JPS6263425A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS6263425A JPS6263425A JP61198001A JP19800186A JPS6263425A JP S6263425 A JPS6263425 A JP S6263425A JP 61198001 A JP61198001 A JP 61198001A JP 19800186 A JP19800186 A JP 19800186A JP S6263425 A JPS6263425 A JP S6263425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- electron beam
- electron
- blanking
- beam exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子ビーム露光装置に係り、特に一括露光方式
の新規な方式を取り入れた電子ビーム露光装置に関する
。
の新規な方式を取り入れた電子ビーム露光装置に関する
。
一般に電子ビーム露光方式には、−筆書き方式と一括露
光方式とに大別される。この２つの方式のうち後者の方
が描画速度において浸れているが、第１図に示す如く原
図パターン（被露光物体に結像される形状）のマスクを
必要とする。このパターン製作の困難さ、取り換えの困
難さ、周囲を取り囲まれた図形を用いることができない
等の（＠々の問題がある。
光方式とに大別される。この２つの方式のうち後者の方
が描画速度において浸れているが、第１図に示す如く原
図パターン（被露光物体に結像される形状）のマスクを
必要とする。このパターン製作の困難さ、取り換えの困
難さ、周囲を取り囲まれた図形を用いることができない
等の（＠々の問題がある。
本発明は上記問題点に対処されてなされたもので、一括
露光方式の特徴所謂る広い面積を一度に露光できるとい
う特徴をいかし、所望図形パターンを電気的に得るよう
にした電子ビーム露光装置を提供するものである。
露光方式の特徴所謂る広い面積を一度に露光できるとい
う特徴をいかし、所望図形パターンを電気的に得るよう
にした電子ビーム露光装置を提供するものである。
次に本発明の基本的な概念を第１図を参照して説明する
。この第１図で電子ビームの光源所謂る電子銃αυから
電子ビーム（１１ａ ）が引き出され、このビーム（ｌ
ｌａ）は第１のスリット（１２ａ）及び第２のスリット
（１２ｂ ）を介して電子レンズｆ１３により所定の図
形Ｉが結像される。ここで重要なことは第２のスリット
（１，２ｂ ）を設けたことである。即ちこの第２のス
リット（１２ｂ）は電気的にＸ方向及びＹ方向に移動す
るものである。この第２のスリット（１２ｂ）の移動に
より図形を例えば第２図（ａ） （ｂ） （Ｃ）に示す
如く適宜変えることができる。
。この第１図で電子ビームの光源所謂る電子銃αυから
電子ビーム（１１ａ ）が引き出され、このビーム（ｌ
ｌａ）は第１のスリット（１２ａ）及び第２のスリット
（１２ｂ ）を介して電子レンズｆ１３により所定の図
形Ｉが結像される。ここで重要なことは第２のスリット
（１，２ｂ ）を設けたことである。即ちこの第２のス
リット（１２ｂ）は電気的にＸ方向及びＹ方向に移動す
るものである。この第２のスリット（１２ｂ）の移動に
より図形を例えば第２図（ａ） （ｂ） （Ｃ）に示す
如く適宜変えることができる。
次いで第３図を参照して本発明の一実施例を詳細に説明
する。
する。
第３図でＧｌ）が電子銃であり、この電子銃９１）から
ｔ子ビーム（３１ａ）が引き出される。このビーム（３
１ａ）は第１の電子レンズ（至）によりブランキング電
極（ロ）＠の略中央部に焦点を結ぶようになる。（ト）
はブランキング用スリットであり、ブランキング電極１
３４）（支）のブランキング電圧発生回路（至）の電圧
が０〔■〕の時にビーム（３１ａ ）を通過させ、４０
ＣＶ）の時にビーム（３１ａ）をカットオフするように
なっている。そしてブランキング用スリット（至）を通
過したビーム（３１ｂ）はコンデンサレンズからなる第
２のレンズ６ηによって平行なビームに変えられて矩形
状に規定される第１のスリット（至）に照射される。こ
の第１のスリ、ト（至）は第１図の（ｙｌａ）に原理的
に対応するものである。
ｔ子ビーム（３１ａ）が引き出される。このビーム（３
１ａ）は第１の電子レンズ（至）によりブランキング電
極（ロ）＠の略中央部に焦点を結ぶようになる。（ト）
はブランキング用スリットであり、ブランキング電極１
３４）（支）のブランキング電圧発生回路（至）の電圧
が０〔■〕の時にビーム（３１ａ ）を通過させ、４０
ＣＶ）の時にビーム（３１ａ）をカットオフするように
なっている。そしてブランキング用スリット（至）を通
過したビーム（３１ｂ）はコンデンサレンズからなる第
２のレンズ６ηによって平行なビームに変えられて矩形
状に規定される第１のスリット（至）に照射される。こ
の第１のスリ、ト（至）は第１図の（ｙｌａ）に原理的
に対応するものである。
以後はビームの光源を第１のスリット（至）の部分と考
えて説明するが、注意すべきことは第１のスリット（至
）以下での光束の表わし方は焦点を結ぶ点で開き、普通
の光源束の表現と逆になっている点に注意を要する。こ
れは図面の簡略化を計るためである。第１のスリット（
至）を光源とする正方形の像は第３のレンズ（至）によ
って矩形状に規定される第２のスリット０１上に焦点を
結ぶように構成される。
えて説明するが、注意すべきことは第１のスリット（至
）以下での光束の表わし方は焦点を結ぶ点で開き、普通
の光源束の表現と逆になっている点に注意を要する。こ
れは図面の簡略化を計るためである。第１のスリット（
至）を光源とする正方形の像は第３のレンズ（至）によ
って矩形状に規定される第２のスリット０１上に焦点を
結ぶように構成される。
ここで、ビーム（３２ａ）は偏向電極（４ｎＧａ＋）及
び（旬−に加えられる電圧が０（Ｖ）の時に全部が透過
して、ｔｓ２のスリブ） Ｇｉ（Ｉに正方形を生成する
ことになる。そして第２のスリブ） ＧｌＧに設けられ
た正方形の窓は一辺が２．５６（ｕ）のものである。ま
たビーＡ（３２ａ）は偏向電極（４１） ｎｊ ｃよＯ
テ０．１ （Ｖ） ニラきＱ、Ｑｌ（ｕ＋）偏向するよ
うに設計されている。そこで偏向電極ηａ（４ｊ間に２
５６（Ｖ）の電圧が加った時にビーム（３２ａ）は全て
切断されることになる。
び（旬−に加えられる電圧が０（Ｖ）の時に全部が透過
して、ｔｓ２のスリブ） Ｇｉ（Ｉに正方形を生成する
ことになる。そして第２のスリブ） ＧｌＧに設けられ
た正方形の窓は一辺が２．５６（ｕ）のものである。ま
たビーＡ（３２ａ）は偏向電極（４１） ｎｊ ｃよＯ
テ０．１ （Ｖ） ニラきＱ、Ｑｌ（ｕ＋）偏向するよ
うに設計されている。そこで偏向電極ηａ（４ｊ間に２
５６（Ｖ）の電圧が加った時にビーム（３２ａ）は全て
切断されることになる。
例えば最終的に５〔μｍ〕×１００〔μｍ〕の矩形状の
図形を得たい時にはミニコン霞により第１のレジスタ（
ハ）にＸ方向の幅情報として”５′°が書き込まれ第２
のレジスタ（４５にＸ方向の幅情報として１００”が書
き込まれる。するとＤ−人フンバータ（４３には２５．
１（Ｖ） Ｄ−Ａ コンｔ＜ −タ（４ｆｅニハ１５．
６（Ｖ） （１’）電圧が表われるようになっている。
図形を得たい時にはミニコン霞により第１のレジスタ（
ハ）にＸ方向の幅情報として”５′°が書き込まれ第２
のレジスタ（４５にＸ方向の幅情報として１００”が書
き込まれる。するとＤ−人フンバータ（４３には２５．
１（Ｖ） Ｄ−Ａ コンｔ＜ −タ（４ｆｅニハ１５．
６（Ｖ） （１’）電圧が表われるようになっている。
このため、Ｘ方向に５０〔μｍ） 、Ｘ方向に１ （Ｉ
ＩＩ）の幅を持ったビーム（３２ｂ）のみが最終的に第
２のスリｙ ） （４０を通過することになる。この第
２のスリット（４０を通過したビーム（３２ｂ）は第４
のレンズ（４？）により１０：１に縮少されて、被露光
物体（１）上に焦点を結ぶようになる。そして５〔μｍ
″ＩＸ １００ （μｍ〕の希望する大きさの矩形状の
図形■が得られる。ここでビーム（３２ｂ）は、さらに
偏向電極（ハ）（４値により矩形状の形が保存されたま
までＸ方向に偏向される。そしてその偏向量はミニコン
（至）より第３のレジスタωに与えられた内容によって
、第３のフンｌ＜−夕５１）が希望する偏向量を取り出
される。但しこの際注意すべきことは、第２のスリブ）
（４Ｇにおいて生成される矩形状の中心位置は矩形状
の形の大きさによって異なるため、第３のレジスタωに
入る値は、補正がなされていなければならない。勿論こ
こでは無補正の値を用い、第３のＤ−Ａコンバータ５１
）の出力電圧に第１のコンバータ１１３）の出力電工を
適当に加えることにより回路補正してもかまわない。
ＩＩ）の幅を持ったビーム（３２ｂ）のみが最終的に第
２のスリｙ ） （４０を通過することになる。この第
２のスリット（４０を通過したビーム（３２ｂ）は第４
のレンズ（４？）により１０：１に縮少されて、被露光
物体（１）上に焦点を結ぶようになる。そして５〔μｍ
″ＩＸ １００ （μｍ〕の希望する大きさの矩形状の
図形■が得られる。ここでビーム（３２ｂ）は、さらに
偏向電極（ハ）（４値により矩形状の形が保存されたま
までＸ方向に偏向される。そしてその偏向量はミニコン
（至）より第３のレジスタωに与えられた内容によって
、第３のフンｌ＜−夕５１）が希望する偏向量を取り出
される。但しこの際注意すべきことは、第２のスリブ）
（４Ｇにおいて生成される矩形状の中心位置は矩形状
の形の大きさによって異なるため、第３のレジスタωに
入る値は、補正がなされていなければならない。勿論こ
こでは無補正の値を用い、第３のＤ−Ａコンバータ５１
）の出力電圧に第１のコンバータ１１３）の出力電工を
適当に加えることにより回路補正してもかまわない。
また同様偏向電極６Ｓ５５’；５により矩形状の形が保
存されたままでＸ方向に偏向される。この偏向量はミニ
コン（至）より第４のレジスタ弥に与えられた内容によ
って第４のＤ−Ａコンバータ１５４）が希望する偏向量
を取り出される。ところで本実施例では２５６ステ、プ
角の内部の図形を描画した後に被露光物体（４印をミニ
コン（へ）の制御により次のステップ進動かして次のフ
レームの福画を行う。このための回路後モータ等の手段
は図中で省略しである。また第１のスリット（至）、第
２のスリット（４１は発熱が大きいため、水冷したり、
各スリットの直前にやや大きいスリットを置いて、第１
のスリット（至）及び第２のスリット（４０の熱変形を
防ぐ方法がとられる。
存されたままでＸ方向に偏向される。この偏向量はミニ
コン（至）より第４のレジスタ弥に与えられた内容によ
って第４のＤ−Ａコンバータ１５４）が希望する偏向量
を取り出される。ところで本実施例では２５６ステ、プ
角の内部の図形を描画した後に被露光物体（４印をミニ
コン（へ）の制御により次のステップ進動かして次のフ
レームの福画を行う。このための回路後モータ等の手段
は図中で省略しである。また第１のスリット（至）、第
２のスリット（４１は発熱が大きいため、水冷したり、
各スリットの直前にやや大きいスリットを置いて、第１
のスリット（至）及び第２のスリット（４０の熱変形を
防ぐ方法がとられる。
このようにして広い面積を一度に露光を行える−括露光
方式の特徴を生かしたままで原図マスクを電気的に作り
出し、所定の電子ビーム露光を行えるものである。
方式の特徴を生かしたままで原図マスクを電気的に作り
出し、所定の電子ビーム露光を行えるものである。
なお、上記実施例では第１のスリット（至）及び第２の
スリブ） （４ｆ）に設けた窓の数は一つについて説明
したが複数鯉設けても上記実施例と同様である。
スリブ） （４ｆ）に設けた窓の数は一つについて説明
したが複数鯉設けても上記実施例と同様である。
また上記実施例では偏向電極（４１）（４ｆＪ及び（２
）（４４に加えられる電工が０〔Ｖ〕の時に正方形が得
られるようにしたが電圧が０（Ｖ）の時ビーム（３２ａ
）が全て力。
）（４４に加えられる電工が０〔Ｖ〕の時に正方形が得
られるようにしたが電圧が０（Ｖ）の時ビーム（３２ａ
）が全て力。
トされるようにすることも可能である。さらに電子ビー
ムをイオンビームに置き換えることによって必要部分の
みに選択的にイオン注入を行えることも可能である。
ムをイオンビームに置き換えることによって必要部分の
みに選択的にイオン注入を行えることも可能である。
第１図は本発明の基本的な概念を説明するための構成概
略図、第２図貴マ勅は第１図によって描画される図形を
示す模型図、第３図は本発明一実施例を示す構成図であ
る。 第３図で、Ｇυが電子銃、（３１ａＸ３１ｂ０３２ａ）
（ａｚｂ）が電子ビーム、（至）ＯＨ埠はηが電子レン
ズ；（ロ）梼、αυｄ 、 １．１４） ＋４れムｌ（
４傷及び５Ｉづが偏向電極、（至）がブランキング用ス
リット、（至）が第１のスリブ） 、（４０が第２のス
リブ） 、＋４ＦＩＪが被露光物体、！４２ （４５ｆ
ｆｌ ６３）がレジスタ、ｆ４３ ｉ、１６） ５１）
５４）がＤ −Ａ、コンバー・夕、６つがミニコンで
ある。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 ｙ−３／ ＋３ 凶 Ｘ 手 続 補 正 書（自発）
略図、第２図貴マ勅は第１図によって描画される図形を
示す模型図、第３図は本発明一実施例を示す構成図であ
る。 第３図で、Ｇυが電子銃、（３１ａＸ３１ｂ０３２ａ）
（ａｚｂ）が電子ビーム、（至）ＯＨ埠はηが電子レン
ズ；（ロ）梼、αυｄ 、 １．１４） ＋４れムｌ（
４傷及び５Ｉづが偏向電極、（至）がブランキング用ス
リット、（至）が第１のスリブ） 、（４０が第２のス
リブ） 、＋４ＦＩＪが被露光物体、！４２ （４５ｆ
ｆｌ ６３）がレジスタ、ｆ４３ ｉ、１６） ５１）
５４）がＤ −Ａ、コンバー・夕、６つがミニコンで
ある。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 ｙ−３／ ＋３ 凶 Ｘ 手 続 補 正 書（自発）
Claims (1)
- 電子ビームの光源と、該光源からの電子ビームが焦点を
結ぶ位置に設けられるブランキング電極と、このブラン
キング電極を通過した電子ビームを所望の形状を規定す
る第１のスリットと、該第１のスリットで規定された形
状を制御する第２のスリットと、前記第１のスリットと
第２のスリットの間にあって前記光源からの電子ビーム
を偏向し前記第２のスリットで規定された形状が第２の
スリットの異なる点へ結像するための手段と、前記第２
のスリットで規定された形状に対応して通過した電子ビ
ームを被露光物体に照射結像させるための第２の電子レ
ンズとを備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61198001A JPS6263425A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61198001A JPS6263425A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 電子ビ−ム露光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51060175A Division JPS6051261B2 (ja) | 1976-05-26 | 1976-05-26 | 荷電粒子ビ−ム描画装置 |
Related Child Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5100072A Division JPH0727859B2 (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5100094A Division JPH0629202A (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5100090A Division JPH0670959B2 (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5100063A Division JP2503359B2 (ja) | 1993-04-05 | 1993-04-05 | 荷電粒子ビ―ム描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263425A true JPS6263425A (ja) | 1987-03-20 |
| JPH0559577B2 JPH0559577B2 (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=16383862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61198001A Granted JPS6263425A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6263425A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2390477A (en) * | 2002-02-21 | 2004-01-07 | Pioneer Corp | Electron beam plotter |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52115249A (en) * | 1976-03-23 | 1977-09-27 | Jeol Ltd | Detecting method of deviation of electron beams and moving direction o f materials |
-
1986
- 1986-08-26 JP JP61198001A patent/JPS6263425A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52115249A (en) * | 1976-03-23 | 1977-09-27 | Jeol Ltd | Detecting method of deviation of electron beams and moving direction o f materials |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2390477A (en) * | 2002-02-21 | 2004-01-07 | Pioneer Corp | Electron beam plotter |
| GB2390477B (en) * | 2002-02-21 | 2005-08-03 | Pioneer Corp | Electron beam plotter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0559577B2 (ja) | 1993-08-31 |
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