JPS6273782A - 非晶質半導体太陽電池 - Google Patents
非晶質半導体太陽電池Info
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- JPS6273782A JPS6273782A JP60214226A JP21422685A JPS6273782A JP S6273782 A JPS6273782 A JP S6273782A JP 60214226 A JP60214226 A JP 60214226A JP 21422685 A JP21422685 A JP 21422685A JP S6273782 A JPS6273782 A JP S6273782A
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/138—Manufacture of transparent electrodes, e.g. transparent conductive oxides [TCO] or indium tin oxide [ITO] electrodes
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ソーダライムガラス基板の上に設けられた
非晶質半導体太陽電池に関する。
非晶質半導体太陽電池に関する。
非晶質半導体太陽電池は、第3図で示されたように、ソ
ーダライムガラス基板lの表面を。
ーダライムガラス基板lの表面を。
1000人程度0厚さの5io21!Iからなるコーテ
イング膜2で覆った後、この上に透明電極3゜P型、■
型、N型の非晶質半導体層4及び背面電極5を順次設け
て作られている。例えば、上記コーテイング膜2の上に
SnO2膜からなる透明電極3.非晶質シリコン層から
なる非晶質半導体層4及びアルミニウム膜からなる背面
電極5を順次設けて作られた太陽電池にあって。
イング膜2で覆った後、この上に透明電極3゜P型、■
型、N型の非晶質半導体層4及び背面電極5を順次設け
て作られている。例えば、上記コーテイング膜2の上に
SnO2膜からなる透明電極3.非晶質シリコン層から
なる非晶質半導体層4及びアルミニウム膜からなる背面
電極5を順次設けて作られた太陽電池にあって。
透明電極3の厚みが0.4μm前後の場合8同電極3の
比抵抗は6 X 10−’ 〜5 X 10−3ΩC1
波長550nmにおける光の透過率は、80〜90%で
あり。
比抵抗は6 X 10−’ 〜5 X 10−3ΩC1
波長550nmにおける光の透過率は、80〜90%で
あり。
初期変換効率は8%前後である。
上記非晶質半導体太陽電池において、ソーダライムガラ
ス基板1の表面にコーティング膜2を施さず、直に透明
電極3を設けた場合、透明電極3の抵抗値が高くなり、
その光の透過率が低下する。また、これに伴って太陽電
池の変換効率も低下する。
ス基板1の表面にコーティング膜2を施さず、直に透明
電極3を設けた場合、透明電極3の抵抗値が高くなり、
その光の透過率が低下する。また、これに伴って太陽電
池の変換効率も低下する。
例えば、ソーダライムガラス基板1の上に。
直に透明電極3.非晶質半導体層4及び背面電極5を設
けて作られた上記と同様の太陽電池の場合、透明電極3
の比抵抗は、5X10−3Ω口以上となり、光の透過率
も、上記のものに比べて5〜10%低くなる。
けて作られた上記と同様の太陽電池の場合、透明電極3
の比抵抗は、5X10−3Ω口以上となり、光の透過率
も、上記のものに比べて5〜10%低くなる。
この発明は、従来の非晶質半導体太陽電池における上記
の問題点を解決するためなされたもので、ソーダライム
ガラス基板1の表面にコーテイング膜を施さず、同基板
1の上に直に透明電極3を設けて構成された非晶質半導
体太陽電池について、従来のものと同等の特性が得られ
るようにすることを目的とする。
の問題点を解決するためなされたもので、ソーダライム
ガラス基板1の表面にコーテイング膜を施さず、同基板
1の上に直に透明電極3を設けて構成された非晶質半導
体太陽電池について、従来のものと同等の特性が得られ
るようにすることを目的とする。
以下、この発明の構成を第1図の符号を引用しながら説
明すると、この発明による非晶質半導体太陽電池は、ソ
ーダライムガラス埃板11の表面に5i02膜等のコー
テイング膜を施すことなく、その上に直に透明電極13
を設け、この上に非晶質半導体層14及び背面電極15
を設けて構成されたものである。そして上記透明電極1
3は、Srxに対してFが1〜3 at、%含りされた
SnO2膜13aと、Snに対してSb、Pの少なくと
も一方が1〜3 at、%含有されたS n 02膜1
3bとからなるからなる。
明すると、この発明による非晶質半導体太陽電池は、ソ
ーダライムガラス埃板11の表面に5i02膜等のコー
テイング膜を施すことなく、その上に直に透明電極13
を設け、この上に非晶質半導体層14及び背面電極15
を設けて構成されたものである。そして上記透明電極1
3は、Srxに対してFが1〜3 at、%含りされた
SnO2膜13aと、Snに対してSb、Pの少なくと
も一方が1〜3 at、%含有されたS n 02膜1
3bとからなるからなる。
次にこの発明の実施例;5こついて説明・rる。
(実施例工)
水150ccに、エチルアルコールを10cc、 S
rlCla ・5H20を25g及びNH4Fを5
.29g溶解した原料液と、水1.50ccに、エチル
アルコールを10cc、 SnCIa ・5H20
を25〔1SbC13を0.32 g及びHCIを2c
e溶P!?、I−、た原料液を作った。ソーダライムガ
ラス基板11をホットプレート上で420℃に加熱した
ま−1この片面に前者の原料液をスプレーし、Snに利
してFが約2 at、%含まれた厚み約0.1μmのS
nO2被H’JL3aを設けた。続いて、このSnO2
被膜13aの上から後者の原料液をスプレーし、Snに
対してsbが約1 at、%含まれた厚み約0.3μI
のSnO2被膜13bを設けた。
rlCla ・5H20を25g及びNH4Fを5
.29g溶解した原料液と、水1.50ccに、エチル
アルコールを10cc、 SnCIa ・5H20
を25〔1SbC13を0.32 g及びHCIを2c
e溶P!?、I−、た原料液を作った。ソーダライムガ
ラス基板11をホットプレート上で420℃に加熱した
ま−1この片面に前者の原料液をスプレーし、Snに利
してFが約2 at、%含まれた厚み約0.1μmのS
nO2被H’JL3aを設けた。続いて、このSnO2
被膜13aの上から後者の原料液をスプレーし、Snに
対してsbが約1 at、%含まれた厚み約0.3μI
のSnO2被膜13bを設けた。
こうして設けられたSnO2被膜13aと同13bから
なる透明電極の厚みは0.4μ−であり。
なる透明電極の厚みは0.4μ−であり。
そのシート抵抗は、25Ω/口、波長550nmにおけ
る光の平均透過率は、 87.6%であった。
る光の平均透過率は、 87.6%であった。
なお、シート抵抗は、4端子法により、透明電極13の
上の2点間に一定電流を長し、その間の一定区間(距離
0.5mm)での電圧降下値をもとに求めた。また、光
の平均透過率は2次の方法で求めた。まず、透明電極1
3が設けられたソーダライムガラス基板11と、透明電
極13が設けられてない同じ厚みの基準となるガラス板
とに光を通過させ、光の波長を変えながら2通過光の光
量の比を求め、これから第2図のようなグラフを描く。
上の2点間に一定電流を長し、その間の一定区間(距離
0.5mm)での電圧降下値をもとに求めた。また、光
の平均透過率は2次の方法で求めた。まず、透明電極1
3が設けられたソーダライムガラス基板11と、透明電
極13が設けられてない同じ厚みの基準となるガラス板
とに光を通過させ、光の波長を変えながら2通過光の光
量の比を求め、これから第2図のようなグラフを描く。
次に、このグラフから1点線で示されたような最大透過
率と最小透過率の曲線を求め、これらの曲線から、光の
gll 550nm4こおける最大透過率Tmaxと最
小透過率T tn i nを求める。そして、これらの
中間値を平均透過率として算出した。
率と最小透過率の曲線を求め、これらの曲線から、光の
gll 550nm4こおける最大透過率Tmaxと最
小透過率T tn i nを求める。そして、これらの
中間値を平均透過率として算出した。
さらに、上記透明電極13の上に、非晶質半導体層14
として、それぞれ厚み120人、 5000人。
として、それぞれ厚み120人、 5000人。
300人のP型、■型、N型からなる非晶質シリコン層
を設けた。続いて、この上に゛アルーニウムを真空蒸着
して背面電極15を設け1面相0.16CrAの非晶質
シリコン太陽電池を構成!、、、、 f、。
を設けた。続いて、この上に゛アルーニウムを真空蒸着
して背面電極15を設け1面相0.16CrAの非晶質
シリコン太陽電池を構成!、、、、 f、。
この太陽電池の初期変換効率は1(61%で、え)った
。
。
(実施例2)
水150cc、に、エチルアルコール$?10cc、5
nC1,・5H20を25g及ll′:さ1HaFを2
゜64に11溶解した原料液と、水1.50c、c、!
ご、1千ルアルーゴールを10cc、5nC1a ・
5820を25p。
nC1,・5H20を25g及ll′:さ1HaFを2
゜64に11溶解した原料液と、水1.50c、c、!
ご、1千ルアルーゴールを10cc、5nC1a ・
5820を25p。
5bC13を0.64 g及びHCIを2 Cc 1%
1%今゛(8,ゾJ。
1%今゛(8,ゾJ。
原料液を使用し、上記実施例と同様6、:: 1.、、
−t、−、・・−ダライムガラス基板11の13;’、
+ S n (q、、一対シテFが約1 at、%
含まれた厚み約0.1μmのSnO2被膜13aと、S
nに対してsbが約2 at。
−t、−、・・−ダライムガラス基板11の13;’、
+ S n (q、、一対シテFが約1 at、%
含まれた厚み約0.1μmのSnO2被膜13aと、S
nに対してsbが約2 at。
%含まれた厚み約0.3μmのSnO2被膜13bとか
らなる厚み0.4μmの透明電極13を作った。
らなる厚み0.4μmの透明電極13を作った。
さらに、この上に上記実施例と同様の非晶質半導体層1
4と背面電極15を設け、非晶質シリコン太陽電池を作
った。
4と背面電極15を設け、非晶質シリコン太陽電池を作
った。
この実施例において、透明電極13のシート抵抗は、3
2Ω/口、その平均透過率は、 85.0%であった。
2Ω/口、その平均透過率は、 85.0%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.1%であった。
(実施例3)
水150ccに、エチルアルコールを10cc、 S
nCI a ・5H20を25g及びNHA Fを
7.59g熔解した原料液と、水150ccに1エチル
アルコールを10cc+ 5nC1j ・5H20を
25g。
nCI a ・5H20を25g及びNHA Fを
7.59g熔解した原料液と、水150ccに1エチル
アルコールを10cc+ 5nC1j ・5H20を
25g。
5bC13を0.96g及びHCIを2cc溶解した原
料液を使用し、上記実施例と同様にして、ソーダライム
ガラス基板11の上に、Snに対してFが約3at、%
含まれた厚み約0.1μmのSnO2被膜13aと、3
nに対してsbが約3 at。
料液を使用し、上記実施例と同様にして、ソーダライム
ガラス基板11の上に、Snに対してFが約3at、%
含まれた厚み約0.1μmのSnO2被膜13aと、3
nに対してsbが約3 at。
%含まれた厚み約0.3μmのSnO2被膜13bとか
らなる厚み0.4μmの透明電極13を作った。
らなる厚み0.4μmの透明電極13を作った。
さらに、この上に上記実施例と同様の非晶質半導体N1
4と背面電極15を設げ、非晶質シリコン太陽電池を作
った。
4と背面電極15を設げ、非晶質シリコン太陽電池を作
った。
この実施例において、透明電極13のシート抵抗は、2
0Ω/口、その平均透過率は、 84.5%であった。
0Ω/口、その平均透過率は、 84.5%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.2%であった。
(実施例4)
水150ccに、エチルアルコールを10cc、SnC
1a ・5H20を25g及びNH4Fを5.29g
溶解した原料液と、水150ccに、エチルアルコール
を10cc、 5nC1,a ・5H20を25g
及びPCl5を1.3g溶解した原料液を使用し、上記
実施例と同様にして、ソーダライムガラス基板11の上
に、3nに対してFが約2 at、%含まれた厚み約0
.1μn+のSnO2被膜13aと。
1a ・5H20を25g及びNH4Fを5.29g
溶解した原料液と、水150ccに、エチルアルコール
を10cc、 5nC1,a ・5H20を25g
及びPCl5を1.3g溶解した原料液を使用し、上記
実施例と同様にして、ソーダライムガラス基板11の上
に、3nに対してFが約2 at、%含まれた厚み約0
.1μn+のSnO2被膜13aと。
Snに対してPが約2.5 at、%含まれた厚み約0
.3μmのSnO2被膜13bとからなる厚み0.4μ
mの透明電極13を作った。さらに、この上に上記実施
例と同様の非晶質半導体層14と背面電極15を設け、
非晶質シリコン太陽電池を作った。
.3μmのSnO2被膜13bとからなる厚み0.4μ
mの透明電極13を作った。さらに、この上に上記実施
例と同様の非晶質半導体層14と背面電極15を設け、
非晶質シリコン太陽電池を作った。
この実施例において、透明電極13のシート抵抗は、2
6Ω/口、その平均透過率は、 85.0%であった。
6Ω/口、その平均透過率は、 85.0%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.1%であ、った
。
。
(実施例5)
水150ccに、エチルアルコールを10cc、 S
nC1a ・5H20を25g及びNH4Fを5.
29g溶解した原料液と、水150ccに、エチルアル
コールを1.0cc、 SnC14・5H20を25
g及びPCI5を0.52g熔解した原料液を使用し、
上記実施例と同様にシ2.て、ソーダライムガラス基板
11のとに、Snに対してFが約2 at、%含まれた
厚力約0.1μmのS n O2被151i13aと。
nC1a ・5H20を25g及びNH4Fを5.
29g溶解した原料液と、水150ccに、エチルアル
コールを1.0cc、 SnC14・5H20を25
g及びPCI5を0.52g熔解した原料液を使用し、
上記実施例と同様にシ2.て、ソーダライムガラス基板
11のとに、Snに対してFが約2 at、%含まれた
厚力約0.1μmのS n O2被151i13aと。
Snに対して■)が約1 st、%含まれた厚み約0.
3μmのSnO2被股13bとからなる厚み0.4μl
の透明電極工3を作った。さらに、この上に上記実施例
と同様の非晶質半導体N14と背面型&15を設け、非
晶質シリコン太陽電池を作った。
3μmのSnO2被股13bとからなる厚み0.4μl
の透明電極工3を作った。さらに、この上に上記実施例
と同様の非晶質半導体N14と背面型&15を設け、非
晶質シリコン太陽電池を作った。
この実施例において、透明電極13のシート抵抗は、2
9Ω/口、その平均透過率は、 87.0%であった。
9Ω/口、その平均透過率は、 87.0%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.0%であった。
(実施例6)
水150ccに、エチルアルコールを10ee、SnC
l 4 ・5H20を25g及びNHaFを2.64
g溶解した原料液と、水150ccに、エチルアルコ
ールを10cc、 SnCla ・5H20を25
g及びP C15を0.52g溶解した原料液を使用し
、上記実施例と同様にして、ソーダライムガラス基板1
1の上に、3nに対してFが約1 at、%含まれた
厚み約0.1μmのSnO2被膜13aと。
l 4 ・5H20を25g及びNHaFを2.64
g溶解した原料液と、水150ccに、エチルアルコ
ールを10cc、 SnCla ・5H20を25
g及びP C15を0.52g溶解した原料液を使用し
、上記実施例と同様にして、ソーダライムガラス基板1
1の上に、3nに対してFが約1 at、%含まれた
厚み約0.1μmのSnO2被膜13aと。
Snに対してPが約1 at、%含まれた厚み約0.
3μmのSnO2被膜13bとからなる厚み0.4μm
の透明電極13を作った。さらに、この上に上記実施例
と同様の非晶質半導体層14と背面電極15を設け、非
晶質シリコン太陽電池を作った。
3μmのSnO2被膜13bとからなる厚み0.4μm
の透明電極13を作った。さらに、この上に上記実施例
と同様の非晶質半導体層14と背面電極15を設け、非
晶質シリコン太陽電池を作った。
この実施例において、透明電極13のシート抵抗は、3
8Ω/口、その平均透過率は、 88.0%であった。
8Ω/口、その平均透過率は、 88.0%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.0%であった。
(実施例7)
水150ccに、エチルアルコールを10cc、3HC
I 4 ・5H20を25g、NHa Fを2.65
g。
I 4 ・5H20を25g、NHa Fを2.65
g。
5bC1,を0.48g及びMCIを2cc溶解した原
料液と、水150ccに、エチルアルコールを10cc
、5nC1a ・5H20を25g、5bC13を0
.64 g及びHCIを2cc溶解した原料液を使用し
、上記実施例と同様にして、ソーダライムガラス基板1
1の上に+Snに対してFが約1st、%、sbが約3
at、%含まれた厚み約o、ipmのSnO2被膜1
3aと、Snに対してsbが約2 at、%含まれた厚
み約0.3μmのSnO2被膜13bとからなる厚み0
.4μmの透明電極13を作った。さらに、この上に上
記実施例と同様の非晶質半導体層14と背面電極15を
設け、非晶質シリコン太陽電池を作った。
料液と、水150ccに、エチルアルコールを10cc
、5nC1a ・5H20を25g、5bC13を0
.64 g及びHCIを2cc溶解した原料液を使用し
、上記実施例と同様にして、ソーダライムガラス基板1
1の上に+Snに対してFが約1st、%、sbが約3
at、%含まれた厚み約o、ipmのSnO2被膜1
3aと、Snに対してsbが約2 at、%含まれた厚
み約0.3μmのSnO2被膜13bとからなる厚み0
.4μmの透明電極13を作った。さらに、この上に上
記実施例と同様の非晶質半導体層14と背面電極15を
設け、非晶質シリコン太陽電池を作った。
この実施例において、透明電極13のシーI−抵抗は、
34Ω/口、その平均透過率は、84.5%であった。
34Ω/口、その平均透過率は、84.5%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.2%であった。
(実施例8)
水150ccに、エチルアルコールを1Qcc、SnC
1a ・5H20を25g、NHa Fを5.29g
及びHBrを3cc溶解した原料液と、水1.50cc
に。
1a ・5H20を25g、NHa Fを5.29g
及びHBrを3cc溶解した原料液と、水1.50cc
に。
エチルアルコールを10cc、 SnCla ・5
H20を25g及びP C1,5を0.5g溶解した原
料液を使用し、上記実施例と同様にして、ソーダライム
ガラス基板11の上に、Snに対してFが約2 at、
%、Brが約0.6 at、%含まれた厚み約0、Lc
rmのSnO2被膜13aと、Snに対してPが約1
st、%含まれた厚み約0.3μIのSnO2被膜13
bとからなる厚み0.4μmの透明電極13を作った。
H20を25g及びP C1,5を0.5g溶解した原
料液を使用し、上記実施例と同様にして、ソーダライム
ガラス基板11の上に、Snに対してFが約2 at、
%、Brが約0.6 at、%含まれた厚み約0、Lc
rmのSnO2被膜13aと、Snに対してPが約1
st、%含まれた厚み約0.3μIのSnO2被膜13
bとからなる厚み0.4μmの透明電極13を作った。
さらに、この上に上記実施例さ同様の非晶質半導体理工
4と背面電極15を設け。
4と背面電極15を設け。
非晶質シリコン太陽電池を作った。
この実施例において、透明電極13のシート抵抗は、2
4Ω/口、その平均透過率は、 88.5%であった。
4Ω/口、その平均透過率は、 88.5%であった。
また、太陽電池の初期変換効率は、8.1%であった。
以上の結果をまとめると、下表の通りである。
この発明において、透明電極13に含まれるFやsbま
たはBrの含有量は、上記実施例を含む幾つかの実験等
に基づいて定められたものであるが、これら含有量が上
記のように定められた理由の概要を述べると9次の通り
である。
たはBrの含有量は、上記実施例を含む幾つかの実験等
に基づいて定められたものであるが、これら含有量が上
記のように定められた理由の概要を述べると9次の通り
である。
(1)透明電極13を構成する下層のSnO2股13a
に含まれるFが、Snに対してl at、%未満では、
透明電極13の抵抗値が高くなり、太陽電池の変換効率
が低下する。
に含まれるFが、Snに対してl at、%未満では、
透明電極13の抵抗値が高くなり、太陽電池の変換効率
が低下する。
また、Fが、Snに対して3 at、%を越えると、透
明電極13の光の透過率が低下し、やはり太陽電池の変
換効率が低下する。
明電極13の光の透過率が低下し、やはり太陽電池の変
換効率が低下する。
(2)透明電極13を構成する上層のSnO2膜13b
に含まれるSb、Pの少なくとも一方が。
に含まれるSb、Pの少なくとも一方が。
Snに対して1 at、%未満では、透明電極13の抵
抗値が高くなり、太陽電池の変換効率が低下する。
抗値が高くなり、太陽電池の変換効率が低下する。
また、これらが、Snに対して3 at、%を越えると
、透明電極13の光の透過率が急激に低下し、太陽電池
の変換効率が低下する。
、透明電極13の光の透過率が急激に低下し、太陽電池
の変換効率が低下する。
なお、実施例7,8のように、Fを含んだSnO2膜1
3aには、Sb、Brの少なくとも一方を含ませること
もできる。これらSb。
3aには、Sb、Brの少なくとも一方を含ませること
もできる。これらSb。
Brの含有量は、Snに対して0.5〜3 at、%の
範囲が適当である。
範囲が適当である。
以上説明した通り、この発明によれば、ソーダライムガ
ラス基板11の表面に5i02膜のコーテイング膜を施
さず、この上に直に透明電極13を設けて構成されノ、
二非晶58T′平導体太陽電池において、従来課題とな
っていた。透明電極13の抵抗値の増大、透過率の低下
といった問題が解消される。これによって、ソーダラ・
イムガラス基板の表面にコーテイング膜を施す必要がな
くなるという効果が得られる。
ラス基板11の表面に5i02膜のコーテイング膜を施
さず、この上に直に透明電極13を設けて構成されノ、
二非晶58T′平導体太陽電池において、従来課題とな
っていた。透明電極13の抵抗値の増大、透過率の低下
といった問題が解消される。これによって、ソーダラ・
イムガラス基板の表面にコーテイング膜を施す必要がな
くなるという効果が得られる。
第1図は、この発明の実施例を示す非晶質半導体太陽電
池の概念図、第2図は透明電極の光の透過率と光の波長
との関係を示すグラフ、第3図は非晶質半導体太陽電池
の従来例を示す概念図である。 1トーソーダライムガラス基板 13−透明電極13a
、 13b −−8n O2膜 14−非晶質半導体
層15−・背面電極 発明者 三宿 俊雄 同 上 藤 巻 ゆき子 同 上 飯1)英世
池の概念図、第2図は透明電極の光の透過率と光の波長
との関係を示すグラフ、第3図は非晶質半導体太陽電池
の従来例を示す概念図である。 1トーソーダライムガラス基板 13−透明電極13a
、 13b −−8n O2膜 14−非晶質半導体
層15−・背面電極 発明者 三宿 俊雄 同 上 藤 巻 ゆき子 同 上 飯1)英世
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ソーダライムガラス基板11の上に、透明電極13
、非晶質半導体層14、背面電極15が順次設けられた
非晶質半導体太陽電池において、ソーダライムガラス基
板11の上に直に透明電極13が設けられ、この透明電
極13が、Snに対してFが1〜3at.%含有された
SnO_2膜13aと、Snに対してSb、Pの少なく
とも一方が1〜3at.%含有されたSnO_213b
膜とからなるからなることを特徴とする非晶質半導体太
陽電池。 2、Fを1〜3at.%含有したSnO_2膜13aが
、Sb、Brの少なくとも一方を0.5〜3at.%含
有している特許請求の範囲第1項記載の非晶質半導体太
陽電池。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60214226A JPS6273782A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 非晶質半導体太陽電池 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60214226A JPS6273782A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 非晶質半導体太陽電池 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6273782A true JPS6273782A (ja) | 1987-04-04 |
| JPH0564869B2 JPH0564869B2 (ja) | 1993-09-16 |
Family
ID=16652284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60214226A Granted JPS6273782A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 非晶質半導体太陽電池 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6273782A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6472570A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-17 | Sanyo Electric Co | Photovoltaic device |
| JPH01149485A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
| US5091764A (en) * | 1988-09-30 | 1992-02-25 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Semiconductor device having a transparent electrode and amorphous semiconductor layers |
| WO2019146119A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 株式会社 東芝 | 太陽電池、多接合型太陽電池、太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
| WO2019146120A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 株式会社 東芝 | 太陽電池、多接合型太陽電池、太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP60214226A patent/JPS6273782A/ja active Granted
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6472570A (en) * | 1987-09-11 | 1989-03-17 | Sanyo Electric Co | Photovoltaic device |
| JPH01149485A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
| US5091764A (en) * | 1988-09-30 | 1992-02-25 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Semiconductor device having a transparent electrode and amorphous semiconductor layers |
| WO2019146119A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 株式会社 東芝 | 太陽電池、多接合型太陽電池、太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
| WO2019146120A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2019-08-01 | 株式会社 東芝 | 太陽電池、多接合型太陽電池、太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
| JPWO2019146119A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2020-02-06 | 株式会社東芝 | 太陽電池、多接合型太陽電池、太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
| JPWO2019146120A1 (ja) * | 2018-01-29 | 2020-02-06 | 株式会社東芝 | 太陽電池、多接合型太陽電池、太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
| US11557688B2 (en) | 2018-01-29 | 2023-01-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Solar cell, multi-junction solar cell, solar cell module, and solar power generation system |
| US11563132B2 (en) | 2018-01-29 | 2023-01-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Solar cell, multi-junction solar cell, solar cell module, and photovoltaic system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0564869B2 (ja) | 1993-09-16 |
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