JPS627180A - レ−ザ光の減衰装置 - Google Patents
レ−ザ光の減衰装置Info
- Publication number
- JPS627180A JPS627180A JP60146057A JP14605785A JPS627180A JP S627180 A JPS627180 A JP S627180A JP 60146057 A JP60146057 A JP 60146057A JP 14605785 A JP14605785 A JP 14605785A JP S627180 A JPS627180 A JP S627180A
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- JP
- Japan
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- attenuator
- laser
- shutter mechanism
- rotating disk
- shutter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、例えばレーザメスとして使用されるレーザ治
療装置において、レーザ光の出力を減衰させる装置に関
する。
療装置において、レーザ光の出力を減衰させる装置に関
する。
「従来技術およびその問題点」
レーザ光の熱エネルギを利用したレーザ治療装置として
は、Ｃｏ２レーザとＮｄ−ＹＡＧレーザが一般的に用い
られているが、内視鏡下においては、フレキシブルなレ
ーザファイバ中を効率よく伝達されるＮｄ−ＹＡＧレー
ザがよく用いられている。このＮｄ−ＹＡＧレーザを用
いた治療では、レーザファイバの先端に透明サファイア
材を連結し、このサファイア材の先端を患部に接触させ
て患部組織の切開、凝固を行なう接触療法が実用化され
ている。
は、Ｃｏ２レーザとＮｄ−ＹＡＧレーザが一般的に用い
られているが、内視鏡下においては、フレキシブルなレ
ーザファイバ中を効率よく伝達されるＮｄ−ＹＡＧレー
ザがよく用いられている。このＮｄ−ＹＡＧレーザを用
いた治療では、レーザファイバの先端に透明サファイア
材を連結し、このサファイア材の先端を患部に接触させ
て患部組織の切開、凝固を行なう接触療法が実用化され
ている。
この接触療法は、従来から行なわれている非接触療法に
比べ、透明サファイア材が直接患部に接触するため、レ
ーザ光の患部表面組織での反射。
比べ、透明サファイア材が直接患部に接触するため、レ
ーザ光の患部表面組織での反射。
散乱が抑えられるので、低い出力での治療効果を期待す
ることができる。特に凝固を目的とした場合には、非接
触療法では３０ｗ以上の出力が必要とされたのに対し、
接触療法ではその約１７３程度の１０ｗ以下の出力でも
非接触療法と同程度の効果が得られる。
ることができる。特に凝固を目的とした場合には、非接
触療法では３０ｗ以上の出力が必要とされたのに対し、
接触療法ではその約１７３程度の１０ｗ以下の出力でも
非接触療法と同程度の効果が得られる。
他方、このＮｄ−ＹＡＧレーザも、例えば止血を目的と
して使用するときには、 １００Ｗ程度の高出力を要
求される。このため、Ｎｄ−ＹＡＧレーザを汎用機とし
て使用するには、数Ｗ程度の低出力から、 １００Ｗ以
上の高出力までの発振機能を満足しなければならない。
して使用するときには、 １００Ｗ程度の高出力を要
求される。このため、Ｎｄ−ＹＡＧレーザを汎用機とし
て使用するには、数Ｗ程度の低出力から、 １００Ｗ以
上の高出力までの発振機能を満足しなければならない。
ところが従来の出力１００ ｗクラスのＮｄ−ＹＡＧレ
ーザでは、レーザ発振を開始するための反転分布のしき
い値が１０ｗ近くの出力に相当するため、 １０ｗ程度
の低出力を安定して出すことができない、すなわち励起
ランプの光量を低出力に相当するように変化させるべく
、電流コントロールを行なったとすると１発振されるレ
ーザ光が非常に不安定となってしまう、このため上記接
触療法を行なうには、特別な低出力のＮｄ−ＹＡＧレー
ザを用いなければならないのが実情であった。
ーザでは、レーザ発振を開始するための反転分布のしき
い値が１０ｗ近くの出力に相当するため、 １０ｗ程度
の低出力を安定して出すことができない、すなわち励起
ランプの光量を低出力に相当するように変化させるべく
、電流コントロールを行なったとすると１発振されるレ
ーザ光が非常に不安定となってしまう、このため上記接
触療法を行なうには、特別な低出力のＮｄ−ＹＡＧレー
ザを用いなければならないのが実情であった。
またレーザ光を減衰させて低出力にするためレーザ光路
中にＮＯフィルタのような吸収フィ°ルタを設置したり
、分割プリズムを用いて一部のレーザ光のみ患部に照射
することが一般に考えられるが、前者は、対象にするレ
ーザ光出力が数１０ｗ以上であるため、そのエネルギで
ＮＤフィルタにクラック等の熱損傷が生じ、後者は、分
割光の処理のため、水冷方式等の大掛りなヒートシンク
が必要になるという問題がある。
中にＮＯフィルタのような吸収フィ°ルタを設置したり
、分割プリズムを用いて一部のレーザ光のみ患部に照射
することが一般に考えられるが、前者は、対象にするレ
ーザ光出力が数１０ｗ以上であるため、そのエネルギで
ＮＤフィルタにクラック等の熱損傷が生じ、後者は、分
割光の処理のため、水冷方式等の大掛りなヒートシンク
が必要になるという問題がある。
さらに、このような背景から、回転円板の周囲に透光部
と遮光部を交互に設けた減衰器（アッテネータ）を用い
ることが行なわれているが、この減衰器では、作動の不
具合によって、たまたまレーザ光路に遮光部が停止する
と、これに熱的トラブルが発生するおそれがある。また
レーザ光路に透光部が停止すると、減衰されて照射され
るべきレーザ光が減衰されずに照射されるために、出力
値が増大して照射患部に穿孔の危険が伴なうという大き
な問題があった。さらに回転円板が所定の回転数に達し
ていないときに、レーザ発振器と減衰器の間にある、レ
ーザ照射時間を設定するシャッタ機構が開くと、レーザ
光が患部に照射されないことも起こる。
と遮光部を交互に設けた減衰器（アッテネータ）を用い
ることが行なわれているが、この減衰器では、作動の不
具合によって、たまたまレーザ光路に遮光部が停止する
と、これに熱的トラブルが発生するおそれがある。また
レーザ光路に透光部が停止すると、減衰されて照射され
るべきレーザ光が減衰されずに照射されるために、出力
値が増大して照射患部に穿孔の危険が伴なうという大き
な問題があった。さらに回転円板が所定の回転数に達し
ていないときに、レーザ発振器と減衰器の間にある、レ
ーザ照射時間を設定するシャッタ機構が開くと、レーザ
光が患部に照射されないことも起こる。
「発明の目的」
本発明は、従来のレーザ光の減衰装置のこの問題を解消
し、低出力から高出力までをカバーできる汎用型のレー
ザ光の減衰装置であって、レーザ光を確実に減衰させた
後、照射することができる、安全性に優れた装置を得る
ことを目的とすｉ。
し、低出力から高出力までをカバーできる汎用型のレー
ザ光の減衰装置であって、レーザ光を確実に減衰させた
後、照射することができる、安全性に優れた装置を得る
ことを目的とすｉ。
「発明の概要」
本発明は、減衰器を用いたレーザ光の減衰装置において
、減衰器の回転円板の回転状態をチェックし、回転円板
の回転数が所定値に達したときだけ、照射時間を設定す
るシャッタ機構が動作できるようにするという発想に基
づいてなされたものである。すなわち本発明は、レーザ
発振器、減衰器、およびシャッタ機構を備えた装置にお
いてさらに、減衰器の回転円板の回転検知器と、この回
転検知器によって検知される回転円板の回転数が所定値
に達しているときに、シャッタ機構を駆動可能とするシ
ャッタ駆動回路とを設けたことを特徴としている。
、減衰器の回転円板の回転状態をチェックし、回転円板
の回転数が所定値に達したときだけ、照射時間を設定す
るシャッタ機構が動作できるようにするという発想に基
づいてなされたものである。すなわち本発明は、レーザ
発振器、減衰器、およびシャッタ機構を備えた装置にお
いてさらに、減衰器の回転円板の回転検知器と、この回
転検知器によって検知される回転円板の回転数が所定値
に達しているときに、シャッタ機構を駆動可能とするシ
ャッタ駆動回路とを設けたことを特徴としている。
「発明の実施例」
以下図示実施例について本発明を説明する。第１図は本
発明のレーザ光の減衰装置の回路ブロック図である。レ
ーザ発振器１１は電源装置１２から給電されて作動し２
レーザ光を発する。このレーザ発振器１１には、シャ
ッタ機構１３が付設されている。このシャッタ機構１３
は、照射スイッチ１３ａと照射時間設定器１３ｂを有し
、シャッタ駆動回路３０がオン状態のとき照射スイッチ
１３ａを閉じると、照射時間設定器１３ｂで設定した照
射時間だけ開いてレーザ光を発射するもので１例えばレ
ーザ発振器１１の発振器のオンオフによって、この機能
を発揮する。
発明のレーザ光の減衰装置の回路ブロック図である。レ
ーザ発振器１１は電源装置１２から給電されて作動し２
レーザ光を発する。このレーザ発振器１１には、シャ
ッタ機構１３が付設されている。このシャッタ機構１３
は、照射スイッチ１３ａと照射時間設定器１３ｂを有し
、シャッタ駆動回路３０がオン状態のとき照射スイッチ
１３ａを閉じると、照射時間設定器１３ｂで設定した照
射時間だけ開いてレーザ光を発射するもので１例えばレ
ーザ発振器１１の発振器のオンオフによって、この機能
を発揮する。
シャッタ機構１３から出たレーザ光の光路中には、減衰
器１５の回転円板１６が置かれている。
器１５の回転円板１６が置かれている。
この回転円板１６は、駆動モータ１７によって駆動され
るもので、その外周部に、透光部１６ａと遮光部１６ｂ
を交互に形成している。レーザ光の減衰率は、この透光
部１６ａと遮光部１６ｂの円周方向の長さの比によって
決定される。この例では、この比は１：４である。そし
てこの回転円板１６を通過したレーザ光は、レーザファ
イバ１８に入射される。１９は駆動モータ１７の電源装
置である。
るもので、その外周部に、透光部１６ａと遮光部１６ｂ
を交互に形成している。レーザ光の減衰率は、この透光
部１６ａと遮光部１６ｂの円周方向の長さの比によって
決定される。この例では、この比は１：４である。そし
てこの回転円板１６を通過したレーザ光は、レーザファ
イバ１８に入射される。１９は駆動モータ１７の電源装
置である。
減衰器１５には、回転検出器２０が設けられている。こ
の回転検出器２０は、回転円板１６を跨ぐ形で置いたフ
ォトカプラ２１、このフォトカプラ２１の出力を受ける
微分回路２２）この微分回路２２の出力波形を成形する
波形成形回路２３、この波形成形回路２３の出力と基準
クロックパルス発生器２４からのクロックパルスとを受
けて、パルス間隔を計測するパルス間隔計測器２５．こ
のパルス間隔から回転円板１６の回転数が一定値に達し
たか否かを判定する判定回路２６からなっている。そし
て判定回路２６は上記シャッタ駆動回路３０に接続され
ていて、回転円板１６の回転数か−・定値に達している
と、このシャッタ駆動回路３０がオン状態とな゛す、照
射スイッチ１３ａによるシャッタ機構１３の駆１ｂ（シ
ャッタ開放）が可能となる。また判定回路２６は表示装
置２７に接続されていて１回転円板１６の回転数が一定
値以上に達すると、この表示装置２７が例えば点灯゛
する。
の回転検出器２０は、回転円板１６を跨ぐ形で置いたフ
ォトカプラ２１、このフォトカプラ２１の出力を受ける
微分回路２２）この微分回路２２の出力波形を成形する
波形成形回路２３、この波形成形回路２３の出力と基準
クロックパルス発生器２４からのクロックパルスとを受
けて、パルス間隔を計測するパルス間隔計測器２５．こ
のパルス間隔から回転円板１６の回転数が一定値に達し
たか否かを判定する判定回路２６からなっている。そし
て判定回路２６は上記シャッタ駆動回路３０に接続され
ていて、回転円板１６の回転数か−・定値に達している
と、このシャッタ駆動回路３０がオン状態とな゛す、照
射スイッチ１３ａによるシャッタ機構１３の駆１ｂ（シ
ャッタ開放）が可能となる。また判定回路２６は表示装
置２７に接続されていて１回転円板１６の回転数が一定
値以上に達すると、この表示装置２７が例えば点灯゛
する。
上記構成の本装置は、次のように作動する。減衰器１５
の回転円板１６が回転すると、透光部１６ａが通過する
度に、フォトカプラ２１に第２図に示すパルス波ａが生
じる。このパルス波ａは、次に微分回路２２によって微
分波“ｂとなり、さらに波形成形回路２３によって成形
波Ｃとなって、パルス間隔計測器２５に入力される。パ
ルス間隔計測器２５は、基準クロックパルス発生器２４
から入力される基準クロックパルス波ｄを受けて、隣り
合う成形波Ｃの間に何個の基準クロックパルス波ｄが入
っているかを計数する。そしてこの計数値が予め定めた
一定値内に納まっていれば、判定回路２６がシャッタ駆
動回路３０および表示装置２７をオンにする。すると、
シャッタ機［１３が駆動可能となり、照射スイッチ１３
ａを操作すると、照射時間設定器１３ｂで設定されてい
る時間だけこれが開き、減衰器１５によって減衰された
レーザ光がレーザファイバ１８に照射される。すなわち
、図示例では、透光部１６ａと遮光部１６ｂの周方向長
さの比が１：４であるから、レーザ発振器１１の出力パ
ワーが１１５になってレーザファイバ１８に与えられ、
患部に照射されることになる。
の回転円板１６が回転すると、透光部１６ａが通過する
度に、フォトカプラ２１に第２図に示すパルス波ａが生
じる。このパルス波ａは、次に微分回路２２によって微
分波“ｂとなり、さらに波形成形回路２３によって成形
波Ｃとなって、パルス間隔計測器２５に入力される。パ
ルス間隔計測器２５は、基準クロックパルス発生器２４
から入力される基準クロックパルス波ｄを受けて、隣り
合う成形波Ｃの間に何個の基準クロックパルス波ｄが入
っているかを計数する。そしてこの計数値が予め定めた
一定値内に納まっていれば、判定回路２６がシャッタ駆
動回路３０および表示装置２７をオンにする。すると、
シャッタ機［１３が駆動可能となり、照射スイッチ１３
ａを操作すると、照射時間設定器１３ｂで設定されてい
る時間だけこれが開き、減衰器１５によって減衰された
レーザ光がレーザファイバ１８に照射される。すなわち
、図示例では、透光部１６ａと遮光部１６ｂの周方向長
さの比が１：４であるから、レーザ発振器１１の出力パ
ワーが１１５になってレーザファイバ１８に与えられ、
患部に照射されることになる。
なお回転円板１６の定格回転数は、照射時間設定器１３
ｂによって設定されるシャッタ機構１３の一回の操作当
りの開時間が短い場合には、これを考慮して設定する必
要がある６例えば、シャッタ機構１３の開時間が０．１
秒設定のときは、この設定時間内に、回転円板１６の透
光部１６ａがレーザ光を通過しなければならないので、
回転円板１６の回転数は、２．５回転以上でなければな
らない。すなわち、回転円板１６の回転数をＮ、回転円
板１６の遮光部１６ｂと透光部１６ａの円周方向の長さ
の比をＫ、シャッタ機構１３の一回当りの開時間（レー
ザ照射時間）をＴとしたとき。
ｂによって設定されるシャッタ機構１３の一回の操作当
りの開時間が短い場合には、これを考慮して設定する必
要がある６例えば、シャッタ機構１３の開時間が０．１
秒設定のときは、この設定時間内に、回転円板１６の透
光部１６ａがレーザ光を通過しなければならないので、
回転円板１６の回転数は、２．５回転以上でなければな
らない。すなわち、回転円板１６の回転数をＮ、回転円
板１６の遮光部１６ｂと透光部１６ａの円周方向の長さ
の比をＫ、シャッタ機構１３の一回当りの開時間（レー
ザ照射時間）をＴとしたとき。
回転検出器２０は、Ｎ＞１／ＫＴの条件を満足したとき
に、シャッタ駆動回路３０をオンとしシャッタ機構１３
を駆動可能とするものとする。
に、シャッタ駆動回路３０をオンとしシャッタ機構１３
を駆動可能とするものとする。
一方、隣り合う成形波Ｃの間の基準クロックパルス波ｄ
の数が規定以上（または以下）の場合は、回転円板１６
の回転数が過小（または過大）であることを意味するか
ら、回転検出器２ｏの判定回路２６は、シャッタ駆動回
路３ｏをオフとしてシャッタ機構１３が駆動できないよ
うにし１表示装置２７を作動させない。
の数が規定以上（または以下）の場合は、回転円板１６
の回転数が過小（または過大）であることを意味するか
ら、回転検出器２ｏの判定回路２６は、シャッタ駆動回
路３ｏをオフとしてシャッタ機構１３が駆動できないよ
うにし１表示装置２７を作動させない。
「発明の効果Ｊ
以上のように本発明のレーザ光の減衰装置は、レーザ光
を、回転円板の透光部と遮光部を有する回転円板によっ
て減衰させる装置において、回転円板の回転数を検知し
、この回転数が一定範囲にないときは、レーザ光の照射
時間を設定するシャッタ機構が作動できないようにした
から１人体へ過度のレーザ光が照射されることによる危
険を回避することができ、また回転円板の遮光部にレー
ザ光が長時間照射されることによる破損、火災等の事故
を未然に防止できる。よって安全性。
を、回転円板の透光部と遮光部を有する回転円板によっ
て減衰させる装置において、回転円板の回転数を検知し
、この回転数が一定範囲にないときは、レーザ光の照射
時間を設定するシャッタ機構が作動できないようにした
から１人体へ過度のレーザ光が照射されることによる危
険を回避することができ、また回転円板の遮光部にレー
ザ光が長時間照射されることによる破損、火災等の事故
を未然に防止できる。よって安全性。
実用性の高いレーザ光の減衰装置を提供できる。
第１図は本発明のレーザ光の減衰装置の実施例を示す回
路ブロック図、第２図は１回転検出器の各回路における
波形を示す波形図である。 １１・・・レーザ発振器、１３・・・シャッタ機構、１
３ａ・・・照射スイッチ、１３ｂ・・・照射時間設定器
、１５・・・減衰器、１６・・・回転円板、１６ａ・・
・透光部、１６ｂ・・・遮光部、１８・・・レーザファ
イバ、２０・・・回転検出器、３０・・・シャッタ駆動
回路。 特許出願人 旭光学工業株式会社 同代理人 三 浦 邦 夫 同 松 井 茂第１図
路ブロック図、第２図は１回転検出器の各回路における
波形を示す波形図である。 １１・・・レーザ発振器、１３・・・シャッタ機構、１
３ａ・・・照射スイッチ、１３ｂ・・・照射時間設定器
、１５・・・減衰器、１６・・・回転円板、１６ａ・・
・透光部、１６ｂ・・・遮光部、１８・・・レーザファ
イバ、２０・・・回転検出器、３０・・・シャッタ駆動
回路。 特許出願人 旭光学工業株式会社 同代理人 三 浦 邦 夫 同 松 井 茂第１図
Claims (2)
- （１）レーザ発振器と；このレーザ発振器のレーザ光路
に位置する透光部と遮光部を外周部に交互に形成した回
転円板を有する減衰器と；上記レーザ発振器と減衰器と
の間の光路を開閉しレーザ照射時間を設定するシャッタ
機構とを備えたレーザ光の減衰装置において、さらに上
記減衰器の回転円板の回転検知器と；この回転検知器に
よって検知される回転円板の回転数が所定値に達してい
るときに、上記シャッタ機構を駆動可能とするシャッタ
駆動回路とを設けたことを特徴とするレーザ光の減衰装
置。 - （２）特許請求の範囲第１項において、減衰器の回転円
板の回転数をＮ、回転円板の遮光部と透光部の円周方向
の長さの比をＫ、シャッタ機構の一回当りの開時間（レ
ーザ照射時間）をＴとしたとき、回転検知器は、Ｎ＞１
／ＫＴの条件を満足したときに、シャッタ機構を駆動可
能とするレーザ光の減衰装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60146057A JPS627180A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | レ−ザ光の減衰装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60146057A JPS627180A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | レ−ザ光の減衰装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS627180A true JPS627180A (ja) | 1987-01-14 |
| JPH0320075B2 JPH0320075B2 (ja) | 1991-03-18 |
Family
ID=15399109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60146057A Granted JPS627180A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | レ−ザ光の減衰装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS627180A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103071920A (zh) * | 2012-10-15 | 2013-05-01 | 昆山科森科技有限公司 | 用于手术刀加工的焊接装置 |
-
1985
- 1985-07-03 JP JP60146057A patent/JPS627180A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103071920A (zh) * | 2012-10-15 | 2013-05-01 | 昆山科森科技有限公司 | 用于手术刀加工的焊接装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0320075B2 (ja) | 1991-03-18 |
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