JPS6267546A - フレキシブルマスクの製造方法 - Google Patents
フレキシブルマスクの製造方法Info
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- JPS6267546A JPS6267546A JP60207366A JP20736685A JPS6267546A JP S6267546 A JPS6267546 A JP S6267546A JP 60207366 A JP60207366 A JP 60207366A JP 20736685 A JP20736685 A JP 20736685A JP S6267546 A JPS6267546 A JP S6267546A
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- flexible mask
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- mask
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/60—Substrates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は曲面型サーマルヘッド等の曲面を有するハイブ
リット素子に対するホトリソエツチングを行う際に用い
るマスクの製造が専荀に行えるようにしたフレキシブル
マスクの製造方法に関する。
リット素子に対するホトリソエツチングを行う際に用い
るマスクの製造が専荀に行えるようにしたフレキシブル
マスクの製造方法に関する。
Ｃ従来の技術〕
従来より、絶縁基板上へ導体パターン等を形成するに際
しては、ホトリソエツチング技術が用いられている。こ
の技術を用いてプリント基板等を作る際には、まず、絶
縁基板上に電極等を蒸着あるいはスパッタ法で形成のの
ち、レジストを塗布し、所定のパターン（暗部と透明部
より成る）を透明板上に形成したマスクを密着させ、こ
のマスクを介して光を基板面に照射してパターンを形成
している。
しては、ホトリソエツチング技術が用いられている。こ
の技術を用いてプリント基板等を作る際には、まず、絶
縁基板上に電極等を蒸着あるいはスパッタ法で形成のの
ち、レジストを塗布し、所定のパターン（暗部と透明部
より成る）を透明板上に形成したマスクを密着させ、こ
のマスクを介して光を基板面に照射してパターンを形成
している。
この場合、マスクは平板であって可ｊＱ性がないため、
曲面を存する基板上にパターンを形成しようとすると、
曲面部とマスクの密着度が悪いため、パターンを高精一
度に作ることができない。
曲面を存する基板上にパターンを形成しようとすると、
曲面部とマスクの密着度が悪いため、パターンを高精一
度に作ることができない。
この不具合を解消するためにマスクをフレキシブルにし
た特開昭５９−２３０７７０号が提案されている。
た特開昭５９−２３０７７０号が提案されている。
しかし、従来のフレキシブルマスクによれば、その製造
方法が容易でないため、実用化力く難しいという問題が
ある。
方法が容易でないため、実用化力く難しいという問題が
ある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は上記
に鑑みてなされたものであり、フレキシブルマスクの製
造を簡単にするため、透明フィルムに金属板を貼付（ま
たは張力をかけてスパッタ装置或いは蒸着装置内に透明
フィルムのみをセットし、１，０００人〜２，０００人
程度の厚みに着膜）し、この金属膜面上にレジストを塗
布し、ついでレジストパターンを形成ののちエンチング
を施すようにしたフレキシブルマスクの製造方法を提供
するものである。
に鑑みてなされたものであり、フレキシブルマスクの製
造を簡単にするため、透明フィルムに金属板を貼付（ま
たは張力をかけてスパッタ装置或いは蒸着装置内に透明
フィルムのみをセットし、１，０００人〜２，０００人
程度の厚みに着膜）し、この金属膜面上にレジストを塗
布し、ついでレジストパターンを形成ののちエンチング
を施すようにしたフレキシブルマスクの製造方法を提供
するものである。
以下、本発明によるフレキシブルマスクの製造方法を詳
細に説明する。
細に説明する。
本発明におけるフレキシブルマスクの製造工程は、大別
して次の４工程より成り立っている。
して次の４工程より成り立っている。
■ 透明フィルム上に金属膜を形成する。
ポリエチレン・テレフタレート（ＰＥＩ）による可撓性
の透明フィルム（透明膜）上に、高周波マグネトロンス
パッタ装置を用いてクローム（Ｃｒ）を１ 、５００人
の厚みに着膜する。ＰＥＴフィルムをスパッタ装置にセ
ットするに際しては、張力をかけながら行１う。尚、Ｓ
ｕＳまたはＡ１などの平滑な面を有する金属板にＰＥＴ
フィルムを貼付してスパッタ装置または蒸着装置内にセ
ットし、貼付けがなされていない面に、Ｃｒ膜を形成す
るようにしても良い。
の透明フィルム（透明膜）上に、高周波マグネトロンス
パッタ装置を用いてクローム（Ｃｒ）を１ 、５００人
の厚みに着膜する。ＰＥＴフィルムをスパッタ装置にセ
ットするに際しては、張力をかけながら行１う。尚、Ｓ
ｕＳまたはＡ１などの平滑な面を有する金属板にＰＥＴ
フィルムを貼付してスパッタ装置または蒸着装置内にセ
ットし、貼付けがなされていない面に、Ｃｒ膜を形成す
るようにしても良い。
■ 金属膜（Ｃｒ、膜）上にレジストを形成する。
■の工程によって形成されたＣｒ膜上にレジストを塗布
する。
する。
■ 次に、■によるレジスト面に対し、平面な形状のガ
ラスホトマスク （原版）をアライメントして露光（又
は、パターンゼネレータによるフラッシュ露光）を行い
、更に現像を行うことにより、原版と同一のレジストパ
ターンをＣ１膜上に形成する。
ラスホトマスク （原版）をアライメントして露光（又
は、パターンゼネレータによるフラッシュ露光）を行い
、更に現像を行うことにより、原版と同一のレジストパ
ターンをＣ１膜上に形成する。
■ 透明フィルム上に金属膜によるパターンを形成する
。
。
前記■による工程によってレジスタパターンが形成され
たＣ、、膜を、硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液ニ
よってエツチングしたのち・不要なレジストを剥離する
ことによって、ＰＥＴフィルム上に０１パターンを形成
する。
たＣ、、膜を、硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液ニ
よってエツチングしたのち・不要なレジストを剥離する
ことによって、ＰＥＴフィルム上に０１パターンを形成
する。
以上によってフレキシブルマスクが完成し、このように
して作られたフレキシブルマスクは表面性に優れ、繰り
返し使用してもＣ，膜に／Ｓガレ等を生じさせることが
ない。
して作られたフレキシブルマスクは表面性に優れ、繰り
返し使用してもＣ，膜に／Ｓガレ等を生じさせることが
ない。
以上説明した通り、本発明のフレキシブルマスクの製造
方法によれば、フレキシブルマスクを簡単に製造できる
とともに、繰り返し使用が可能となるため、実用性に優
れたフレキシブルマスクを得ることができる。
方法によれば、フレキシブルマスクを簡単に製造できる
とともに、繰り返し使用が可能となるため、実用性に優
れたフレキシブルマスクを得ることができる。
特許出願人 富士ゼロ・７クス株式会社代理人 弁理
士 松 原 伸 ２ 同 同 村木清司 同 同 上島淳− 同 同 酒井宏明
士 松 原 伸 ２ 同 同 村木清司 同 同 上島淳− 同 同 酒井宏明
Claims (3)
- （１）可撓性の透明フィルム上にスパッタまたは蒸着に
よって金属膜を形成し、この金属膜上の所望のレジスト
パターンを形成ののち、エッチング及びレジストの剥離
処理を行うことを特徴とするフレキシブルマスクの製造
方法。 - （２）前記透明フィルムは、ポリエチレン・テレフタレ
ート（ＰＥＴ）であることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のフレキシブルマスクの製造方法。 - （３）前記金属膜の材料はクローム（Ｃｒ）であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフレキシブル
マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60207366A JPS6267546A (ja) | 1985-09-19 | 1985-09-19 | フレキシブルマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60207366A JPS6267546A (ja) | 1985-09-19 | 1985-09-19 | フレキシブルマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267546A true JPS6267546A (ja) | 1987-03-27 |
Family
ID=16538539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60207366A Pending JPS6267546A (ja) | 1985-09-19 | 1985-09-19 | フレキシブルマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6267546A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018535446A (ja) * | 2016-01-27 | 2018-11-29 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法およびこれを用いたパターンの形成方法 |
| US10969686B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
| US11029596B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-06-08 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
-
1985
- 1985-09-19 JP JP60207366A patent/JPS6267546A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018535446A (ja) * | 2016-01-27 | 2018-11-29 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルムマスク、その製造方法およびこれを用いたパターンの形成方法 |
| US10969677B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask |
| US10969686B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-04-06 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
| US11029596B2 (en) | 2016-01-27 | 2021-06-08 | Lg Chem, Ltd. | Film mask, method for manufacturing same, and method for forming pattern using film mask and pattern formed thereby |
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