JPS6379958A - 蒸着用マスクとその製造法 - Google Patents
蒸着用マスクとその製造法Info
- Publication number
- JPS6379958A JPS6379958A JP61224415A JP22441586A JPS6379958A JP S6379958 A JPS6379958 A JP S6379958A JP 61224415 A JP61224415 A JP 61224415A JP 22441586 A JP22441586 A JP 22441586A JP S6379958 A JPS6379958 A JP S6379958A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- metal plate
- mask
- deposition mask
- film resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は開口部にテーバを有し、がっ、大面積化が容易
である蒸着用マスクとその製造法に関するものである。
である蒸着用マスクとその製造法に関するものである。
従来の技術
ここで言う蒸着用マスクとは、基板上の所定の部分のみ
に金属などからなる蒸着膜を形成するために用いる、基
板と蒸発源との間に置く平板状のマスクのことである。
に金属などからなる蒸着膜を形成するために用いる、基
板と蒸発源との間に置く平板状のマスクのことである。
この蒸着用マスクの製造法として、従来より行われてい
るのは、主にエツチング法である。
るのは、主にエツチング法である。
エツチング法は、金属板上に耐食性皮膜をフォトグラフ
ィー的な手法で所定のパターンにて形成し、金属板を腐
食させる化学薬品に接触させることにより、耐食性皮膜
のない部分に穴を開ける方法である。片方の面から腐食
させる方法と両面から腐食させる方法とがある。
ィー的な手法で所定のパターンにて形成し、金属板を腐
食させる化学薬品に接触させることにより、耐食性皮膜
のない部分に穴を開ける方法である。片方の面から腐食
させる方法と両面から腐食させる方法とがある。
発明が解決しようとする問題点
基板上に蒸着膜をｌ０ＸＩＯμ耐程度の矩形パターンで
形成したい場合がある。このとき蒸着用マスクとしては
勿論同じ大きさの微細な開口の穴を持ったものが必要と
なる。しかしながら、エツチング法では、１０μｍのパ
ターンを得るには、基板の厚さを少なくとも１０μｍ以
下にしなければならず、製造工程上および使用する上に
おいて取り扱いが繁雑になる。
形成したい場合がある。このとき蒸着用マスクとしては
勿論同じ大きさの微細な開口の穴を持ったものが必要と
なる。しかしながら、エツチング法では、１０μｍのパ
ターンを得るには、基板の厚さを少なくとも１０μｍ以
下にしなければならず、製造工程上および使用する上に
おいて取り扱いが繁雑になる。
また、基板上にある材料を島状に蒸着し、さらに他の材
料を島状領域内に積層したい場合があるが、このときに
は、第４図（ａｌに示すように蒸着マスク９の開口部が
テーパになっているものの方が（ｂｌのようにテーパに
なっていないものの方より蒸発源１０の位置によって蒸
着角の差をつけ易いので有用である。しかしながら、エ
ツチング法によっては満足のゆくテーパを得ることはで
きない。
料を島状領域内に積層したい場合があるが、このときに
は、第４図（ａｌに示すように蒸着マスク９の開口部が
テーパになっているものの方が（ｂｌのようにテーパに
なっていないものの方より蒸発源１０の位置によって蒸
着角の差をつけ易いので有用である。しかしながら、エ
ツチング法によっては満足のゆくテーパを得ることはで
きない。
問題点を解決するための手段
前記問題点を解決するために本発明の蒸着用マスクとそ
の製造法は、所定の開口部を有する金属板の一方の面に
ポジタイプのフィルムレジストを貼り付け、その反対面
側から露光し、その後、現像、加熱硬化の工程を経るも
のである。
の製造法は、所定の開口部を有する金属板の一方の面に
ポジタイプのフィルムレジストを貼り付け、その反対面
側から露光し、その後、現像、加熱硬化の工程を経るも
のである。
作用
本発明は前記した構成をなすが、まず金属板をエツチン
グ法やレーザーによって加工し、所定のパターンに穴開
けする。その後、ポジタイプのフィルムレジストを金属
板の一方の面に貼り付け、金属板側から露光し、その後
、現像、加熱硬化する。この製法により開口部にテーパ
を有するマスクを得ることができる。さらに、レジスト
側に金属蒸着することにより強度を持たせることも可能
である。
グ法やレーザーによって加工し、所定のパターンに穴開
けする。その後、ポジタイプのフィルムレジストを金属
板の一方の面に貼り付け、金属板側から露光し、その後
、現像、加熱硬化する。この製法により開口部にテーパ
を有するマスクを得ることができる。さらに、レジスト
側に金属蒸着することにより強度を持たせることも可能
である。
実施例
以下、本発明の代表的な一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
実施例１
第１図（ａｌは本発明の実施例の蒸着用マスクの構成断
面図、第１図（ト））は平面図を示す図である。第１図
（ａｌにおいて１は金属板、２はポジタイプのフィルム
レジスト、３は金属膜であり、第１図（ａｌおよび（ｂ
ｌにおいて、４は開口部を示す。マスクの製造工程を第
２図に示す。ｔａ＞金属板１にレーザー加工により所望
のパターンの穴を開ける。（ｂｌ金属板１にポジタイプ
のフィルムレジスト２を加熱圧着する。（Ｃｌフィルム
レジスト２の下に、反射板５を置き、金属板側から露光
する。この際、露光時間は十分に長（する。（ｄｌ現像
し、加熱硬化させる。
面図、第１図（ト））は平面図を示す図である。第１図
（ａｌにおいて１は金属板、２はポジタイプのフィルム
レジスト、３は金属膜であり、第１図（ａｌおよび（ｂ
ｌにおいて、４は開口部を示す。マスクの製造工程を第
２図に示す。ｔａ＞金属板１にレーザー加工により所望
のパターンの穴を開ける。（ｂｌ金属板１にポジタイプ
のフィルムレジスト２を加熱圧着する。（Ｃｌフィルム
レジスト２の下に、反射板５を置き、金属板側から露光
する。この際、露光時間は十分に長（する。（ｄｌ現像
し、加熱硬化させる。
（Ｃｌフィルムレジスト２の上に金属膜３を蒸着形成す
る。金属板１はニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）。
る。金属板１はニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）。
銅（Ｃｕ）、ステンレス、アルミニウム（Ａｊり等、金
属膜３はニッケル（Ｎｉ）、クロム（ＣｒＬアルミニウ
ム（Ａβ）等からそれぞれ形成されている。以上のよう
な製造法により開口部に段差状のテーパを有する蒸着用
マスクを得ることが可能である。
属膜３はニッケル（Ｎｉ）、クロム（ＣｒＬアルミニウ
ム（Ａβ）等からそれぞれ形成されている。以上のよう
な製造法により開口部に段差状のテーパを有する蒸着用
マスクを得ることが可能である。
実施例２
本発明の実施例はエツチング法を用いて金属板を加工す
る製造法である。マスクの構成は、第１図に示した実施
例１の構成と同様である。第３図は製造工程を示す。第
３図（ａｌ金属板１に感光剤６を塗布する。第３図中）
感光剤６の上に、所望のパターンが形成されたガラス乾
板７を置き、露光する。第３図（Ｃ１現像し、加熱硬化
させる。第３図（ｄｌ金属板１をエツチング液（主に王
水）に接触させて感光剤６のない部分に穴を開ける。第
３図（８）感光剤６を剥離させる。以下、第２図の（ｂ
ｌから（ｅ）の工程を経てマスクを製作する。金属板１
および金属膜３の材質は実施例１と同様のものが可能で
ある。
る製造法である。マスクの構成は、第１図に示した実施
例１の構成と同様である。第３図は製造工程を示す。第
３図（ａｌ金属板１に感光剤６を塗布する。第３図中）
感光剤６の上に、所望のパターンが形成されたガラス乾
板７を置き、露光する。第３図（Ｃ１現像し、加熱硬化
させる。第３図（ｄｌ金属板１をエツチング液（主に王
水）に接触させて感光剤６のない部分に穴を開ける。第
３図（８）感光剤６を剥離させる。以下、第２図の（ｂ
ｌから（ｅ）の工程を経てマスクを製作する。金属板１
および金属膜３の材質は実施例１と同様のものが可能で
ある。
実施例１および２においては金属膜３を蒸着したが、こ
の工程を省略してもマスクとして使用できる。また、金
属板１および金属膜３の少なくとも一方が磁性金属であ
れば、このマスクを蒸着の際使用するとき、磁石によっ
て固定することができる。
の工程を省略してもマスクとして使用できる。また、金
属板１および金属膜３の少なくとも一方が磁性金属であ
れば、このマスクを蒸着の際使用するとき、磁石によっ
て固定することができる。
発明の効果
以上のように本発明の蒸着用マスクは、あらかじめエツ
チング法またはレーザー加工により穴開けした金属板に
ポジタイプのフィルムレジストを加熱圧着し、金属板側
から露光し、その後、現像。
チング法またはレーザー加工により穴開けした金属板に
ポジタイプのフィルムレジストを加熱圧着し、金属板側
から露光し、その後、現像。
加熱硬化過程を経て、先に加工した穴に重なる位置のフ
ィルムレジストに加工精度の良い開口部を得ることがで
きる。この製法により、たとえば、面積がｌ０ＸＩＯμ
ｄの開口部に段差状のテーバを設けた蒸着マスクを得る
ことが可能である。
ィルムレジストに加工精度の良い開口部を得ることがで
きる。この製法により、たとえば、面積がｌ０ＸＩＯμ
ｄの開口部に段差状のテーバを設けた蒸着マスクを得る
ことが可能である。
第１図＋ａｌは本発明の一実施例１および一実施例用マ
スクの製造工程図、第３図（ａｌ 、 （ｂｌ 、 （
ｃ） 、 （ｄｌ 。 （ｅｌは本発明による一実施例１の蒸着用マスクの製造
工程図、第４図（ａ）は本発明の蒸着用マスクの使用状
態の説明図、第４図山）は従来例の蒸着用マスクの使用
状態の説明図である。 １・・・・・・金属板、２・・・・・・フィルムレジス
ト、３・・・・・・金属膜、４・・・・・・開口部、５
・・・・・・反射板、６・・・・・・感光剤、７・・・
・・・ガラス乾板、８・・・・・・基板、９・・・・・
・蒸着マスク、１０・・・・・・蒸発源。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名／ −一一
盆Ａ版 ２−フィルムレジスト ３− 金属膜 第１図 ４−間Ｔ３部 第２図 ５−反射板 （ｄ−） ［面コ５ジ５ 第３図 ６−お光音Ｉ ７−六゛ラス契ｌ又 乙 （ｅ）［…ｍ 第４図
スクの製造工程図、第３図（ａｌ 、 （ｂｌ 、 （
ｃ） 、 （ｄｌ 。 （ｅｌは本発明による一実施例１の蒸着用マスクの製造
工程図、第４図（ａ）は本発明の蒸着用マスクの使用状
態の説明図、第４図山）は従来例の蒸着用マスクの使用
状態の説明図である。 １・・・・・・金属板、２・・・・・・フィルムレジス
ト、３・・・・・・金属膜、４・・・・・・開口部、５
・・・・・・反射板、６・・・・・・感光剤、７・・・
・・・ガラス乾板、８・・・・・・基板、９・・・・・
・蒸着マスク、１０・・・・・・蒸発源。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名／ −一一
盆Ａ版 ２−フィルムレジスト ３− 金属膜 第１図 ４−間Ｔ３部 第２図 ５−反射板 （ｄ−） ［面コ５ジ５ 第３図 ６−お光音Ｉ ７−六゛ラス契ｌ又 乙 （ｅ）［…ｍ 第４図
Claims (4)
- （１）所定の開口部を有する金属板の一方の面にポジタ
イプのフィルムレジストを密着させた構造を有すること
を特徴とする蒸着用マスク。 - （２）金属板もしくはフィルムレジストの少なくとも一
方に金属層が蒸着形成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第（１）項記載の蒸着用マスク。 - （３）金属板がニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、銅
（Ｃｕ）、ステンレス、アルミニウム（Ａｌ）の何れか
からなることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項ま
たは第（２）項の何れかに記載の蒸着用マスク。 - （４）所定の開口部を有する金属板の一方の面にポジタ
イプのフィルムレジストを貼り付け、その反対面側から
露光し、その後、現像、加熱硬化の工程を経ることを特
徴とする蒸着用マスクの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61224415A JPS6379958A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 蒸着用マスクとその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61224415A JPS6379958A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 蒸着用マスクとその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6379958A true JPS6379958A (ja) | 1988-04-09 |
Family
ID=16813415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61224415A Pending JPS6379958A (ja) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | 蒸着用マスクとその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6379958A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6430354U (ja) * | 1987-08-18 | 1989-02-23 | ||
| JP2014201819A (ja) * | 2013-04-09 | 2014-10-27 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
| US20170107605A1 (en) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask and method of manufacturing the mask |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP61224415A patent/JPS6379958A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6430354U (ja) * | 1987-08-18 | 1989-02-23 | ||
| JP2014201819A (ja) * | 2013-04-09 | 2014-10-27 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
| US20170107605A1 (en) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask and method of manufacturing the mask |
| KR20170045439A (ko) * | 2015-10-16 | 2017-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크의 제조 방법 |
| US10287669B2 (en) * | 2015-10-16 | 2019-05-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask and method of manufacturing the mask |
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