JPS6267529A - 感光性記録材料 - Google Patents
感光性記録材料Info
- Publication number
- JPS6267529A JPS6267529A JP60207979A JP20797985A JPS6267529A JP S6267529 A JPS6267529 A JP S6267529A JP 60207979 A JP60207979 A JP 60207979A JP 20797985 A JP20797985 A JP 20797985A JP S6267529 A JPS6267529 A JP S6267529A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- pigment
- photosensitive
- recording material
- resin layer
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/56—Organic absorbers, e.g. of photo-resists
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、主として印刷用など様々な分野において使用
されている感光性樹脂を用いた感光性記録材料に関する
ものである。
されている感光性樹脂を用いた感光性記録材料に関する
ものである。
［発明の技術的背景および従来技術］
感光性記録材料は感光性樹脂（フォトポリマー）からな
る層を有し、感光性樹脂が一般に光などによりその分子
構造が変化するために溶剤に対して可溶化あるいは不溶
化する現象を利用して、記録材料上に画像（パターン）
を形成することができるものである。従って、感光性記
録材料はＰＳ平版、樹脂凸版等の印刷版、ドライフィル
ムレジスト等のフォトレジスト、プレプレスカラープル
ーフ、返し用リスフィルムなどとして、主として可視画
像の必要とされる一般写真から広く印刷あるいは製版な
どの分野においてその目的に応じて使用されている。
る層を有し、感光性樹脂が一般に光などによりその分子
構造が変化するために溶剤に対して可溶化あるいは不溶
化する現象を利用して、記録材料上に画像（パターン）
を形成することができるものである。従って、感光性記
録材料はＰＳ平版、樹脂凸版等の印刷版、ドライフィル
ムレジスト等のフォトレジスト、プレプレスカラープル
ーフ、返し用リスフィルムなどとして、主として可視画
像の必要とされる一般写真から広く印刷あるいは製版な
どの分野においてその目的に応じて使用されている。
たとえば、感光性記録材料が印刷仕上りの色、調子等を
確認するための校正刷用に用いられる場合には、記録材
料は、支持体（以下においては仮支持体とも称される）
上に有機重合体よりなる中間層および感光性樹脂層を順
に設けた構成を有する。具体的に、感光性記録材料がサ
ーブリント法における画像形成材料（感光性転写シート
）として用いられる場合には、画像形成材料を露光、現
像して中間層（剥離層）上に分解画像を形成したのち、
この分解画像を任意の支持体上に転写することにより分
解画像を有するカラープルーフィングシートが得られる
。
確認するための校正刷用に用いられる場合には、記録材
料は、支持体（以下においては仮支持体とも称される）
上に有機重合体よりなる中間層および感光性樹脂層を順
に設けた構成を有する。具体的に、感光性記録材料がサ
ーブリント法における画像形成材料（感光性転写シート
）として用いられる場合には、画像形成材料を露光、現
像して中間層（剥離層）上に分解画像を形成したのち、
この分解画像を任意の支持体上に転写することにより分
解画像を有するカラープルーフィングシートが得られる
。
上記カラープルーフィングシートは実際に校正刷りを行
なった場合の印刷仕上りの色などのチェックのために使
用されるものであるため、感光性記録材料（着色性画像
形成材料）上に形成される分解画像の色相はできる限り
鮮明であることが望まれている。
なった場合の印刷仕上りの色などのチェックのために使
用されるものであるため、感光性記録材料（着色性画像
形成材料）上に形成される分解画像の色相はできる限り
鮮明であることが望まれている。
感光性記録材料上に着色画像を得るためには一般に、色
の鮮明度、濃度（染着力）、色相の豊富さなどの緒特性
において優れた有機顔料を感光性樹脂および溶剤などと
共に混合して塗布液を調整し、これを上記中間層上に塗
布することにより記録材料を得、次いでこの記録材料を
露光したのち、現像液により現像（パターニング）して
樹脂層の可溶性部分を除去することが行なわれている。
の鮮明度、濃度（染着力）、色相の豊富さなどの緒特性
において優れた有機顔料を感光性樹脂および溶剤などと
共に混合して塗布液を調整し、これを上記中間層上に塗
布することにより記録材料を得、次いでこの記録材料を
露光したのち、現像液により現像（パターニング）して
樹脂層の可溶性部分を除去することが行なわれている。
そして、感光性記録材料の幅広い用途に答えるために、
上記緒特性が優れたものとして金属によりキレート化さ
れた顔料が注目されている。
上記緒特性が優れたものとして金属によりキレート化さ
れた顔料が注目されている。
この顔料は１分子中に置換基としてカルボン酸基あるい
はスルホン酸基などのアニオン性基を有し、一方、たと
えばナトリウム、カリウムなどの一価あるいは二価の金
属イオンによりキレート化されて金属塩とされているた
めに、塗布液に対して不溶性である（安定化されている
）。従って、このような顔料を用いて感光性樹脂層を形
成する場合には、他層（中間層）への染着などの現象を
防止することができ、色相の鮮明な画像を形成すること
ができる。
はスルホン酸基などのアニオン性基を有し、一方、たと
えばナトリウム、カリウムなどの一価あるいは二価の金
属イオンによりキレート化されて金属塩とされているた
めに、塗布液に対して不溶性である（安定化されている
）。従って、このような顔料を用いて感光性樹脂層を形
成する場合には、他層（中間層）への染着などの現象を
防止することができ、色相の鮮明な画像を形成すること
ができる。
しかしながら、上記金属イオンによるキレート化が完全
に行なわれずに、一部の顔料がキレート化されないで塗
布液に対して可溶性である場合がある。このため、この
可溶性の顔料を含んだ塗布液を用いて感光性樹脂層を形
成した場合には、中間層上に塗布する工程で顔料が溶剤
とともに中間層に浸透する傾向にある。この結果、中間
層には顔料による汚れ、いわゆる色材カブリが発生しが
ちであった。
に行なわれずに、一部の顔料がキレート化されないで塗
布液に対して可溶性である場合がある。このため、この
可溶性の顔料を含んだ塗布液を用いて感光性樹脂層を形
成した場合には、中間層上に塗布する工程で顔料が溶剤
とともに中間層に浸透する傾向にある。この結果、中間
層には顔料による汚れ、いわゆる色材カブリが発生しが
ちであった。
［発明の要旨］
本発明は、中間層の着色、いわゆる色材カブリを防止し
た感光性記録材料を提供することをその目的とするもの
である。
た感光性記録材料を提供することをその目的とするもの
である。
また、本発明は、色材カブリを防止することにより、鮮
明な画像を形成することができる感光性記録材料を提供
することもその目的とするものである。
明な画像を形成することができる感光性記録材料を提供
することもその目的とするものである。
上記の目的は、支持体、中間層および顔料を含有する感
光性樹脂層をこの順に有する感光性記録材料において、
該顔料がアニオン性基を有する顔料であり、かつ該感光
性樹脂層がカチオン性基を有する化合物を含有している
ことを特徴とする本発明の感光性記録材料により達成す
ることができる。
光性樹脂層をこの順に有する感光性記録材料において、
該顔料がアニオン性基を有する顔料であり、かつ該感光
性樹脂層がカチオン性基を有する化合物を含有している
ことを特徴とする本発明の感光性記録材料により達成す
ることができる。
本発明は、感光性記録材料の感光性樹脂層に、カルボン
酸基あるいはスルホン酸基などのアニオン性基を有する
顔料とともに、四級アンモニウム塩ポリマーまたはホス
ホニウム塩ポリマーなどのカチオン性基を有する化合物
を含有させることにより、感光性樹脂層の形成時におけ
る中間層の着色を防止して、記録材料の画像特性の向上
を実現するものである。
酸基あるいはスルホン酸基などのアニオン性基を有する
顔料とともに、四級アンモニウム塩ポリマーまたはホス
ホニウム塩ポリマーなどのカチオン性基を有する化合物
を含有させることにより、感光性樹脂層の形成時におけ
る中間層の着色を防止して、記録材料の画像特性の向上
を実現するものである。
スナワチ、感光性樹脂層形成のための塗布液ニ含有され
るカルボン酸基あるいはスルホン酸基などのアニオン性
基を有する顔料のうち一部のキレート化されていない、
いわゆる可溶性の不安定な状態にある顔料に対して、四
級アンモニウム塩ポリマーまたはホスホニウム塩ポリマ
ーなどのカチオン性基を有する化合物を添加することに
より、この化合物中のカチオン性基がキレート化されて
いないアニオン性顔料を引き寄せるために顔料の活性化
（可溶化）を低減させることができる。この結果、塗布
液を塗布して感光性樹脂層を形成する際に中間層への染
着作用（溶剤による顔料の浸透作用）が抑制されて、顔
料にょるカブリを顕著に防止することができる。
るカルボン酸基あるいはスルホン酸基などのアニオン性
基を有する顔料のうち一部のキレート化されていない、
いわゆる可溶性の不安定な状態にある顔料に対して、四
級アンモニウム塩ポリマーまたはホスホニウム塩ポリマ
ーなどのカチオン性基を有する化合物を添加することに
より、この化合物中のカチオン性基がキレート化されて
いないアニオン性顔料を引き寄せるために顔料の活性化
（可溶化）を低減させることができる。この結果、塗布
液を塗布して感光性樹脂層を形成する際に中間層への染
着作用（溶剤による顔料の浸透作用）が抑制されて、顔
料にょるカブリを顕著に防止することができる。
また、本発明の感光性記録材料においては、中間層の色
材カブリを効果的に低減することができるため、本発明
の感光性記録材料を用いることにより鮮明な画像を得る
ことができる。＃に、サーブリント法によりカラープル
ーフィングシート上に着色画像を得る場合に極めて有利
である。
材カブリを効果的に低減することができるため、本発明
の感光性記録材料を用いることにより鮮明な画像を得る
ことができる。＃に、サーブリント法によりカラープル
ーフィングシート上に着色画像を得る場合に極めて有利
である。
［発明の構成］
本発明の感光性記録材料は、実質的に支持体、中間層お
よび感光性樹脂層がこの順に設けられてなる構成を有す
る。感光性記録材料は、たとえば以下に述べるような方
法により製造することができる。
よび感光性樹脂層がこの順に設けられてなる構成を有す
る。感光性記録材料は、たとえば以下に述べるような方
法により製造することができる。
支持体の材料としては、化学的および熱的に安定であっ
て、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。必要に応じ
て化学光線透過性であってもよい、具体的には、たとえ
ば、セルロースアセテート、ポリ塩化ビニル、ポリスチ
レン、ポリプロピレンなどの特開昭４７−４１８３０号
、特開昭４８−９３３７号および特開昭５１−５１０１
号の各公報等に記載されている種々の物質を使用するこ
とができるが、特にポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネートおよびこれらの熱処理物が好ましい。
て、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。必要に応じ
て化学光線透過性であってもよい、具体的には、たとえ
ば、セルロースアセテート、ポリ塩化ビニル、ポリスチ
レン、ポリプロピレンなどの特開昭４７−４１８３０号
、特開昭４８−９３３７号および特開昭５１−５１０１
号の各公報等に記載されている種々の物質を使用するこ
とができるが、特にポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネートおよびこれらの熱処理物が好ましい。
支持体の中間層が設けられる側とは反対側の表面には、
加工性の向上などの目的で、ポリビニルブチラール、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体。
加工性の向上などの目的で、ポリビニルブチラール、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体。
セルロースアセテートなどの高分子物質からなるバック
層が設けられてもよい、また、バック層にはマット剤な
ど各種の添加剤が含有されていてもよい。
層が設けられてもよい、また、バック層にはマット剤な
ど各種の添加剤が含有されていてもよい。
この支持体上には、中間層が設けられる。中間層に使用
される材料としては、既に中間層の材料として公知の材
料を適宜選択して用いることができる。そのような材料
としては、アルコール可溶性ポリアミド、ヒドロキシス
チレン系重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ（メタ）アクリ
レート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチレート、メチ
ルメタアクリレート・アクリレート共重合体、セルロー
スアセテートブチレート、塩化ビニル・酢酸ビニル共重
合体、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリビニ
ルアルコール、スチレン・無水マレイン酸共重合体の部
分エステル化樹脂とメトキシメチル化士イロンとのブレ
ンド物などを挙げることができる。
される材料としては、既に中間層の材料として公知の材
料を適宜選択して用いることができる。そのような材料
としては、アルコール可溶性ポリアミド、ヒドロキシス
チレン系重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ（メタ）アクリ
レート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチレート、メチ
ルメタアクリレート・アクリレート共重合体、セルロー
スアセテートブチレート、塩化ビニル・酢酸ビニル共重
合体、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、ポリビニ
ルアルコール、スチレン・無水マレイン酸共重合体の部
分エステル化樹脂とメトキシメチル化士イロンとのブレ
ンド物などを挙げることができる。
好ましいものは、アルコール可溶性ポリアミドとヒドロ
キシスチレン系重合体との混合物である。
キシスチレン系重合体との混合物である。
中間層は、上記材料を適当な溶剤に溶解して塗布液を調
整したのち、この塗布液を支持体上に塗布、乾燥するこ
とにより形成することができる。
整したのち、この塗布液を支持体上に塗布、乾燥するこ
とにより形成することができる。
塗布液中には表面状態の改良剤として各種の界面活性剤
を添加することができ、特にフッ素系界面活性剤が有効
である。中間層の層厚は一般に０゜１〜２０ｐｍの範囲
にあり、好ましくは０．２〜５ｐｍの範囲にあり、特に
、０．３〜３ルｍの範囲にあるのが好ましい。
を添加することができ、特にフッ素系界面活性剤が有効
である。中間層の層厚は一般に０゜１〜２０ｐｍの範囲
にあり、好ましくは０．２〜５ｐｍの範囲にあり、特に
、０．３〜３ルｍの範囲にあるのが好ましい。
次に、中間層の上には感光性樹脂層が設けられる。
感光性樹脂層に用いられる感光性樹脂としては、公知の
各種の感光性樹脂を使用することができるが、アルカリ
現像タイプの感光性樹脂が好ましい。たとえばＮ、Ｐ型
の場合には、２．６−ジ（４゛−アジドベンザル）シク
ロヘキサン等のアジド系感光剤とフェノールノボラック
樹脂とのブレンド組成物、およびベンジルメタクリレー
ト・メタクリル酸共重合体を結合剤としてトリメチロー
ルプロパントリアクリレート等の多官渣性モノマーとミ
ヒラーケトン等の光重合開始剤とのブレンド組成物が好
ましい、また、Ｐ−Ｐ型の場合には、０−キノンジアジ
ド等のキノンジアジド系感光剤が好ましい。
各種の感光性樹脂を使用することができるが、アルカリ
現像タイプの感光性樹脂が好ましい。たとえばＮ、Ｐ型
の場合には、２．６−ジ（４゛−アジドベンザル）シク
ロヘキサン等のアジド系感光剤とフェノールノボラック
樹脂とのブレンド組成物、およびベンジルメタクリレー
ト・メタクリル酸共重合体を結合剤としてトリメチロー
ルプロパントリアクリレート等の多官渣性モノマーとミ
ヒラーケトン等の光重合開始剤とのブレンド組成物が好
ましい、また、Ｐ−Ｐ型の場合には、０−キノンジアジ
ド等のキノンジアジド系感光剤が好ましい。
感光性樹脂層に含有されるアニオン性基を有する顔料は
、カルボン酸基および／またはスルホン酸基を少なくと
も一個有する化合物であるのが好゛ ましい、その
ような顔料の例として、下記一般式［Ｉ］で表わされる
化合物を挙げることができる。
、カルボン酸基および／またはスルホン酸基を少なくと
も一個有する化合物であるのが好゛ ましい、その
ような顔料の例として、下記一般式［Ｉ］で表わされる
化合物を挙げることができる。
一般式：
％式％［］
（ただし、Ａは、
ここで、Ｘ、Ｙおよび２は、それぞれカルボン酸基、ス
ルホン酸基、炭素原子数１乃至１２のアル午ル基、炭素
原子数１乃至１２のフルコキシル基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子または水素原子であり、 Ｂは、 ここで、■およびＷはそれぞれカルボン酸基、スルホン
ｍ基または水素原子であり；ＤおよびＥはそれぞれ水素
原子または水酸基であって、かつ少なくとも一方が水酸
基であり、 そして、Ｘ、Ｙ、Ｚ、■およびＷのうち少なくとも一つ
はカルボン酸基またはスルホン酸基であり。
ルホン酸基、炭素原子数１乃至１２のアル午ル基、炭素
原子数１乃至１２のフルコキシル基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子または水素原子であり、 Ｂは、 ここで、■およびＷはそれぞれカルボン酸基、スルホン
ｍ基または水素原子であり；ＤおよびＥはそれぞれ水素
原子または水酸基であって、かつ少なくとも一方が水酸
基であり、 そして、Ｘ、Ｙ、Ｚ、■およびＷのうち少なくとも一つ
はカルボン酸基またはスルホン酸基であり。
Ｍは金属原子であり、
ｎは１乃至５の整数である）
なお、ｘ、ｙ、ｚ、ｖおよびＷで表わされた置換基は上
記環構造の任意の位置に配置することができる。
記環構造の任意の位置に配置することができる。
すなわち、上記一般式［Ｉ］で表わされる顔料は、それ
を構成するＡまたはＢのうち少なくとも一方に少なくと
も一個のカルボン酸基あるいはスルホン酸基を有する化
合物である。
を構成するＡまたはＢのうち少なくとも一方に少なくと
も一個のカルボン酸基あるいはスルホン酸基を有する化
合物である。
なお、一般式［Ｉ］においてｘ、ＹおよびＺがそれぞれ
ハロゲン原子である場合に、ハロゲン原子とはＦ、ＣＭ
、ＢｒおよびＩのうちのいずれかを意味する。
ハロゲン原子である場合に、ハロゲン原子とはＦ、ＣＭ
、ＢｒおよびＩのうちのいずれかを意味する。
上記一般式［Ｉ］で表わされる顔料の具体例として、以
下に示すような化合物を挙げることができる。
下に示すような化合物を挙げることができる。
以下余白
（１）ピグメントレッド ４８ （Ｃ，Ｉ １５８８
５ ）（２）ピグメントレッド４Ｂ （Ｃ，１１５８
８５）（３）ピグメントレッド４９ （Ｃ：、Ｉ １
５６３０）（４）ピグメントレッド４９ （Ｃ：、１
１５８３０ ）（５）ピグメントレッド５０ （Ｃ，
Ｉ １５５００ ）（６）ピグメントレッド５１ （
Ｇ、Ｉ ＋５５ｅｏ ＞（７）ピグメントレッド５２
（Ｃ，Ｉ １５８８０ ）（８）ピグメントレッド
５３ （Ｃ，Ｉ １５５８５ ）（９）ピグメントレ
ッド５３ ＣＣ，１１５５Ｂ５ ）（１０）ピグメン
トレッド５４ （Ｃ：、Ｉ １４８３０ ）（１１）
ピグメントレッド ５５ （Ｃ，Ｉ １５８２Ｃ１）
（１２）ピグメントレッド５？ （Ｃ：、Ｉ １５８
５０ ）（１３）ピグメントレッド５７ （Ｃ：、Ｉ
１５８５０ ）（１４）ピグメントレッド ５８
（Ｃ：、Ｉ １５８２５ ）（１５）ピグメントレッド
５８ （Ｇ、１１５Ｂ２５ ）（１６）ピグメント
レッド Ｇｏ （Ｃ：、Ｔ １８０１５ ）（１７）
ピグメントレッド６３ （Ｃ：、Ｉ １５８８０ ）
（１８）ピグメントレッド１３４ （Ｃ：、１１５８
００ ）（１９）ピグメントレッド８８ （Ｃ：、Ｉ
１５５２５ ）などを挙げることができる。
５ ）（２）ピグメントレッド４Ｂ （Ｃ，１１５８
８５）（３）ピグメントレッド４９ （Ｃ：、Ｉ １
５６３０）（４）ピグメントレッド４９ （Ｃ：、１
１５８３０ ）（５）ピグメントレッド５０ （Ｃ，
Ｉ １５５００ ）（６）ピグメントレッド５１ （
Ｇ、Ｉ ＋５５ｅｏ ＞（７）ピグメントレッド５２
（Ｃ，Ｉ １５８８０ ）（８）ピグメントレッド
５３ （Ｃ，Ｉ １５５８５ ）（９）ピグメントレ
ッド５３ ＣＣ，１１５５Ｂ５ ）（１０）ピグメン
トレッド５４ （Ｃ：、Ｉ １４８３０ ）（１１）
ピグメントレッド ５５ （Ｃ，Ｉ １５８２Ｃ１）
（１２）ピグメントレッド５？ （Ｃ：、Ｉ １５８
５０ ）（１３）ピグメントレッド５７ （Ｃ：、Ｉ
１５８５０ ）（１４）ピグメントレッド ５８
（Ｃ：、Ｉ １５８２５ ）（１５）ピグメントレッド
５８ （Ｇ、１１５Ｂ２５ ）（１６）ピグメント
レッド Ｇｏ （Ｃ：、Ｔ １８０１５ ）（１７）
ピグメントレッド６３ （Ｃ：、Ｉ １５８８０ ）
（１８）ピグメントレッド１３４ （Ｃ：、１１５８
００ ）（１９）ピグメントレッド８８ （Ｃ：、Ｉ
１５５２５ ）などを挙げることができる。
顔料の添加量は使用される顔料の種類、粒状などによっ
て異なるが、一般に感光性樹脂層の固形成分に対して１
〜３０重量％の範囲であり、特に２〜１０の範囲にある
のが好ましい。
て異なるが、一般に感光性樹脂層の固形成分に対して１
〜３０重量％の範囲であり、特に２〜１０の範囲にある
のが好ましい。
感光性樹脂層にはさらに本発明の特徴的な要件であるカ
チオン性基を有する化合物が含有される。カチオン性基
を有する化合物としては、たとえば下記一般式［ＩＩ］
で表わされる化合物を挙げることができる。
チオン性基を有する化合物が含有される。カチオン性基
を有する化合物としては、たとえば下記一般式［ＩＩ］
で表わされる化合物を挙げることができる。
以下余白
一般式：
Ｒ３
Ｒ’−Ｑ”−Ｒ’ Ｇ−
嘉・
［１１ａ コ ［ＩＴｂ］（ただ
し、Ｕはエチレン性不飽和七ツマ−であり；Ｌは炭素原
子数１乃至１２の二価の基であり；Ｑは窒素原子あるい
は燐原子であり、 Ｒ３は水素原子あるいは炭素原子数
１乃至６のアルキル基であり、 Ｒ４、Ｒ％およびＲ８
はそれぞれ炭素原子数１乃至１２のアルキル基あるいは
炭素原子数７乃至２０のアラルキル基であり；Ｇ−は−
価の７ニオンであり；ＸはＯ乃至９０モル％の範囲の数
値であり、ｙは１０乃至１００％の範囲の数値である） 上記一般式［ＩＩ］で表わされる化合物は、［ＩＩａｌ
および［ｒｌ ｂ］からなる繰返し単位を有し、これら
が規則的に配列された構造、ブロック構造もしくはラン
ダム構造を有するポリマー１ある。
し、Ｕはエチレン性不飽和七ツマ−であり；Ｌは炭素原
子数１乃至１２の二価の基であり；Ｑは窒素原子あるい
は燐原子であり、 Ｒ３は水素原子あるいは炭素原子数
１乃至６のアルキル基であり、 Ｒ４、Ｒ％およびＲ８
はそれぞれ炭素原子数１乃至１２のアルキル基あるいは
炭素原子数７乃至２０のアラルキル基であり；Ｇ−は−
価の７ニオンであり；ＸはＯ乃至９０モル％の範囲の数
値であり、ｙは１０乃至１００％の範囲の数値である） 上記一般式［ＩＩ］で表わされる化合物は、［ＩＩａｌ
および［ｒｌ ｂ］からなる繰返し単位を有し、これら
が規則的に配列された構造、ブロック構造もしくはラン
ダム構造を有するポリマー１ある。
上記一般式［■コにおいて、Ｕで表わされるエチレン性
不飽和七ツマ−の例としては、オレフィン類（たとえば
エチレン、プロピレン、１−ブテン、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、イソブチン、臭化ビニルなど）、ジエン類
（たとえばブタジェン、イソプレン、クロロブレンなど
）、脂肪酸又は芳香族カルボン酸のエチレン性不飽和エ
ステル（たとえば酢酸ビニル、酢酸アリル、ビニルプロ
ピオネート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなど）
、エチレン性不飽和酸のエステル（たとえばメチルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメ
タクリレート、フェニルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、アミルアクリレート、２〜エチルへキシル
アクリレート、ベンジルアクリレート、マレイン酸ジブ
チルエステル、フマル酸ジエチルエステル、クロトン酸
エチル、メチレンマロン酸ジブチルエステルなど）、ス
チレン類（たとえばスチレン、α−メチルスチレン、ビ
ニルトルエン、クロルメチルスチレン、クロルスチレン
、ジクロルスチレン、ブロムスチレンなど）、不飽和ニ
トリル（たとえばアクリロニトリル、メタクリレートリ
ル、シアン化アリル、クロトンニトリルなど）が挙げら
れる。これらのうち特に、乳化重合性、疎水性等の点か
らスチレン類、メタクリル酸エステル類が好ましい。ま
た、［ＩＩ ａ］で表わされる繰返し単位は、上記エチ
レン性不飽和七ツマ−を二種以上含んでいてもよい。
不飽和七ツマ−の例としては、オレフィン類（たとえば
エチレン、プロピレン、１−ブテン、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、イソブチン、臭化ビニルなど）、ジエン類
（たとえばブタジェン、イソプレン、クロロブレンなど
）、脂肪酸又は芳香族カルボン酸のエチレン性不飽和エ
ステル（たとえば酢酸ビニル、酢酸アリル、ビニルプロ
ピオネート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなど）
、エチレン性不飽和酸のエステル（たとえばメチルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメ
タクリレート、フェニルメタクリレート、オクチルメタ
クリレート、アミルアクリレート、２〜エチルへキシル
アクリレート、ベンジルアクリレート、マレイン酸ジブ
チルエステル、フマル酸ジエチルエステル、クロトン酸
エチル、メチレンマロン酸ジブチルエステルなど）、ス
チレン類（たとえばスチレン、α−メチルスチレン、ビ
ニルトルエン、クロルメチルスチレン、クロルスチレン
、ジクロルスチレン、ブロムスチレンなど）、不飽和ニ
トリル（たとえばアクリロニトリル、メタクリレートリ
ル、シアン化アリル、クロトンニトリルなど）が挙げら
れる。これらのうち特に、乳化重合性、疎水性等の点か
らスチレン類、メタクリル酸エステル類が好ましい。ま
た、［ＩＩ ａ］で表わされる繰返し単位は、上記エチ
レン性不飽和七ツマ−を二種以上含んでいてもよい。
と記一般式［Ｕ］において、Ｒ１は、重合反応性などの
点から水素原子またはメチル基であるのが好ましい。
点から水素原子またはメチル基であるのが好ましい。
上記一般式［ＩＩ］において、Ｌは、
であるのが好ましい、そして、耐アルカリ性などである
のが好ましく、特に乳化重合性の点から、ここで’Ｒ％
は、アルキレン基（たとえばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレンなト）、アリーレン基または
アラルキレン基（タト原子数Ｏ乃至６のアルキレン基で
ある）であり。
のが好ましく、特に乳化重合性の点から、ここで’Ｒ％
は、アルキレン基（たとえばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレンなト）、アリーレン基または
アラルキレン基（タト原子数Ｏ乃至６のアルキレン基で
ある）であり。
Ｒ６は水素原子またはＲ２であり、ｎは１または２の整
数である。
数である。
上記一般式［１］において、Ｑは原料の有害性などの点
から窒素原子（Ｎ）であるのが好ましい。
から窒素原子（Ｎ）であるのが好ましい。
上記一般式［ＩＩ］において、Ｇ−はヨウ素イオン以外
のアニオンであり、たとえばハロゲンイオン（塩素イオ
ン、臭素イオンなど）、アルキル硫酸イオン（メチル硫
酸イオン、エチル硫酸イオンなど）、アルキルあるいは
アリールスルホン酸イオン（メタンスルホン酸イオン、
エタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、
ｐ−トルエンスルホン酸イオンなど）、硝酸イオン、酢
酸イオンおよび硫酸イオンなどが挙げられる。
のアニオンであり、たとえばハロゲンイオン（塩素イオ
ン、臭素イオンなど）、アルキル硫酸イオン（メチル硫
酸イオン、エチル硫酸イオンなど）、アルキルあるいは
アリールスルホン酸イオン（メタンスルホン酸イオン、
エタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、
ｐ−トルエンスルホン酸イオンなど）、硝酸イオン、酢
酸イオンおよび硫酸イオンなどが挙げられる。
これらのうち、特に好ましいものは、塩素イオン、アル
キル硫酸イオン、アリールスルホン酸イオン、悄酸イオ
ンである。
キル硫酸イオン、アリールスルホン酸イオン、悄酸イオ
ンである。
上記一般式［■］において、Ｒ２、ＲコおよびＲ４はそ
れぞれアルキル基あるいはアラルキル基であり、それら
の中には置換アルキル基および置換アラルキル基が含ま
れる。
れぞれアルキル基あるいはアラルキル基であり、それら
の中には置換アルキル基および置換アラルキル基が含ま
れる。
アルキル基のうち無置換アルキル基としてはたとえば、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ
−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチ
ルヘキシル基、ドデシル基などを挙げることができる。
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ
−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチ
ルヘキシル基、ドデシル基などを挙げることができる。
また置換アルキル基としては、たとえばアルコキシアル
キル基（メトキシメチル基、メトキシブチル基、エトキ
シエチル基、ブトキシエチル基、ビニロキシエチル基な
ど）、シアノアルキル基（２−シアノエチル基、３−シ
アノプロピル基など）、ハロゲン化アルキル基（２−フ
ルオロエチル基、２−クロロエチル基、パーフロロプロ
ピル基など）、アルコキシカルボニルアルキル基（エト
キシカルボニルメチル基など）、アリル基、２−ブテニ
ル基、プロパギル基などを挙げることができる。
キル基（メトキシメチル基、メトキシブチル基、エトキ
シエチル基、ブトキシエチル基、ビニロキシエチル基な
ど）、シアノアルキル基（２−シアノエチル基、３−シ
アノプロピル基など）、ハロゲン化アルキル基（２−フ
ルオロエチル基、２−クロロエチル基、パーフロロプロ
ピル基など）、アルコキシカルボニルアルキル基（エト
キシカルボニルメチル基など）、アリル基、２−ブテニ
ル基、プロパギル基などを挙げることができる。
アラルキル基のうち無置換アラルキル基としてはたとえ
ば、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、
ナフチルメチル基などを挙げることができる。また置換
アラルキル基としては、たとえばアルキルアラルキル基
（４−メチルベンジル基、２．５−ジメチルベンジル基
、４−イソプロピルベンジル基、４−オクチルベンジル
基など）、アルコキシアラルキル基（４−メトキシベン
ジル基、４−ペンタフロロプロペニルオキシベンジル基
、４−エトキシベンジル基など）、シアノアラルキル基
（４−シアノベンジル基、４−（４−シアノフェニル）
ベンジル基など）、ハロゲン化アラルキル基（４−クロ
ロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−ブロモベン
ジル基、４−（４−クロロフェニル）ベンジル基など）
などを挙げることができる。
ば、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、
ナフチルメチル基などを挙げることができる。また置換
アラルキル基としては、たとえばアルキルアラルキル基
（４−メチルベンジル基、２．５−ジメチルベンジル基
、４−イソプロピルベンジル基、４−オクチルベンジル
基など）、アルコキシアラルキル基（４−メトキシベン
ジル基、４−ペンタフロロプロペニルオキシベンジル基
、４−エトキシベンジル基など）、シアノアラルキル基
（４−シアノベンジル基、４−（４−シアノフェニル）
ベンジル基など）、ハロゲン化アラルキル基（４−クロ
ロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−ブロモベン
ジル基、４−（４−クロロフェニル）ベンジル基など）
などを挙げることができる。
アルキル基の炭素原子数はｌ乃至１２個であるのが好ま
しく、アラルキル基の炭素原子数は７乃至１４個である
のが好ましい、そしてＲ２、Ｒ３およびＲ４は互いに同
一であってもよいし、あるいは異なっていてもよい、特
に、Ｒ２、Ｒ３およびＲ′がアルキル基である場合には
、炭素原子数の総和が１２個以上であるときにこのポリ
マーが有機溶媒に可溶となるので好ましい。
しく、アラルキル基の炭素原子数は７乃至１４個である
のが好ましい、そしてＲ２、Ｒ３およびＲ４は互いに同
一であってもよいし、あるいは異なっていてもよい、特
に、Ｒ２、Ｒ３およびＲ′がアルキル基である場合には
、炭素原子数の総和が１２個以上であるときにこのポリ
マーが有機溶媒に可溶となるので好ましい。
また、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は相互に連結してＱと共に
環状構造を形成していてもよい。そのような例としては
たとえば下記のものが挙げられる。
環状構造を形成していてもよい。そのような例としては
たとえば下記のものが挙げられる。
族複素環を形成するに必要な原子団である）、さらに、
脂肪族複素環の例としては、例えば、（Ｒ８は、水素原
子またはＲ４であり、ｎは２乃至１２の整数である）、 （ａ＋ ｂは２乃至７の整数である）、Ｍ」ＫＲｌｏ （Ｒ９およびＲ１Ｇはそれぞれ水素原子または炭素原子
数１乃至６のアルキル基である）、およびその他の例と
しては、 （Ｔ２はなしかまたベンゼン環を形成するに要する原子
団である）、 またはＲ２であり、二つのＲ２により置換される場合は
、同一であっても異なっていてもよい）等を挙げること
ができる。
脂肪族複素環の例としては、例えば、（Ｒ８は、水素原
子またはＲ４であり、ｎは２乃至１２の整数である）、 （ａ＋ ｂは２乃至７の整数である）、Ｍ」ＫＲｌｏ （Ｒ９およびＲ１Ｇはそれぞれ水素原子または炭素原子
数１乃至６のアルキル基である）、およびその他の例と
しては、 （Ｔ２はなしかまたベンゼン環を形成するに要する原子
団である）、 またはＲ２であり、二つのＲ２により置換される場合は
、同一であっても異なっていてもよい）等を挙げること
ができる。
これらの環構造の中でも、
ゝ＼−−／′
（ｎは４乃至６の整数である）、およびが好ましい。
上記一般式［Ｒ１において、繰返し単位［■ｂ］は二種
以上の混合成分からなっていてもよい。
以上の混合成分からなっていてもよい。
Ｘの好ましい範囲は２０乃至６０モル％であり、ｙの好
ましい範囲は４０乃至８０％である。
ましい範囲は４０乃至８０％である。
また、上記ポリマーにエチレン性不飽和基を少なくとも
二個布する七ツマ−を共重合させることもできる。
二個布する七ツマ−を共重合させることもできる。
このような七ツマ−の例どしては、たとえばエチレング
リコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラメチレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、アリルメタクリレート、アリルアク
リレート、ジアリルフタレート、メチレンビスアクリル
アミド、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメ
タクリルアミド、トリビニルシクロヘキサン、ジビニル
ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ビス（ビニルベンジル）−Ｎ、Ｎ−
ジメチルアンモニウムクロリド、Ｎ、Ｎ−ジエチル−Ｎ
−（メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ−（ビニルベン
ジル）アンモニウムクロリド、Ｎ。
リコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラメチレ
ングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、アリルメタクリレート、アリルアク
リレート、ジアリルフタレート、メチレンビスアクリル
アミド、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメ
タクリルアミド、トリビニルシクロヘキサン、ジビニル
ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ビス（ビニルベンジル）−Ｎ、Ｎ−
ジメチルアンモニウムクロリド、Ｎ、Ｎ−ジエチル−Ｎ
−（メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ−（ビニルベン
ジル）アンモニウムクロリド、Ｎ。
Ｎ、Ｎ’ 、Ｎ”−テトラエチル−Ｎ、Ｎ’−ビス（ビ
ニルベンジル）−ｐ−キシリレンジアンモニウムジクロ
リド、Ｎ、Ｎ’−ビス（ビニルベンジル）−トリエチレ
ンジアンモニウムジクロリド、Ｎ、Ｎ、Ｎ’ 、Ｎ’−
テトラブチル−Ｎ、Ｎ’−ビス（ビニルベンジル）−エ
チレンジアンモニウムジクロリドなどを挙げることがで
きる。
ニルベンジル）−ｐ−キシリレンジアンモニウムジクロ
リド、Ｎ、Ｎ’−ビス（ビニルベンジル）−トリエチレ
ンジアンモニウムジクロリド、Ｎ、Ｎ、Ｎ’ 、Ｎ’−
テトラブチル−Ｎ、Ｎ’−ビス（ビニルベンジル）−エ
チレンジアンモニウムジクロリドなどを挙げることがで
きる。
上記一般式［ＩＩ］で表わされるポリマーの具体例とし
ては、 ｉ） ｘ：、：２＝５：４７．５：４７．５ ｉｉ） ＣＨ，−Ｎ−” ＣＨ３０文− ｘ：ｙ：ｚ＝１０：４５：４５ １ｉｉ） ｘ：ｙ＝５：９５ １マ） ＣＨコ −Ｎ ” −ＣＨ３）４ｏ、−ＣＨ。
ては、 ｉ） ｘ：、：２＝５：４７．５：４７．５ ｉｉ） ＣＨ，−Ｎ−” ＣＨ３０文− ｘ：ｙ：ｚ＝１０：４５：４５ １ｉｉ） ｘ：ｙ＝５：９５ １マ） ＣＨコ −Ｎ ” −ＣＨ３）４ｏ、−ＣＨ。
Ｘ：デ＝５０：５０
■）
０ｓ）Ｉ １３ Ｎ−” ＣＢＨＩｓ
Ｃ１−８Ｈ１３ ｖｉ） ＣＨ，−Ｎ−”ＣＨ３［４− ＣＨ。
Ｃ１−８Ｈ１３ ｖｉ） ＣＨ，−Ｎ−”ＣＨ３［４− ＣＨ。
ｘ ：、： ２ ＝ｌＯ：４５：４５などを挙げるこ
とができる。
とができる。
以下余白
カチオン性基を有する化合物の使用量は一般に顔料に対
して重量比で１：９９〜７０：３０の範囲にあり、特に
、１５：８５〜５０ ： ５０の範囲にあるのが好まし
い。
して重量比で１：９９〜７０：３０の範囲にあり、特に
、１５：８５〜５０ ： ５０の範囲にあるのが好まし
い。
感光性樹脂層は、たとえば上記感光性樹脂、アニオン性
基を有する顔料およびカチオン性基を有する化合物を適
当な溶剤を用いて混合して塗布液を調製したのち、中間
層上に塗布、乾燥することにより形成することができる
。感光性樹脂層の層厚は一般に０．５〜１１００ＪＬの
範囲にあり、好ましくは１．０〜５０ｐｍの範囲にあり
、特に、１．０〜２０ｕＬｍの範囲にあるのが好ましい
。
基を有する顔料およびカチオン性基を有する化合物を適
当な溶剤を用いて混合して塗布液を調製したのち、中間
層上に塗布、乾燥することにより形成することができる
。感光性樹脂層の層厚は一般に０．５〜１１００ＪＬの
範囲にあり、好ましくは１．０〜５０ｐｍの範囲にあり
、特に、１．０〜２０ｕＬｍの範囲にあるのが好ましい
。
これら感光性樹脂層の材料およびその形成方法の詳細に
ついては、たとえば特公昭４６−１５３２６号、特公昭
４８−３５６８２号、特開昭４７−４１８３０号、特開
昭４８−９３３３７号、特開昭４９−４４１号、特開昭
５１−５１０１号、特開昭５９−９７１４０号などの各
公報に記載されている。
ついては、たとえば特公昭４６−１５３２６号、特公昭
４８−３５６８２号、特開昭４７−４１８３０号、特開
昭４８−９３３３７号、特開昭４９−４４１号、特開昭
５１−５１０１号、特開昭５９−９７１４０号などの各
公報に記載されている。
さらに、Ｎ、Ｐ型の場合には、ネガタイプの感光性樹脂
層の上に保護層を設けるのが好ましい。
層の上に保護層を設けるのが好ましい。
保護層は、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、メチルビニルエーテル・無水マレイン酸共重合体、
ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴムなどの
高分子物質の溶液を塗布、乾燥することにより形成する
ことができる。
ル、メチルビニルエーテル・無水マレイン酸共重合体、
ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴムなどの
高分子物質の溶液を塗布、乾燥することにより形成する
ことができる。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、以下の各側は本発明を制限するものではない。
［実施例１］
中間層形成用塗布液として、下記組成を有する溶液を調
製した。
製した。
東肌豊■ヱ邊ｊ
アルコール可溶性ポリアミド ７．２ｇ（Ｃ：
Ｍ−８０００、粘度： ２３ ｃｐｓ、東し■製）ポリ
ヒドロキシスチレン １．８ｇ（レジンＭ
、平均分子量：５，５００、丸善石油■製）メタノール
４００ｇメチルセロソル
ブ ｌｏｎｇこの塗布液をポリエ
チレンテレフタレートフィルム（支持体、厚さ：１０１
００Ｂ上に均一に塗布乾燥して、乾燥膜厚が０ 、５
ｇｍの中間層を設けた。
Ｍ−８０００、粘度： ２３ ｃｐｓ、東し■製）ポリ
ヒドロキシスチレン １．８ｇ（レジンＭ
、平均分子量：５，５００、丸善石油■製）メタノール
４００ｇメチルセロソル
ブ ｌｏｎｇこの塗布液をポリエ
チレンテレフタレートフィルム（支持体、厚さ：１０１
００Ｂ上に均一に塗布乾燥して、乾燥膜厚が０ 、５
ｇｍの中間層を設けた。
次に、Ｎ＋Ｐ型の画像形成を目的として、下記組成を有
する感光性樹脂層形成用の塗布液を調製した。
する感光性樹脂層形成用の塗布液を調製した。
感 性樹脂層用・希液
ベンジルメタクリレート−
メタクリル酸共重合体 ６０ｇ（モル比： ７
３／２？ 、粘度η： ０．１２）ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート４３．２ｇ ミヒラーズケトン ２．４ｇ２−（
０−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体 ２．５ｇ ピグメントレッド ５７ ５ 、２ ｇ
ポリ−Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリーｎ−ヘ
キシルアンモニウムクロライド１．６ｇ メチルセロンルプアセテー） ５６０ｇメチ
ルエチルケトン ２８０ｇただし、粘
度ηは温度２５℃におけるメチルエチルケトン溶液中で
の極限粘度である。
３／２？ 、粘度η： ０．１２）ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート４３．２ｇ ミヒラーズケトン ２．４ｇ２−（
０−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体 ２．５ｇ ピグメントレッド ５７ ５ 、２ ｇ
ポリ−Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリーｎ−ヘ
キシルアンモニウムクロライド１．６ｇ メチルセロンルプアセテー） ５６０ｇメチ
ルエチルケトン ２８０ｇただし、粘
度ηは温度２５℃におけるメチルエチルケトン溶液中で
の極限粘度である。
中間層の付設された支持体上に、上記感光塗布液を塗布
、乾燥して乾燥膜厚が２．４ルｍの感光性樹脂層を設け
た。
、乾燥して乾燥膜厚が２．４ルｍの感光性樹脂層を設け
た。
別に、下記組成の保護層形成用の塗布液を調整し、この
塗布液を感光性樹脂層の上に塗布乾燥して、乾燥膜厚が
１．５ルｍの保護層を設けた。
塗布液を感光性樹脂層の上に塗布乾燥して、乾燥膜厚が
１．５ルｍの保護層を設けた。
１１豊里二ヱ洩１
ポリビニルアルコール ６０ｇ（ＧＬ
−０５、日本合成化学工業■製）水
９７０ ｇメ
タノール ３０ｇこのよう
にして、順に支持体、中間層、感光性樹脂層および保護
層からなる感光性画像形成材料を製造した。
−０５、日本合成化学工業■製）水
９７０ ｇメ
タノール ３０ｇこのよう
にして、順に支持体、中間層、感光性樹脂層および保護
層からなる感光性画像形成材料を製造した。
［比較例１］
実施例１において、感光性樹脂層用塗布液にポリ−Ｎ−
ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−）ソーｎ−ヘキシルアン
モニウムクロライドを添加しないこと以外は実施例１の
方法と同様の操作を行なうことにより、感光性画像形成
材料を製造した。
ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−）ソーｎ−ヘキシルアン
モニウムクロライドを添加しないこと以外は実施例１の
方法と同様の操作を行なうことにより、感光性画像形成
材料を製造した。
［実施例２］
実施例１において、感光性樹脂層用塗布液の組成を下記
組成に変更すること以外は実施例１の方法と同様の処理
を行なうことにより、感光性画像形成材料を製造した。
組成に変更すること以外は実施例１の方法と同様の処理
を行なうことにより、感光性画像形成材料を製造した。
感光 樹脂層用・希液
ベンジルメタクリレート・
メタクリル酸共重合体 ６０ｇ
（モル比： ７３／２７ 、粘度η： ０．１２）ペン
タエリスリトールテトラアクリレート４３ 、２ｇ ミヒラーズケトン ２．４ｇ２−（
ｏ−クロロフェこル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体 ２．５ｇ ピグメントレッド４９ ５．２ ｇポ
リ−Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリーｎ−ヘキ
シルアンモニウムクロライド４．８ｇ メチルセロンルブアセテート ５６０ｇメチル
エチルケトン ２８０ｇ［比較例２］ 実施例２において、感光性樹脂層用塗布液にポリ−Ｎ−
ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリーΩ−ヘキシルアン
モニウムクロライドを添加しないこと以外は実施例２の
方法と同様の操作を行なうことにより、感光性画像形成
材料を製造した。
タエリスリトールテトラアクリレート４３ 、２ｇ ミヒラーズケトン ２．４ｇ２−（
ｏ−クロロフェこル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ルニ量体 ２．５ｇ ピグメントレッド４９ ５．２ ｇポ
リ−Ｎ−ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリーｎ−ヘキ
シルアンモニウムクロライド４．８ｇ メチルセロンルブアセテート ５６０ｇメチル
エチルケトン ２８０ｇ［比較例２］ 実施例２において、感光性樹脂層用塗布液にポリ−Ｎ−
ビニルベンジル−Ｎ、Ｎ、Ｎ−トリーΩ−ヘキシルアン
モニウムクロライドを添加しないこと以外は実施例２の
方法と同様の操作を行なうことにより、感光性画像形成
材料を製造した。
［感光性画像形成材料の評価］
得られた各感光性画像形成材料について、以下に記載す
る色材カブリ試験を行なった。
る色材カブリ試験を行なった。
感光性画像形成材料を相応するマスクと重ね合せ、２ｋ
ｗの超高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から画像露光を行な
った。露光法の感光性画像形成材料を下記組成の現像液
を用いて３５℃の温度で２０〜２５秒間現像処理して、
赤色画像を得た。
ｗの超高圧水銀灯で５０ｃｍの距離から画像露光を行な
った。露光法の感光性画像形成材料を下記組成の現像液
を用いて３５℃の温度で２０〜２５秒間現像処理して、
赤色画像を得た。
戊」Ｌ液
Ｎ ａ ２ Ｃ０３１５ｇ
ブチルセロソルブ ３ｇ水
１ 文得られた赤色画像の非画線部（中間層）
の顔料による汚れの程度を観察し、次のＡ−Ｃの三段階
で評価した。
１ 文得られた赤色画像の非画線部（中間層）
の顔料による汚れの程度を観察し、次のＡ−Ｃの三段階
で評価した。
Ａ：顔料による汚れが殆ど生じていなかった・Ｂ：顔料
による汚れが若干生じていた。
による汚れが若干生じていた。
Ｃ：顔料による汚れがかなり生じていた。
得られた結果を第１表に示す。
以下余白
第１表
顔料カブリ
実施例Ｉ Ａ
比較例ＩＢ
実施例２Ａ
比較例２Ｃ
第１表に示された結果から明らかなように、本発明の感
光性画像形成材料（実施例１および２）を用いて赤色画
像を形成した場合には、非画線部の汚れ（中間層の顔料
カブリ−）が殆ど生じなく、鮮明な画像を得ることがで
きたが、比較のための感光性画像形成材料（比較例１お
よび２）を用いた場合には非画線部に顔料カブリが発生
した。
光性画像形成材料（実施例１および２）を用いて赤色画
像を形成した場合には、非画線部の汚れ（中間層の顔料
カブリ−）が殆ど生じなく、鮮明な画像を得ることがで
きたが、比較のための感光性画像形成材料（比較例１お
よび２）を用いた場合には非画線部に顔料カブリが発生
した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、支持体、中間層および顔料を含有する感光性樹脂層
をこの順に有する感光性記録材料において、該顔料がア
ニオン性基を有する顔料であり、かつ該感光性樹脂層が
カチオン性基を有する化合物を含有していることを特徴
とする感光性記録材料。 ２、上記アニオン性基を有する顔料がカルボン酸基およ
び／またはスルホン酸基を少なくとも一個有する化合物
であり、かつカチオン性基を有する化合物が四級アンモ
ニウム塩ポリマーまたはホスホニウム塩ポリマーである
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の感光性記
録材料。 ３、上記アニオン性基を有する顔料が、下記一般式［Ｉ
］で表わされる化合物であることを特徴とする特許請求
の範囲第２項記載の感光性記録材料。 一般式： ［Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｂ］＾ｎ＾−Ｍ＾ｎ＾＋ ［ I ］（た
だし、Ａは、 ▲数式、化学式、表等があります▼あるいは▲数式、化
学式、表等があります▼であり、 ここで、Ｘ、ＹおよびＺは、それぞれカルボン酸基、ス
ルホン酸基、炭素原子数１乃至１２のアルキル基、炭素
原子数１乃至１２のアルコキシル基、ニトロ基、ハロゲ
ン原子または水素原子であり、 Ｂは、 ▲数式、化学式、表等があります▼あるいは▲数式、化
学式、表等があります▼であり、 ここで、ＶおよびＷはそれぞれカルボン酸基、スルホン
酸基または水素原子であり；ＤおよびＥはそれぞれ水素
原子または水酸基であって、かつ少なくとも一方が水酸
基であり、 そして、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ＶおよびＷのうち少なくとも一つ
はカルボン酸基またはスルホン酸基であり、 Ｍは金属原子であり、 ｎは１乃至５の整数である） ４、上記カチオン性基を有する化合物が下記一般式［I
I］で表わされるポリマーであることを特徴とする特許
請求の範囲第２項記載の感光性記録材料。 一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼［IIａ］▲数式、化
学式、表等があります▼［IIｂ］Ｇ＾− ［II］（ただ
し、Ｕはエチレン性不飽和モノマーであり；Ｌは炭素原
子数１乃至１２の二価の基であり；Ｑは窒素原子あるい
は燐原子であり；Ｒ＾１は水素原子あるいは炭素原子数
１乃至６のアルキル基であり；Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ
＾４はそれぞれ炭素原子数１乃至１２のアルキル基ある
いは炭素原子数７乃至２０のアラルキル基であり；Ｇ＾
−は一価のアニオンであり；ｘは０乃至９０モル％の範
囲の数値であり、ｙは１０乃至１００モル％の範囲の数
値である） ５、上記顔料が感光性樹脂層の中に感光性樹脂層の固形
成分に対して１〜３０重量％の範囲で含有されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の感光性記録
材料。 ６、上記カチオン性基を有する化合物が顔料に対して重
量比で１：９９〜７０：３０の範囲で含有されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の感光性記録
材料。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60207979A JPH06103391B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 感光性記録材料 |
| DE3632135A DE3632135C2 (de) | 1985-09-20 | 1986-09-22 | Photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| US07/404,068 US4920036A (en) | 1985-09-20 | 1989-09-07 | Photosensitive recording element having pigmented photopolymer layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60207979A JPH06103391B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 感光性記録材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267529A true JPS6267529A (ja) | 1987-03-27 |
| JPH06103391B2 JPH06103391B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=16548669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60207979A Expired - Fee Related JPH06103391B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 感光性記録材料 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4920036A (ja) |
| JP (1) | JPH06103391B2 (ja) |
| DE (1) | DE3632135C2 (ja) |
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| US5368982A (en) * | 1991-07-22 | 1994-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming process |
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|---|---|
| DE3632135C2 (de) | 1998-07-02 |
| DE3632135A1 (de) | 1987-04-02 |
| US4920036A (en) | 1990-04-24 |
| JPH06103391B2 (ja) | 1994-12-14 |
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|---|---|---|---|
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