JPS6263982A - ホログラム - Google Patents
ホログラムInfo
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- JPS6263982A JPS6263982A JP20479385A JP20479385A JPS6263982A JP S6263982 A JPS6263982 A JP S6263982A JP 20479385 A JP20479385 A JP 20479385A JP 20479385 A JP20479385 A JP 20479385A JP S6263982 A JPS6263982 A JP S6263982A
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Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ディスプレー、特に拡散物体を記録したホロ
グラム、ホログラムレンズ、ホログラムスキャナー、そ
の他光路変換素子として有用なS/N比が向上したホロ
グラムに関するものである。
グラム、ホログラムレンズ、ホログラムスキャナー、そ
の他光路変換素子として有用なS/N比が向上したホロ
グラムに関するものである。
(従来技術)
従来のホログラム記録材料としては、銀塩写真、重クロ
ム酸ゼラチン、サーモグラスチック、フォトポリマーな
どが用いられている。
ム酸ゼラチン、サーモグラスチック、フォトポリマーな
どが用いられている。
上記感光体のうち、現時点で最も高感度な材料としては
銀塩写真が、高回折効率を備えている材料としては重ク
ロム酸ゼラチンの二種類が考えられる。しかし、銀塩写
真、重クロム酸ゼラチンともホログラム作成工程が複雑
であることや、保存安定性に問題がある。
銀塩写真が、高回折効率を備えている材料としては重ク
ロム酸ゼラチンの二種類が考えられる。しかし、銀塩写
真、重クロム酸ゼラチンともホログラム作成工程が複雑
であることや、保存安定性に問題がある。
一方、ゼラチンの湿度安定性を持たせるための防湿コー
ト法としてエポキシ樹脂等を被服することが考えられる
が、ホログラムの表面に被膜を形成することにより反射
率が増加し、回折効率が低下する欠点があり、特開昭5
8−31371号には該皮膜の光学的厚み(屈折率と幾
可学的膜厚の積)が再生光の波長の十の整数倍で制御す
ることによって回折効率の低下を防止する方法が提案さ
れている。しかし、この方法は回折効率の低下を防止す
るのみである。
ト法としてエポキシ樹脂等を被服することが考えられる
が、ホログラムの表面に被膜を形成することにより反射
率が増加し、回折効率が低下する欠点があり、特開昭5
8−31371号には該皮膜の光学的厚み(屈折率と幾
可学的膜厚の積)が再生光の波長の十の整数倍で制御す
ることによって回折効率の低下を防止する方法が提案さ
れている。しかし、この方法は回折効率の低下を防止す
るのみである。
また、防湿用としての目的からは熱溶着フィルムでホロ
グラムを気密封止する方法が特開昭59−201080
に記載されている。しかし、この方法はホログラムを作
成した後、熱によってオーバーコート用フィルムを溶着
させるため、温度による歪みが生ずることや、加工に手
間がかかることなどから産業用としては必ずしも良い方
法ではない。
グラムを気密封止する方法が特開昭59−201080
に記載されている。しかし、この方法はホログラムを作
成した後、熱によってオーバーコート用フィルムを溶着
させるため、温度による歪みが生ずることや、加工に手
間がかかることなどから産業用としては必ずしも良い方
法ではない。
(発明の目的)
本発明の目的は、銀塩−ゼラチン、重クロム酸ゼラチン
等のゼラチンを含有するホログラムに、簡単な加工を施
すことによってS/N比を向上させる方法を提供するこ
とにある。
等のゼラチンを含有するホログラムに、簡単な加工を施
すことによってS/N比を向上させる方法を提供するこ
とにある。
(発明の構成)
本発明は、記録層中にゼラチンを含有するホログラム上
に可撓性のある架橋性樹脂の被膜を形成することによっ
て、S/N比を向上させることを特徴とする。
に可撓性のある架橋性樹脂の被膜を形成することによっ
て、S/N比を向上させることを特徴とする。
使用する樹脂としては、不飽和基の重合によって生成す
る炭素−炭素結合とイソシアネート基と活性水素との反
応によって生成する結合を有する樹脂が好ましい。ラジ
カル重合をする不飽和基としては、アクリル基、メタク
リル基、ビニル基等が考えられる。具体的にはアクリル
基(またはメタクリル基)を有するモノマーの例として
は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ヒドロキシエチ
ル、エポキシアクリレート等があり、ビニル基を有する
化合物の例としてはスチレン、メチルビニルエーテル、
酢酸ビニル等がある。インシアネート基を有するモノマ
ーの例としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシア
ネート、シクロへキシルジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート等があげられる。しかし、本発明のモ
ノマーは上記化合物に限定されるものではない。
る炭素−炭素結合とイソシアネート基と活性水素との反
応によって生成する結合を有する樹脂が好ましい。ラジ
カル重合をする不飽和基としては、アクリル基、メタク
リル基、ビニル基等が考えられる。具体的にはアクリル
基(またはメタクリル基)を有するモノマーの例として
は、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ヒドロキシエチ
ル、エポキシアクリレート等があり、ビニル基を有する
化合物の例としてはスチレン、メチルビニルエーテル、
酢酸ビニル等がある。インシアネート基を有するモノマ
ーの例としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジインシア
ネート、シクロへキシルジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート等があげられる。しかし、本発明のモ
ノマーは上記化合物に限定されるものではない。
上記モノマーを使用して不飽和基による結合とイソシア
ネートと活性水素の反応による結合とを有するポリマー
被膜を作成するためには、(1)活性水素を有するアク
リルモノマーやビニルモノマーから合成した活性水素含
有オリゴマー(例えば、アクリルポリオールオリゴマー
なと)と、架橋剤としてイソシアネート基を有するモノ
マーまたはオリゴマーとを混合したものを溶媒の存在下
または非存在下、液状で塗布した後、硬化させる方法と
、(2)活性水素含有不飽和化合物をイソシアネートと
反応させてインシアネート基の反応による結合を含む不
飽和化合物を合成した後、アクリルまたはとニルモノマ
ーの存在下、または非存在下に熱または光によって重合
硬化させる方法(この時溶媒が存在してもしなくても良
い)の二通りの方法があり、いずれの方法を用いても良
い。
ネートと活性水素の反応による結合とを有するポリマー
被膜を作成するためには、(1)活性水素を有するアク
リルモノマーやビニルモノマーから合成した活性水素含
有オリゴマー(例えば、アクリルポリオールオリゴマー
なと)と、架橋剤としてイソシアネート基を有するモノ
マーまたはオリゴマーとを混合したものを溶媒の存在下
または非存在下、液状で塗布した後、硬化させる方法と
、(2)活性水素含有不飽和化合物をイソシアネートと
反応させてインシアネート基の反応による結合を含む不
飽和化合物を合成した後、アクリルまたはとニルモノマ
ーの存在下、または非存在下に熱または光によって重合
硬化させる方法(この時溶媒が存在してもしなくても良
い)の二通りの方法があり、いずれの方法を用いても良
い。
塗工方法としては、ディップコート、ロールコート、ス
クリーン印刷、ドクターブレード等従来の液膜を塗工す
る方法を用いることができる。
クリーン印刷、ドクターブレード等従来の液膜を塗工す
る方法を用いることができる。
また、被膜の厚さは光学的厚み、すなわち屈折率×幾何
学的膜厚が再生光の波長以上となるようにすればよいが
、防湿性等の点を考慮して、一般には1μ以上にするの
が好ましい。
学的膜厚が再生光の波長以上となるようにすればよいが
、防湿性等の点を考慮して、一般には1μ以上にするの
が好ましい。
本方法によって被膜を施したホログラムは被膜のないホ
ログラムに比較してS/N比が向上する。
ログラムに比較してS/N比が向上する。
また、副次的な効果として、本方法の膜は防湿性に秀れ
ているため、ホログラムの耐湿性を向上する効果や機械
的強度を向上する効果がある。
ているため、ホログラムの耐湿性を向上する効果や機械
的強度を向上する効果がある。
本方法の効果の理由は明確ではないが、ホログラム作成
時に物体光の広がりによるインターモデーレイションノ
イズにより、低周波数の干渉縞による表面レリーフがで
きるが、これを樹脂をコートすることにより除去できる
ためと考えられる。
時に物体光の広がりによるインターモデーレイションノ
イズにより、低周波数の干渉縞による表面レリーフがで
きるが、これを樹脂をコートすることにより除去できる
ためと考えられる。
以下実施例によって本発明の詳細な説明するが本発明が
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
(実施例)
平滑な表面を有するガラス基板上に銀塩乳剤を施した乾
板(商品名アグファ・ホロテスト8 E 56 HDプ
レート)を用い、ホログラム露光を行い、常法に従って
現像、定着、漂白を行った。
板(商品名アグファ・ホロテスト8 E 56 HDプ
レート)を用い、ホログラム露光を行い、常法に従って
現像、定着、漂白を行った。
このホログラムに、アクリルポリオールオリゴマー(ダ
イセル化学工業■製、商品名プラクセルEPA−22)
80部とインシアネート系チン層の表面にディップコー
ト法により塗工し、100°C1時間乾燥、硬化させた
。硬化後の樹脂層の厚みは6μmであった。
イセル化学工業■製、商品名プラクセルEPA−22)
80部とインシアネート系チン層の表面にディップコー
ト法により塗工し、100°C1時間乾燥、硬化させた
。硬化後の樹脂層の厚みは6μmであった。
このようにして処理したホログラムは再生像のコントラ
ストを測定してS/N contrastratio
を算出したところ、未処理のホログラムに比べてS/N
比が30%向上した。
ストを測定してS/N contrastratio
を算出したところ、未処理のホログラムに比べてS/N
比が30%向上した。
また、本発明により処理したホログラムは紫外線ランプ
(310rLmにピークを有する)で2万ミリワツト・
分/12 (40℃)の照射を行ったが、表面に亀裂等
の異常は生じなかった。
(310rLmにピークを有する)で2万ミリワツト・
分/12 (40℃)の照射を行ったが、表面に亀裂等
の異常は生じなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)光照射により屈折率変化を生じせしめることを利
用して干渉縞を記録する位相型ホログラム記録層の上に
可撓性のある架橋性樹脂の被膜層を有するホログラム。 (2)前記被膜が不飽和基の重合による炭素−炭素結合
とイソシアネート基と活性水素の反応による結合とを有
する樹脂であることを特徴とする特許請求範囲第一項記
載のホログラム。(3)前記被膜の光学的厚み(屈折率
×幾可学的膜厚)が再生光の波長以上であることを特徴
とする特許請求範囲第一項記載のホログラム。(4)前
記被膜を形成するにあたり、溶媒の存在下または非存在
下、液状で記録面に塗工した後、硬化することを特徴と
する特許請求範囲第一項記載のホログラム。 (5)位相型ホログラム記録層がゼラチンを含有するこ
とを特徴とする特許請求範囲第一項記載のホログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20479385A JPS6263982A (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | ホログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20479385A JPS6263982A (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | ホログラム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263982A true JPS6263982A (ja) | 1987-03-20 |
Family
ID=16496446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20479385A Pending JPS6263982A (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | ホログラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6263982A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4915445A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-09 | ||
| JPS5481377A (en) * | 1977-12-12 | 1979-06-28 | Mitsui Polychemicals Ltd | Resin moldings improved surface |
-
1985
- 1985-09-17 JP JP20479385A patent/JPS6263982A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4915445A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-09 | ||
| JPS5481377A (en) * | 1977-12-12 | 1979-06-28 | Mitsui Polychemicals Ltd | Resin moldings improved surface |
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