JPS6269165A - 自動化学分析装置における洗浄機構 - Google Patents
自動化学分析装置における洗浄機構Info
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- JPS6269165A JPS6269165A JP20884385A JP20884385A JPS6269165A JP S6269165 A JPS6269165 A JP S6269165A JP 20884385 A JP20884385 A JP 20884385A JP 20884385 A JP20884385 A JP 20884385A JP S6269165 A JPS6269165 A JP S6269165A
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- Japan
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- cleaning
- prism
- cleaning mechanism
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は自動化学分析装置における測光用プリズム等を
洗浄する洗浄機構に関するものである。
洗浄する洗浄機構に関するものである。
従来より、反応管中の試料を恒温槽内で直接測光する方
法が行なわれている。この方法によれば、反応管内の試
料を吸引してフローセル内で測光を行なうフローセル方
式に比べ、温度管理が容易であり、クロスコンタミの弊
害も少ないからである。
法が行なわれている。この方法によれば、反応管内の試
料を吸引してフローセル内で測光を行なうフローセル方
式に比べ、温度管理が容易であり、クロスコンタミの弊
害も少ないからである。
ここで、従来の直接測光方式による自動化学分析装置の
要部を第3図を参照して説明する。同図に示すものは、
同一恒温槽内において反応ラインが複数、例えば3本設
けられた自動化学分析り置の測光部の断面図である。
要部を第3図を参照して説明する。同図に示すものは、
同一恒温槽内において反応ラインが複数、例えば3本設
けられた自動化学分析り置の測光部の断面図である。
恒温槽30内には反応管の搬送方向と並列に第1、第2
.第3の反応ライン31.32.33が設けられている
。そして、前記第1.第2.第3の反応ライン31,3
2.33を挟んで測光用プリズム20の光反射膜21.
21がそれぞれ対向配置されている。また、前記恒温槽
30の下部であって、前記一対の測光用プリズム光反射
膜21゜21との当接面には各反応ライン毎に光の入射
部30a及び出射部30bが設けられ、入射部30aに
は光源34が配置されている。このように構成された装
置においては各反応ライン毎に光源34からの光を光路
変換して反応管に導びき、その透過光を再度光路変換し
て出射部30bに導びくことができる。従って1つの反
応ラインにおける直接測光が他の反応ラインに影響する
ことなく行なえ、同一恒温槽内において複数の反応ライ
ンについて直接測光を行なうことができる。また、各反
応ラインにおいて測定温度条件は同一となり、複数の恒
温槽を用いる場合の複雑な温度制御も不要となる。尚、
プリズム20はガラス製、反射膜21は例えばアルミニ
ウム製である。
.第3の反応ライン31.32.33が設けられている
。そして、前記第1.第2.第3の反応ライン31,3
2.33を挟んで測光用プリズム20の光反射膜21.
21がそれぞれ対向配置されている。また、前記恒温槽
30の下部であって、前記一対の測光用プリズム光反射
膜21゜21との当接面には各反応ライン毎に光の入射
部30a及び出射部30bが設けられ、入射部30aに
は光源34が配置されている。このように構成された装
置においては各反応ライン毎に光源34からの光を光路
変換して反応管に導びき、その透過光を再度光路変換し
て出射部30bに導びくことができる。従って1つの反
応ラインにおける直接測光が他の反応ラインに影響する
ことなく行なえ、同一恒温槽内において複数の反応ライ
ンについて直接測光を行なうことができる。また、各反
応ラインにおいて測定温度条件は同一となり、複数の恒
温槽を用いる場合の複雑な温度制御も不要となる。尚、
プリズム20はガラス製、反射膜21は例えばアルミニ
ウム製である。
ところで、前記測光用プリズム20は長期使用により表
面が汚染し、光量の低下を招いたり、表面に付着する気
泡等によりデータのバラツキを生ずるという問題があっ
た。また、プリズム底壁面には恒温槽内の液中に含まれ
ている微生物等による汚染が生じ光路を遮るためデータ
に悪影響を与えるという問題もあった。
面が汚染し、光量の低下を招いたり、表面に付着する気
泡等によりデータのバラツキを生ずるという問題があっ
た。また、プリズム底壁面には恒温槽内の液中に含まれ
ている微生物等による汚染が生じ光路を遮るためデータ
に悪影響を与えるという問題もあった。
本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、直接測
光方式を用いた自動化学分析装置における測光部の汚染
個所を容易に汚染できる洗浄機構を提供することを目的
とするものである。
光方式を用いた自動化学分析装置における測光部の汚染
個所を容易に汚染できる洗浄機構を提供することを目的
とするものである。
本発明は前記目的を達成するために、先端及び先端近傍
の周面に洗浄部材が設けられた洗浄装置を1本又は複数
本所定間隔を設けて取付けた支持部材を反応ラインの移
動機構部に着脱自在に設けたことを特徴とするものであ
る。
の周面に洗浄部材が設けられた洗浄装置を1本又は複数
本所定間隔を設けて取付けた支持部材を反応ラインの移
動機構部に着脱自在に設けたことを特徴とするものであ
る。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
第1図は本発明の洗浄機構を自動化学分析装置に適用し
た場合の要部断面図である。同図において1は洗浄機構
であり、板状の支持部材2と、この支持部材の下面に所
定間隔をσt1けて突出する如く取付けられた複数本の
洗浄装置3を有している。
た場合の要部断面図である。同図において1は洗浄機構
であり、板状の支持部材2と、この支持部材の下面に所
定間隔をσt1けて突出する如く取付けられた複数本の
洗浄装置3を有している。
洗浄装置3はパイプ状の本体3aと、このパイプ3aの
突出先端近傍の周囲に取付けられた第1のブラシ3bと
、突出先端に取付けられた第2のブラシ3Cとから成る
。前記バイブ3aは例えば薄肉のステンレス材等からな
る。第1のブラシ3bは例えばポリウレタン、クロロブ
1/ン5 シリ1ン等の樹脂フオームからなり、第2の
ブラシは例えばナイロン糸又は綿毛からなり、それぞれ
バイブ3aに接着又はカシメ等により取付げられている
。
突出先端近傍の周囲に取付けられた第1のブラシ3bと
、突出先端に取付けられた第2のブラシ3Cとから成る
。前記バイブ3aは例えば薄肉のステンレス材等からな
る。第1のブラシ3bは例えばポリウレタン、クロロブ
1/ン5 シリ1ン等の樹脂フオームからなり、第2の
ブラシは例えばナイロン糸又は綿毛からなり、それぞれ
バイブ3aに接着又はカシメ等により取付げられている
。
尚、第1と第2のブラシは同一材質のものを用いてもよ
い。また、平板状のものであってもよい。
い。また、平板状のものであってもよい。
ところで前記支持部材2は同図に示すように恒温槽側壁
30上に掛は渡される長さをもち、その一端が例えばこ
の恒温槽側壁30の突出ガイド部30aによってガイド
されて水平方向に移動するチェーンブロック5に固定さ
れた移動用支持体6にネジ4によって固定されている。
30上に掛は渡される長さをもち、その一端が例えばこ
の恒温槽側壁30の突出ガイド部30aによってガイド
されて水平方向に移動するチェーンブロック5に固定さ
れた移動用支持体6にネジ4によって固定されている。
移動用支持体には反応管も支持されて反応ラインを構成
し、水平方向に移動できるようになっている。また、支
持部材2の他端は恒温槽の他方の側壁上部にガイドされ
るようになっている。そして、このように取付けた時に
各洗浄装置3の下方が測光用プリズム20の側壁面に囲
まれた領域に位置付けられるように設計されている。即
ち、先端部のブラシ3cがプリズム20の底面に接し、
周囲のブラシ3bが側壁面に接することになる。この図
では洗浄装置3を4本設けた場合を示しているが、更に
両端に1本又は2本設けるようにしてもよい。
し、水平方向に移動できるようになっている。また、支
持部材2の他端は恒温槽の他方の側壁上部にガイドされ
るようになっている。そして、このように取付けた時に
各洗浄装置3の下方が測光用プリズム20の側壁面に囲
まれた領域に位置付けられるように設計されている。即
ち、先端部のブラシ3cがプリズム20の底面に接し、
周囲のブラシ3bが側壁面に接することになる。この図
では洗浄装置3を4本設けた場合を示しているが、更に
両端に1本又は2本設けるようにしてもよい。
以上構成の装置の作用を説明すると、反応ラインを構成
する複数列の反応管の間に前記洗浄機構1が取付けられ
ているので、反応ラインの移動によって洗浄機構1が移
動し、第1図に示すようなプリズムが設置された位置を
通過することになるこのとき、洗浄装置の第1のブラシ
3bがプリズム側壁面をブラッシングし、第2のブラシ
3Cが底面をブラッシングしながら通過するので恒温槽
内の液体との関係で両壁部が洗浄されることになる。こ
のような洗浄は反応ラインを移動する毎に(例えば1周
移動で1回)行な十)れるので測光用プリズムの壁面及
び底面の汚染を防止でき、光Vの低下やデーター・の悪
影響が生ずることはない。
する複数列の反応管の間に前記洗浄機構1が取付けられ
ているので、反応ラインの移動によって洗浄機構1が移
動し、第1図に示すようなプリズムが設置された位置を
通過することになるこのとき、洗浄装置の第1のブラシ
3bがプリズム側壁面をブラッシングし、第2のブラシ
3Cが底面をブラッシングしながら通過するので恒温槽
内の液体との関係で両壁部が洗浄されることになる。こ
のような洗浄は反応ラインを移動する毎に(例えば1周
移動で1回)行な十)れるので測光用プリズムの壁面及
び底面の汚染を防止でき、光Vの低下やデーター・の悪
影響が生ずることはない。
本発明は前記実施例に限定されず、種々の変形実施が可
能である。例えば、前記実施例では複数の測光プリズム
が1列に等間隔に設けられている場合の洗浄機構の構成
を示したが、単一のプリズムが設けられている場合は、
これを挟むように2個の洗浄装置を設ければよい。
能である。例えば、前記実施例では複数の測光プリズム
が1列に等間隔に設けられている場合の洗浄機構の構成
を示したが、単一のプリズムが設けられている場合は、
これを挟むように2個の洗浄装置を設ければよい。
また、反応ラインの移動方向に交差するように1個の洗
浄機構を設けるだけでなく、所定間陥を開けて複数個設
けてもよい。
浄機構を設けるだけでなく、所定間陥を開けて複数個設
けてもよい。
次に第2図を用いて本発明の他の通用例を説明する。こ
れは、前記洗浄機構1がネジ4を介し°C着脱自在に取
付けられているので、第1図の状態からネジ4を介して
洗浄機構1を恒う昌槽上から取り外し、測光部以外の他
の位置における恒温槽底壁面30dにネジ4を介して第
2図に示すように洗浄装置3が上方に突出するようにし
て取付ける。
れは、前記洗浄機構1がネジ4を介し°C着脱自在に取
付けられているので、第1図の状態からネジ4を介して
洗浄機構1を恒う昌槽上から取り外し、測光部以外の他
の位置における恒温槽底壁面30dにネジ4を介して第
2図に示すように洗浄装置3が上方に突出するようにし
て取付ける。
このようにすれば移動する支持部材7によって支持され
た複数の反応管8が、取付けられた洗浄機構部を通過す
る際にその外壁面がブラシ3bによって洗浄されること
になる。この結果反応管の’1Fれを防止して良好な測
光を行なうことができる。
た複数の反応管8が、取付けられた洗浄機構部を通過す
る際にその外壁面がブラシ3bによって洗浄されること
になる。この結果反応管の’1Fれを防止して良好な測
光を行なうことができる。
以上詳述したような本発明によれば、直接測光方式のプ
リズムを自動的に洗浄できる機構を提供することができ
るので、従来作業員が行っていた作業を自動化できると
共に常に汚染等の無い状態での測光が行えるから良好な
データの収集を行なえるというfIれた効果を奏する。
リズムを自動的に洗浄できる機構を提供することができ
るので、従来作業員が行っていた作業を自動化できると
共に常に汚染等の無い状態での測光が行えるから良好な
データの収集を行なえるというfIれた効果を奏する。
また、洗浄機構を着脱自在としたので、反応管の通過経
路に向けて設置することにより反応管の壁面の洗浄をも
行なえることになり汎用性に優れた機構を提供すること
ができる。
路に向けて設置することにより反応管の壁面の洗浄をも
行なえることになり汎用性に優れた機構を提供すること
ができる。
第1図は本発明の洗浄機構を自動化学分析装置に適用し
た場合の要部断面図、第2図は本発明の他の実施例を示
す要部断面図、第3図は従来の直接測光方式の自動化学
分析装置の要部断面図である。 1・・・洗浄機構、2・・・支持部材、3・・・洗浄装
置、3a・・・支持パイプ、3b、3c・・・ブラシ、
8・・・反応管、20・・・プリズム、30・・・恒温
槽。 代理人 弁理士 則 近 憲 信 置 大胡典夫
た場合の要部断面図、第2図は本発明の他の実施例を示
す要部断面図、第3図は従来の直接測光方式の自動化学
分析装置の要部断面図である。 1・・・洗浄機構、2・・・支持部材、3・・・洗浄装
置、3a・・・支持パイプ、3b、3c・・・ブラシ、
8・・・反応管、20・・・プリズム、30・・・恒温
槽。 代理人 弁理士 則 近 憲 信 置 大胡典夫
Claims (1)
- 自動化学分析装置における測光装置や反応等の洗浄を行
なうものであって、支持部材と、支持部材の底面に突出
形成され、先端部と、先端部近傍の周面に洗浄部材が取
付けられた洗浄装置とからなり、測光装置を通過する位
置又は反応管が通過する位置に洗浄装置が位置付けられ
るように配置されることを特徴とする洗浄機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20884385A JPS6269165A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 自動化学分析装置における洗浄機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20884385A JPS6269165A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 自動化学分析装置における洗浄機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6269165A true JPS6269165A (ja) | 1987-03-30 |
Family
ID=16563020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20884385A Pending JPS6269165A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 自動化学分析装置における洗浄機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6269165A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01171365U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-12-05 | ||
| JPH0297665U (ja) * | 1989-01-20 | 1990-08-03 | ||
| JP2010185797A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Toshiba Corp | 自動分析装置 |
| JP2014085304A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Toshiba Corp | 自動分析装置 |
| US20200271568A1 (en) * | 2015-04-09 | 2020-08-27 | Gen-Probe Incorporated | Cleaning member for use in a sample testing system |
| WO2025239257A1 (ja) * | 2024-05-15 | 2025-11-20 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 粉体供給装置および粉体供給方法 |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP20884385A patent/JPS6269165A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01171365U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-12-05 | ||
| JPH0297665U (ja) * | 1989-01-20 | 1990-08-03 | ||
| JP2010185797A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Toshiba Corp | 自動分析装置 |
| JP2014085304A (ja) * | 2012-10-26 | 2014-05-12 | Toshiba Corp | 自動分析装置 |
| US20200271568A1 (en) * | 2015-04-09 | 2020-08-27 | Gen-Probe Incorporated | Cleaning member for use in a sample testing system |
| US12306091B2 (en) * | 2015-04-09 | 2025-05-20 | Gen-Probe Incorporated | Non-absorbent cleaning member with transport arm working end coupling element for use in a sample testing system |
| WO2025239257A1 (ja) * | 2024-05-15 | 2025-11-20 | 武蔵エンジニアリング株式会社 | 粉体供給装置および粉体供給方法 |
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