JPS6273413A - 磁気記録媒体とその製造方法および製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体とその製造方法および製造装置Info
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- JPS6273413A JPS6273413A JP21021685A JP21021685A JPS6273413A JP S6273413 A JPS6273413 A JP S6273413A JP 21021685 A JP21021685 A JP 21021685A JP 21021685 A JP21021685 A JP 21021685A JP S6273413 A JPS6273413 A JP S6273413A
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- Japan
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- magnetic
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は高密度記録特性にすぐれた垂直磁気記録用媒体
およびその製造方法と製造装置に関するものである。
およびその製造方法と製造装置に関するものである。
[従来の技術]
媒体の膜面に対しその垂直方向が磁化容易軸となる媒体
を用いて記録する垂直記録方式は、膜面に平行な磁化容
易軸を有する媒体を用いて行う従来の長手記録方式に比
し、特に記録信号の短波長域において優れた特性を有す
る。また、従来より垂直磁化層と媒体基板との中間に低
保磁力の軟磁性層を設けることにより、媒体の磁化が容
易となり、再生時の信号出力も高くなるという特徴を有
する二層媒体が考えられている。第3図は磁気ディスク
装置などに用いられる垂直磁気記録用二層リジッド媒体
の模式図である。1は基板であり、基板としては、アル
ミニウム板やガラス、シリコン等が用いられる。2は低
保磁力の磁性体下地層であり、パーマロイ、CoZ r
等の軟磁性膜が用いられる。3はGoOr等からなる垂
直磁化膜である。この二層媒体を用いる場合の主要な問
題点は単層媒体に比し媒体雑音が大きいことにある。こ
れは下地層に発生する磁壁をヘッドが横切ることが主な
原因となっている。従来は磁化容易方向を特に制御して
いなかったため、スパッタなどによる下地層形成時に、
下地層に自然に印加される磁場によって、下地層には不
規則な磁壁をもつ磁区の発生がさけられなかったためで
ある。下地層に印加される磁場は装置の構成、下地層形
成条件などによって変化する0例えば基板を加熱しなが
らRFスパッタする装置では、スパッタ槽の外周に巻か
れたコイルによって、下地層にはその面内方向に交番磁
界が印加される。その結果、下地層の軟質磁性膜は冷却
過程で磁場中冷却処理を施されたと同じ結果となり1面
内に一軸異方性が誘起され、第4図に模型的に示すよう
な磁区をもつようになる0図において4は磁区、5は磁
壁であり、矢印は磁化の方向を示す、信号読取りに際し
、第3図に示すような磁区構造の下地層を持つ二層媒体
上をヘッドが走行すると、ヘッド走行方向が磁区内の磁
化の向きと平行に近い所では、横切る磁壁の数が少ない
ので殆ど媒体雑音を発生しないが、磁化の向きと±90
度の方向では180度磁壁を数多く横切るので大きな媒
体雑音が発生する。また、第3図に示したような180
°磁壁の少ない、ランダムな磁区構造であっても一般的
に磁化容易方向を特に制御していない磁性膜に発生する
磁壁は動き易いことからランダムな雑音が発生し易い、
このような雑音を低減し、磁区の動きを抑えるため下地
層の保磁力を増大せしめること等が提案されている(国
中、大向、岩崎「二層膜垂直磁気記録の裏打ち層に起因
するノイズ」信学会昭和80年全国大会予稿No、21
8.1985)が、保磁力を大きくしすぎると下地層の
透磁率が下がり、記録感度が低くなる等の欠点があった
。二層媒体をリジッド媒体に適用した場合には記録磁場
を発生するへ一2ドの位置が媒体の片面だけになり、そ
のため媒体を両面から挟むことのできる可撓媒体に比し
媒体内における垂直磁場成分が小さくなるため、信号対
雑音比がさらに劣化するという欠点を有することになる
。
を用いて記録する垂直記録方式は、膜面に平行な磁化容
易軸を有する媒体を用いて行う従来の長手記録方式に比
し、特に記録信号の短波長域において優れた特性を有す
る。また、従来より垂直磁化層と媒体基板との中間に低
保磁力の軟磁性層を設けることにより、媒体の磁化が容
易となり、再生時の信号出力も高くなるという特徴を有
する二層媒体が考えられている。第3図は磁気ディスク
装置などに用いられる垂直磁気記録用二層リジッド媒体
の模式図である。1は基板であり、基板としては、アル
ミニウム板やガラス、シリコン等が用いられる。2は低
保磁力の磁性体下地層であり、パーマロイ、CoZ r
等の軟磁性膜が用いられる。3はGoOr等からなる垂
直磁化膜である。この二層媒体を用いる場合の主要な問
題点は単層媒体に比し媒体雑音が大きいことにある。こ
れは下地層に発生する磁壁をヘッドが横切ることが主な
原因となっている。従来は磁化容易方向を特に制御して
いなかったため、スパッタなどによる下地層形成時に、
下地層に自然に印加される磁場によって、下地層には不
規則な磁壁をもつ磁区の発生がさけられなかったためで
ある。下地層に印加される磁場は装置の構成、下地層形
成条件などによって変化する0例えば基板を加熱しなが
らRFスパッタする装置では、スパッタ槽の外周に巻か
れたコイルによって、下地層にはその面内方向に交番磁
界が印加される。その結果、下地層の軟質磁性膜は冷却
過程で磁場中冷却処理を施されたと同じ結果となり1面
内に一軸異方性が誘起され、第4図に模型的に示すよう
な磁区をもつようになる0図において4は磁区、5は磁
壁であり、矢印は磁化の方向を示す、信号読取りに際し
、第3図に示すような磁区構造の下地層を持つ二層媒体
上をヘッドが走行すると、ヘッド走行方向が磁区内の磁
化の向きと平行に近い所では、横切る磁壁の数が少ない
ので殆ど媒体雑音を発生しないが、磁化の向きと±90
度の方向では180度磁壁を数多く横切るので大きな媒
体雑音が発生する。また、第3図に示したような180
°磁壁の少ない、ランダムな磁区構造であっても一般的
に磁化容易方向を特に制御していない磁性膜に発生する
磁壁は動き易いことからランダムな雑音が発生し易い、
このような雑音を低減し、磁区の動きを抑えるため下地
層の保磁力を増大せしめること等が提案されている(国
中、大向、岩崎「二層膜垂直磁気記録の裏打ち層に起因
するノイズ」信学会昭和80年全国大会予稿No、21
8.1985)が、保磁力を大きくしすぎると下地層の
透磁率が下がり、記録感度が低くなる等の欠点があった
。二層媒体をリジッド媒体に適用した場合には記録磁場
を発生するへ一2ドの位置が媒体の片面だけになり、そ
のため媒体を両面から挟むことのできる可撓媒体に比し
媒体内における垂直磁場成分が小さくなるため、信号対
雑音比がさらに劣化するという欠点を有することになる
。
[発明が解決しようとする問題点]
この発明は、上述した従来の2層媒体を用いた垂直磁気
記録媒体における、下地層の磁区構造に由来する媒体雑
音を大幅に減少せしめ、信号対雑音比の良い垂直磁気記
録媒体およびその製造方法ならびに製造装置を提供する
ことを目的とする。
記録媒体における、下地層の磁区構造に由来する媒体雑
音を大幅に減少せしめ、信号対雑音比の良い垂直磁気記
録媒体およびその製造方法ならびに製造装置を提供する
ことを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
かかる目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体は
、基板と、該基板上に形成され円周方向を磁化容易方向
とする軟磁性下地層と、軟磁性下地層上に形成された垂
直磁化膜とを有することを特徴とする。
、基板と、該基板上に形成され円周方向を磁化容易方向
とする軟磁性下地層と、軟磁性下地層上に形成された垂
直磁化膜とを有することを特徴とする。
また本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板上に軟磁
性下地層を形成する工程と、軟磁性下地層に磁場中冷却
処理を施して下地層に円周方向を磁化容易方向とする誘
導磁気異方性を付与する工程と、軟磁性下地層上に垂直
磁化膜を形成する工程とからなることを特徴とする。
性下地層を形成する工程と、軟磁性下地層に磁場中冷却
処理を施して下地層に円周方向を磁化容易方向とする誘
導磁気異方性を付与する工程と、軟磁性下地層上に垂直
磁化膜を形成する工程とからなることを特徴とする。
さらに本発明の磁気記録媒体の製造装置は、基板を保持
し回転する手段と、基板上に薄膜を形成する手段と、薄
膜を加熱する手段と、薄膜にその面内でかつ円周の接線
方向の磁界を印加する手段と、磁界を印加する手段の移
動機構を備えたことを特徴とする。
し回転する手段と、基板上に薄膜を形成する手段と、薄
膜を加熱する手段と、薄膜にその面内でかつ円周の接線
方向の磁界を印加する手段と、磁界を印加する手段の移
動機構を備えたことを特徴とする。
[作 用]
第1図および第2図を参照して本発明の詳細な説明する
。
。
第1図は誘導磁気異方性を利用して、下地層に円周方向
の磁化を与える方法と装置の概要を示す図である0図に
おいて、6は円板状の基板1の中心部から周縁部へ延在
するU字形の永久磁石、10は基板1の回転方向、11
は永久磁石6による磁力線を示す、基板1上に軟質磁性
材料からなる下地層2を形成する。その後、基板1を回
転させ、磁界を印加しながら図示しない加熱手段によっ
て下地層2を加熱する。200〜300℃で数分〜80
分間加熱した後、磁界中で下地層を冷却すると、下地層
2の円周の接線方向と平行な磁界による磁場中冷却効果
によって、下地層2には、円周方向を磁化容易方向とす
る誘導磁気異方性が生じ、第2図に示すように、円周方
向に磁化をもつ磁区4が形成される。このような下地層
2上に垂直磁化膜を形成し、垂直磁気記録を行うと、信
号読取りに際してヘッドが下地層2の磁壁を横切ること
がないので、下地層2の磁区構造に由来する媒体雑音の
発生を防ぐことができ、信号対雑音比を改善できる。
の磁化を与える方法と装置の概要を示す図である0図に
おいて、6は円板状の基板1の中心部から周縁部へ延在
するU字形の永久磁石、10は基板1の回転方向、11
は永久磁石6による磁力線を示す、基板1上に軟質磁性
材料からなる下地層2を形成する。その後、基板1を回
転させ、磁界を印加しながら図示しない加熱手段によっ
て下地層2を加熱する。200〜300℃で数分〜80
分間加熱した後、磁界中で下地層を冷却すると、下地層
2の円周の接線方向と平行な磁界による磁場中冷却効果
によって、下地層2には、円周方向を磁化容易方向とす
る誘導磁気異方性が生じ、第2図に示すように、円周方
向に磁化をもつ磁区4が形成される。このような下地層
2上に垂直磁化膜を形成し、垂直磁気記録を行うと、信
号読取りに際してヘッドが下地層2の磁壁を横切ること
がないので、下地層2の磁区構造に由来する媒体雑音の
発生を防ぐことができ、信号対雑音比を改善できる。
[実施例]
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
Si基板1上に、円周方向を磁化容易方向とする軟磁性
下地層2として90%Go−10%Zr合金を、垂直磁
化膜3として80%Co−20%Cr合金を用い、第3
図に示したような2層媒体の垂直磁気記録媒体を作製し
た。
下地層2として90%Go−10%Zr合金を、垂直磁
化膜3として80%Co−20%Cr合金を用い、第3
図に示したような2層媒体の垂直磁気記録媒体を作製し
た。
まず、Si基板1上に、Ar雰囲気8 X 10””
Torr、基板温度常温、電力80〜100誓のスパッ
タ条件で90%Go−10%Zr合金をRFスパッタし
テ0.3 gm (7)軟磁性下地層2を形成した。
Torr、基板温度常温、電力80〜100誓のスパッ
タ条件で90%Go−10%Zr合金をRFスパッタし
テ0.3 gm (7)軟磁性下地層2を形成した。
ついで第5図に示す装置を用いて下地層2に誘導磁気異
方性を与えた。第5図において、61A。
方性を与えた。第5図において、61A。
81Bは基板1を挟んで同極を対向させた2個の永久磁
石で、それぞれの磁石は基板1の中心部から周縁部まで
延在する形をもっている。磁石61A。
石で、それぞれの磁石は基板1の中心部から周縁部まで
延在する形をもっている。磁石61A。
81Bの磁力線は互いに反発して軟磁性下地層2の面内
を下地層2の円周の接線方向に走る。このように対向す
る2個の磁石を用いると、第1図に示した1個の磁石に
よるよりも、下地層2内に磁力線を強く集中できる。2
個の加熱器7.7は、この実施例では、電気抵抗線ヒー
タを用い、基板1の上下に設けられている。加熱器7.
7の長さは、下地層2の半径を十分におおう長さとする
。基板1を回転させながら、加熱器7.7を昇温させる
と下地層2は一様に加熱される。基板加熱温度は200
〜300℃で十分である0本実施例の場合、基板を5O
rpmで回転させながら250℃に10分保持した後加
熱を中止し、基板を回転させながら、磁界中で自然冷却
させた。Ia界の強さは500エルステツドであった。
を下地層2の円周の接線方向に走る。このように対向す
る2個の磁石を用いると、第1図に示した1個の磁石に
よるよりも、下地層2内に磁力線を強く集中できる。2
個の加熱器7.7は、この実施例では、電気抵抗線ヒー
タを用い、基板1の上下に設けられている。加熱器7.
7の長さは、下地層2の半径を十分におおう長さとする
。基板1を回転させながら、加熱器7.7を昇温させる
と下地層2は一様に加熱される。基板加熱温度は200
〜300℃で十分である0本実施例の場合、基板を5O
rpmで回転させながら250℃に10分保持した後加
熱を中止し、基板を回転させながら、磁界中で自然冷却
させた。Ia界の強さは500エルステツドであった。
この結果軟磁性下地層2には、下地層2の円周方向を磁
化容易方向とする誘導磁気異方性が付与された。
化容易方向とする誘導磁気異方性が付与された。
次にこの下地層2を100℃に加熱しながら、A「雰囲
気2 X 1o−2Torr、 を力80〜10011
1で80%Co −20%Cr合金からなる垂直磁化膜
を0.3 grn厚にRFスパッタした。
気2 X 1o−2Torr、 を力80〜10011
1で80%Co −20%Cr合金からなる垂直磁化膜
を0.3 grn厚にRFスパッタした。
垂直磁化膜の形成過程で、下地層2の磁気異方性は乱さ
れることなく保存されるので、垂直磁化■りを形成して
も下地層2内には、信号読取り時にヘッドが横切る磁壁
が非常に少ない、そのために従来の2層膜に見られる下
地層の不安定な磁壁に由来する広い周波数にわたるホワ
イトノイズを大幅に減少させることができた。
れることなく保存されるので、垂直磁化■りを形成して
も下地層2内には、信号読取り時にヘッドが横切る磁壁
が非常に少ない、そのために従来の2層膜に見られる下
地層の不安定な磁壁に由来する広い周波数にわたるホワ
イトノイズを大幅に減少させることができた。
第6図、第7図は磁場中冷却処理手段である磁石と加熱
器のそれぞれ他の構成例を示す図である。第6図におい
て、82A、132Bは、それぞれ基板1を挟んで同極
を対向させたU字形の永久磁石で、各磁石は下地層2の
中心部から周縁部まで延在する形状となっている。7.
7は下地層20半径を十分におおう畏さの加熱器である
。
器のそれぞれ他の構成例を示す図である。第6図におい
て、82A、132Bは、それぞれ基板1を挟んで同極
を対向させたU字形の永久磁石で、各磁石は下地層2の
中心部から周縁部まで延在する形状となっている。7.
7は下地層20半径を十分におおう畏さの加熱器である
。
第7図において、63A、83Bはそれぞれ3個の磁極
をもつ山字形の永久磁石である。磁石83A、83Bお
よび加熱器が下地層2の中心部から周縁部まで延在して
いる点はこれまでの例と同じである。磁石の構成を第6
図、第7図に示した例のように複数極を対向させること
によって、第5図の例より磁束の集中をよくすることが
できる。
をもつ山字形の永久磁石である。磁石83A、83Bお
よび加熱器が下地層2の中心部から周縁部まで延在して
いる点はこれまでの例と同じである。磁石の構成を第6
図、第7図に示した例のように複数極を対向させること
によって、第5図の例より磁束の集中をよくすることが
できる。
これまでの例において、磁場中冷却のための磁場の発生
に永久磁石を用いた例を示したが電磁石を用いても効果
が同じことは言うまでもない、また下地層の加熱のため
の熱源は電気抵抗加熱器に限らず、赤外線加熱器その他
任意のものを用いることができる。
に永久磁石を用いた例を示したが電磁石を用いても効果
が同じことは言うまでもない、また下地層の加熱のため
の熱源は電気抵抗加熱器に限らず、赤外線加熱器その他
任意のものを用いることができる。
さらに、下地層2の磁場中冷却処理は、下地層2を形成
した後に、スパッタ装置などから基板を取り出して別の
装置によって行うことも、スパッタ装置などの中で真空
を破らずに、下地層2の形成に引きつづき、連続して行
うこともできる。第8図は基板上の下地層形成→磁場中
冷却処理→垂直磁化膜形成を連続して行う装置の例を示
す断面図である。
した後に、スパッタ装置などから基板を取り出して別の
装置によって行うことも、スパッタ装置などの中で真空
を破らずに、下地層2の形成に引きつづき、連続して行
うこともできる。第8図は基板上の下地層形成→磁場中
冷却処理→垂直磁化膜形成を連続して行う装置の例を示
す断面図である。
真空槽12内には、基板上に磁性膜を形成する手段と、
基板を保持し回転する手段と、磁場中冷却のための手段
とが納められている0図において8は基板を回転させる
モータ、64は第5図ないし第7図に示したような永久
磁石で、そのうち基板の下部に位置するもののみを示し
た。7は電気抵抗加熱器で、磁石64.加熱器7は図示
しない移動機構によって基板1の面上および面外へ移動
できるようになっている。 13は回転ホルダで下地層
用。
基板を保持し回転する手段と、磁場中冷却のための手段
とが納められている0図において8は基板を回転させる
モータ、64は第5図ないし第7図に示したような永久
磁石で、そのうち基板の下部に位置するもののみを示し
た。7は電気抵抗加熱器で、磁石64.加熱器7は図示
しない移動機構によって基板1の面上および面外へ移動
できるようになっている。 13は回転ホルダで下地層
用。
垂直磁化膜用、保護膜用など複数のターゲット9を取り
つけられるようになっている。14はターゲット9を照
射してスパッタを行わせるためのイオンビーム源である
。
つけられるようになっている。14はターゲット9を照
射してスパッタを行わせるためのイオンビーム源である
。
この装置の操作は次のとおりである。まず磁石84、加
熱器7を基板の面外に位置せしめて、基板上にGo−Z
r合金などの軟磁性膜下地層を所定の厚さに形成する0
次に磁石64.加熱器7を基板の面上に位置せしめ、下
地層の磁場中冷却処理を行う、そして磁石64.加熱器
7を再び基板1の面外に去らしめ1回転ホルダ13を回
転させて例えばCoCr合金にイオンビームを照射して
、磁場中冷却処理の終了した下地層上にCoG r垂直
磁化膜を形成する。必要があれば、垂直磁化膜の上にさ
らに保護膜として5102膜を形成する。このように真
空を破ることなく、下地層の形成、磁場中冷却処理、垂
直磁化膜の形成を連続して行うことができる。
熱器7を基板の面外に位置せしめて、基板上にGo−Z
r合金などの軟磁性膜下地層を所定の厚さに形成する0
次に磁石64.加熱器7を基板の面上に位置せしめ、下
地層の磁場中冷却処理を行う、そして磁石64.加熱器
7を再び基板1の面外に去らしめ1回転ホルダ13を回
転させて例えばCoCr合金にイオンビームを照射して
、磁場中冷却処理の終了した下地層上にCoG r垂直
磁化膜を形成する。必要があれば、垂直磁化膜の上にさ
らに保護膜として5102膜を形成する。このように真
空を破ることなく、下地層の形成、磁場中冷却処理、垂
直磁化膜の形成を連続して行うことができる。
永久磁石64を電磁石におきかえてもよいし、加′熱器
7を赤外線加熱器にかえ、さらに赤外線源を基板から離
して設け、加熱器7の移動機構を省略してもよい、また
、磁性Hりを形成する手段は、図示した例に限らず、通
常用いられる膜形成手段を適用することができる。
7を赤外線加熱器にかえ、さらに赤外線源を基板から離
して設け、加熱器7の移動機構を省略してもよい、また
、磁性Hりを形成する手段は、図示した例に限らず、通
常用いられる膜形成手段を適用することができる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、円周方向を磁化
容易方向とする下地層をもつ2層媒体構造の垂直磁気記
録媒体を容易に作製でき、この垂直磁気記録媒体を用い
れば下地層の磁壁を起源とじて媒体より発生する雑音が
大幅に減少するため、高効率でかつ信号対雑音比の良い
垂直記録が実現できる。また、本発明の装置を用いれt
’i、この2層媒体構造の垂直磁気記録媒体を連続して
作製できる。
容易方向とする下地層をもつ2層媒体構造の垂直磁気記
録媒体を容易に作製でき、この垂直磁気記録媒体を用い
れば下地層の磁壁を起源とじて媒体より発生する雑音が
大幅に減少するため、高効率でかつ信号対雑音比の良い
垂直記録が実現できる。また、本発明の装置を用いれt
’i、この2層媒体構造の垂直磁気記録媒体を連続して
作製できる。
第1図は本発明の誘導磁気異方性の付与を説明するため
の概略斜視図、 第2図は本発明にかかる磁気記録媒体の下地層の磁区を
説明する斜視図、 第3図は2層媒体構造の磁気記録媒体の一部破断斜視図
、 第4図は従来の下地層の磁区を示す斜視図、第5図、第
6図、第7図はそれぞれ本発明の磁場中冷却手段の実施
例を示す断面図、 第8図は本発明の磁気記録媒体製造装置の実施例の概略
を示す断面図である。 1・・・基板、 2・・・軟磁性下地層、 3・・・垂直磁化膜、 4・・・磁区、 5・・・磁壁、 [i、81A、81B、82A、82B、e3A、83
B、64・・・永久磁石、 7・・・加熱器、 8・・・モータ、 9・・・ターゲット、 11・・・磁力線、 12・・・真空容器、 13・・・回転ホルダ、 14・・・イオンビーム源。 特許出願人 日本電信電話株式会社代 理 人
弁理士 谷 義 −第1図 第2図
の概略斜視図、 第2図は本発明にかかる磁気記録媒体の下地層の磁区を
説明する斜視図、 第3図は2層媒体構造の磁気記録媒体の一部破断斜視図
、 第4図は従来の下地層の磁区を示す斜視図、第5図、第
6図、第7図はそれぞれ本発明の磁場中冷却手段の実施
例を示す断面図、 第8図は本発明の磁気記録媒体製造装置の実施例の概略
を示す断面図である。 1・・・基板、 2・・・軟磁性下地層、 3・・・垂直磁化膜、 4・・・磁区、 5・・・磁壁、 [i、81A、81B、82A、82B、e3A、83
B、64・・・永久磁石、 7・・・加熱器、 8・・・モータ、 9・・・ターゲット、 11・・・磁力線、 12・・・真空容器、 13・・・回転ホルダ、 14・・・イオンビーム源。 特許出願人 日本電信電話株式会社代 理 人
弁理士 谷 義 −第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板と、該基板上に形成され円周方向を磁化容易方
向とする軟磁性下地層と、該軟磁性下地層上に形成され
た垂直磁化膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体
。 2)基板上に軟磁性下地層を形成する工程と、前記軟磁
性下地層に磁場中冷却処理を施して該下地層に円周方向
を磁化容易方向とする誘導磁気異方性を付与する工程と
、 前記軟磁性下地層上に垂直磁化膜を形成する工程と からなることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 3)基板を保持し回転する手段と、前記基板上に薄膜を
形成する手段と、前記薄膜を加熱する手段と、前記薄膜
にその面内でかつ円周の接線方向の磁界を印加する手段
と、前記磁界を印加する手段の移動機構を備えたことを
特徴とする磁気記録媒体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21021685A JPS6273413A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 磁気記録媒体とその製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21021685A JPS6273413A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 磁気記録媒体とその製造方法および製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6273413A true JPS6273413A (ja) | 1987-04-04 |
Family
ID=16585708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21021685A Pending JPS6273413A (ja) | 1985-09-25 | 1985-09-25 | 磁気記録媒体とその製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6273413A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5589262A (en) * | 1989-05-31 | 1996-12-31 | Fujitsu Limited | Perpendicular magnetic recording medium having a soft magnetic underlayer with a stripe magnetic domain structure |
| JP2007272999A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録媒体 |
| JP2007280455A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848822A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-22 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ラツチ解除回路を有する測光回路 |
| JPS5948822A (ja) * | 1982-09-13 | 1984-03-21 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1985
- 1985-09-25 JP JP21021685A patent/JPS6273413A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848822A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-22 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | ラツチ解除回路を有する測光回路 |
| JPS5948822A (ja) * | 1982-09-13 | 1984-03-21 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5589262A (en) * | 1989-05-31 | 1996-12-31 | Fujitsu Limited | Perpendicular magnetic recording medium having a soft magnetic underlayer with a stripe magnetic domain structure |
| JP2007272999A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録媒体 |
| JP2007280455A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録媒体 |
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