発明の試験片1と試験片2は、上記条
件で発錆するまでの時間を調べた。
度の雰囲気に、500時間放置した場合の試験片外観状
況及び密着強度、耐蝕試験前後の磁気特性でもって評価
した。また、この発明の試験片1と試験片2は、上記条
件で発錆するまでの時間を調べた。
また、密着強度試験は、耐食性試験後の本発明1.2及
び比較例4,5試験片を、破断じて破断面を観察するこ
とで評価した。
び比較例4,5試験片を、破断じて破断面を観察するこ
とで評価した。
以下余白
第1表より明らかなように、この発明方法により、切削
加工あるいは研削加工による磁気特性の劣化が改善され
、さらに、耐食性にすぐれた永久磁石が得られ、その効
果が著しいことが分る。
加工あるいは研削加工による磁気特性の劣化が改善され
、さらに、耐食性にすぐれた永久磁石が得られ、その効
果が著しいことが分る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 R(RはNd、Pr、Dy、Ho、Tbのうち少な
くとも1種あるいはさらに、La、Ce、Sm、Gd、
Er、Eu、Tm、Yb、La、Yのうち少なくとも1
種からなる)10%〜30原子%、 B2原子%〜28原子%、 Fe65原子%〜80原子%を主成分とし、主相が正方
晶相からなる焼結永久磁石体の表面に、グリッドブラス
トを施し、 上記磁石体の表面層を除去したのち、 上記磁石体表面にAl薄膜層を被着し、 さらに、ショットピーニングを施して焼結磁石体の耐食
性を改善したことを特徴する永久磁石材料の製造方法。 2 R(RはNd、Pr、Dy、Ho、Tbのうち少な
くとも1種あるいはさらに、La、Ce、Sm、Gd、
Er、Eu、Tm、Yb、La、Yのうち少なくとも1
種からなる)10%〜30原子%、 B2原子%〜28原子%、 Fe65原子%〜80原子%を主成分とし、主相が正方
晶相からなる焼結永久磁石体の表面に、グリッドブラス
トを施し、 上記磁石体の表面層を除去したのち、 上記磁石体表面にAl薄膜層を被着し、 さらに、ショットピーニングを施した後に、焼結磁石体
表面にクロム酸塩処理を施して焼結磁石体の耐食性を改
善したことを特徴する永久磁石材料の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200890A JPS6260212A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 永久磁石材料の製造方法 |
| CN85109695A CN1007847B (zh) | 1984-12-24 | 1985-12-24 | 制造具有改进耐蚀性磁铁的方法 |
| DE8585116598T DE3584243D1 (de) | 1984-12-24 | 1985-12-27 | Verfahren zur herstellung von dauermagneten und dauermagnet. |
| EP85116598A EP0190461B1 (en) | 1984-12-24 | 1985-12-27 | Process for producing permanent magnets and permanent magnet |
| US06/818,238 US4837114A (en) | 1984-12-24 | 1986-01-13 | Process for producing magnets having improved corrosion resistance |
| US07/360,101 US5089066A (en) | 1984-12-24 | 1989-06-01 | Magnets having improved corrosion resistance |
| US07/740,442 US5316595A (en) | 1984-12-24 | 1991-08-05 | Process for producing magnets having improved corrosion resistance |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60200890A JPS6260212A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 永久磁石材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6260212A true JPS6260212A (ja) | 1987-03-16 |
| JPH0545045B2 JPH0545045B2 (ja) | 1993-07-08 |
Family
ID=16431950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60200890A Granted JPS6260212A (ja) | 1984-12-24 | 1985-09-10 | 永久磁石材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6260212A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5849833A (en) * | 1995-07-21 | 1998-12-15 | Rohm And Haas Company | Method for improving drying speed in printing process and fast dry printing ink used therein |
| EP1136587A3 (en) * | 2000-03-23 | 2002-03-06 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
| US6861089B2 (en) | 2000-07-10 | 2005-03-01 | Neomax Co. Ltd. | Method of inhibiting production of projections in metal deposited-film |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60200890A patent/JPS6260212A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5849833A (en) * | 1995-07-21 | 1998-12-15 | Rohm And Haas Company | Method for improving drying speed in printing process and fast dry printing ink used therein |
| EP1136587A3 (en) * | 2000-03-23 | 2002-03-06 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
| SG95636A1 (en) * | 2000-03-23 | 2003-04-23 | Sumitomo Spec Metals | Deposited-film forming apparatus |
| US6872260B2 (en) | 2000-03-23 | 2005-03-29 | Neomax Co., Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
| US6861089B2 (en) | 2000-07-10 | 2005-03-01 | Neomax Co. Ltd. | Method of inhibiting production of projections in metal deposited-film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0545045B2 (ja) | 1993-07-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
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