JPS627488B2 - - Google Patents
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- JPS627488B2 JPS627488B2 JP53154622A JP15462278A JPS627488B2 JP S627488 B2 JPS627488 B2 JP S627488B2 JP 53154622 A JP53154622 A JP 53154622A JP 15462278 A JP15462278 A JP 15462278A JP S627488 B2 JPS627488 B2 JP S627488B2
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- valve
- transfer valve
- diluent
- liquid
- sample
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/10—Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices
- G01N35/1095—Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices for supplying the samples to flow-through analysers
- G01N35/1097—Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices for supplying the samples to flow-through analysers characterised by the valves
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- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Multiple-Way Valves (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般的には液体移送系に関し、更に詳
細には液体移送及び希釈系に用いるための好適に
は回転作動形式の液体移送弁に関するものであ
る。
細には液体移送及び希釈系に用いるための好適に
は回転作動形式の液体移送弁に関するものであ
る。
液体移送弁に於て、単一の試料の少なくとも２
つの異なつた量を同量の希釈剤と共に２つの異な
つた位置へ同時に送ることを可能となして前記位
置で前記希釈液に対して試験をできるようになす
如き液体移送弁は既知である。作業者は別個の
弁、流体管路等を用いることなしに単一試料又は
予め希釈した試料の何れかについての作業を選択
することができる。１つの従来の弁は直線状に可
動の、いわゆるスプール弁であり、このスプール
弁は製作と維持に費用がかかるものであつた。
つの異なつた量を同量の希釈剤と共に２つの異な
つた位置へ同時に送ることを可能となして前記位
置で前記希釈液に対して試験をできるようになす
如き液体移送弁は既知である。作業者は別個の
弁、流体管路等を用いることなしに単一試料又は
予め希釈した試料の何れかについての作業を選択
することができる。１つの従来の弁は直線状に可
動の、いわゆるスプール弁であり、このスプール
弁は製作と維持に費用がかかるものであつた。
従来の弁の作業機能のすべてを遂行できてしか
も製作と維持の費用が安い改良した弁構造を提供
することは有利である。かかる弁組立体は構造を
コンパクトとなしかつ分解が簡単で、保存中の掃
除が簡単で、再組立ても容易なものとするべきで
ある。
も製作と維持の費用が安い改良した弁構造を提供
することは有利である。かかる弁組立体は構造を
コンパクトとなしかつ分解が簡単で、保存中の掃
除が簡単で、再組立ても容易なものとするべきで
ある。
従つて本発明により、希釈剤供給源をもち、一
方の区分試料の量が他方の区分試料の量と異なつ
ている少なくとも２個の試料部分を前記希釈剤供
給源から供給するための希釈系に使用する液体移
送弁であつて、或る一定量の液体試料を受入れか
つ隔離するため及び前記量の試料を或る一定量の
希釈剤と結合させて正確な所望の第一の希釈液を
作るための第一の移送弁部分と、或る第二の量の
液体試料を受入れかつ隔離するため及び前記第二
の量の液体試料を或る一定量の希釈剤と結合させ
て第二の希釈液を作るための第二の移送弁部分と
を有する液体移送弁において、前記第一移送弁部
分が液体移送弁の内部に形成した正確な容積をも
つ区分通路をもち、前記第二移送弁部分が正確な
内部容積をもつ外部の中空のループ部材をもつ如
き液体移送弁が提供される。
方の区分試料の量が他方の区分試料の量と異なつ
ている少なくとも２個の試料部分を前記希釈剤供
給源から供給するための希釈系に使用する液体移
送弁であつて、或る一定量の液体試料を受入れか
つ隔離するため及び前記量の試料を或る一定量の
希釈剤と結合させて正確な所望の第一の希釈液を
作るための第一の移送弁部分と、或る第二の量の
液体試料を受入れかつ隔離するため及び前記第二
の量の液体試料を或る一定量の希釈剤と結合させ
て第二の希釈液を作るための第二の移送弁部分と
を有する液体移送弁において、前記第一移送弁部
分が液体移送弁の内部に形成した正確な容積をも
つ区分通路をもち、前記第二移送弁部分が正確な
内部容積をもつ外部の中空のループ部材をもつ如
き液体移送弁が提供される。
本発明の液体移送弁は１個の回転部品を回転さ
せて２個の異なつた量の試料を分割採取する３つ
の経路をもつている。これは中心の円板中の区分
弁通路と、通路Ｐ１３，Ｐ１４と、２個の外部の
ループＰ１５，Ｐ１７である。３つ計られる部
分、Ｐ１３とＰ１４で計られる通常の少量部分
と、中心弁素子の回転によつて区分される部分が
ある。Ｕ形の管Ｐ１５内の部分が計られ、１つの
素子の回転によつて移送され、いわゆる前希釈材
料が計られ、Ｕ形の管Ｐ１７から送り出される。
せて２個の異なつた量の試料を分割採取する３つ
の経路をもつている。これは中心の円板中の区分
弁通路と、通路Ｐ１３，Ｐ１４と、２個の外部の
ループＰ１５，Ｐ１７である。３つ計られる部
分、Ｐ１３とＰ１４で計られる通常の少量部分
と、中心弁素子の回転によつて区分される部分が
ある。Ｕ形の管Ｐ１５内の部分が計られ、１つの
素子の回転によつて移送され、いわゆる前希釈材
料が計られ、Ｕ形の管Ｐ１７から送り出される。
上記すべての計量と移送は弁中に設けた通路を
用いて行なわれる。
用いて行なわれる。
スロツト構造の結果として弁は小型となる。こ
の弁はスプール形に組立てるか、又は回転弁とし
て円板２２，２０，２４を向合わせて組立てる。
の弁はスプール形に組立てるか、又は回転弁とし
て円板２２，２０，２４を向合わせて組立てる。
以下、本発明の好適実施例を図に基づき詳述す
る。
る。
第１図には、例えば希釈及び試験系統に用いる
本発明の液体移送弁の概略の作業が図式的に示さ
れている。
本発明の液体移送弁の概略の作業が図式的に示さ
れている。
図示の流体処理用の一般的系統は血球（blood
cell）特性の各種パラメータを決定するための米
国特許第3656508号中に開示する原理に従つて作
動する試験装置に連結される。第一試験装置はブ
ロツク１４で示し、第二試験装置はブロツク１６
により示す。実際の希釈、即ち必要時に於ける反
応剤の混合と添加は各試験装置１４，１６の１つ
の容器中で行なう。本発明による液体移送弁は流
体管路により前記試験装置に連結する。これにつ
いては本発明の弁の作動に関連して後述する。
cell）特性の各種パラメータを決定するための米
国特許第3656508号中に開示する原理に従つて作
動する試験装置に連結される。第一試験装置はブ
ロツク１４で示し、第二試験装置はブロツク１６
により示す。実際の希釈、即ち必要時に於ける反
応剤の混合と添加は各試験装置１４，１６の１つ
の容器中で行なう。本発明による液体移送弁は流
体管路により前記試験装置に連結する。これにつ
いては本発明の弁の作動に関連して後述する。
説明の簡単化のため、第１図では液体移送弁１
０の作動時の各通路や孔等の相互関係を示すため
に線で描いているが、この弁は中心の、回転可動
の第一の移送弁部分即ち弁要素２０を１対の同軸
配置とした外部の不動の弁要素、即ち円板２２，
２４間に挟んだ円板として形成する。不動の円板
２２と２４は間に薄い中心の弁要素即ち円板２０
を入れるのに十分なだけ離して配置する。円板２
４は第二の移送弁部分を構成する。円板２２，２
４は弁要素２０の両面２０′と２０″に掛合する面
２２′と２４′を有する。面２０′，２０″，２２′
及び２４′は注意深く機械加工し、熱処理により
応力を除去し、耐酸性の、酸化クロム−酸化アル
ミニウム被膜で被覆し、かくして摩擦効果を減少
し、摩擦効果、結合等も又減少せしめられる。
０の作動時の各通路や孔等の相互関係を示すため
に線で描いているが、この弁は中心の、回転可動
の第一の移送弁部分即ち弁要素２０を１対の同軸
配置とした外部の不動の弁要素、即ち円板２２，
２４間に挟んだ円板として形成する。不動の円板
２２と２４は間に薄い中心の弁要素即ち円板２０
を入れるのに十分なだけ離して配置する。円板２
４は第二の移送弁部分を構成する。円板２２，２
４は弁要素２０の両面２０′と２０″に掛合する面
２２′と２４′を有する。面２０′，２０″，２２′
及び２４′は注意深く機械加工し、熱処理により
応力を除去し、耐酸性の、酸化クロム−酸化アル
ミニウム被膜で被覆し、かくして摩擦効果を減少
し、摩擦効果、結合等も又減少せしめられる。
円板２０，２２，２４の各々は中心通路をも
つ。これらの円板２０，２２，２４に形成した中
心又は軸線方向通路は同じ直径をもつ。これらの
円板は後述する如くみぞ穴付きスピンドル上に同
軸的に取付けられる。
つ。これらの円板２０，２２，２４に形成した中
心又は軸線方向通路は同じ直径をもつ。これらの
円板は後述する如くみぞ穴付きスピンドル上に同
軸的に取付けられる。
第２，３，３Ａ図を参照すれば、１対の平行な
軸線方向の区分通路Ｐ１′とＰ２′が外部の円板２
２に形成される。通路Ｐ１′とＰ２′の中心軸は前
記円板２２の中心軸線から同じ距離“ａ”だけ離
れている。通路Ｐ１′とＰ２′の中心軸は距離
“ｂ”だけ離れている。概してアーチ形の１対の
貫通したみぞ穴２６と２８が前記円板２２に形成
される。円周切欠き３０も又円板２２に形成され
る。夫々のみぞ穴２６，２８の外壁２６′，２
８′は円板２２の中心通路３２と同心の円に沿つ
て位置しており、一方前記みぞ穴２６，２８の内
壁の部分２６″，２８″のみが前記中心通路３２と
同心の円に沿つて夫々位置しており、前記内壁の
残りの部分は前記みぞ穴の前記壁部分２６″と２
８″の一端と外壁２６′，２８′の一端を一直線に
結んで形成している。適当な取付具Ｐ１″とＰ
２″は前記通路Ｐ１′とＰ２′と連通する状態に円
板２２上に着座するように備え、これらの通路は
前記円板２２の面２２″から延びるように配置す
る。
軸線方向の区分通路Ｐ１′とＰ２′が外部の円板２
２に形成される。通路Ｐ１′とＰ２′の中心軸は前
記円板２２の中心軸線から同じ距離“ａ”だけ離
れている。通路Ｐ１′とＰ２′の中心軸は距離
“ｂ”だけ離れている。概してアーチ形の１対の
貫通したみぞ穴２６と２８が前記円板２２に形成
される。円周切欠き３０も又円板２２に形成され
る。夫々のみぞ穴２６，２８の外壁２６′，２
８′は円板２２の中心通路３２と同心の円に沿つ
て位置しており、一方前記みぞ穴２６，２８の内
壁の部分２６″，２８″のみが前記中心通路３２と
同心の円に沿つて夫々位置しており、前記内壁の
残りの部分は前記みぞ穴の前記壁部分２６″と２
８″の一端と外壁２６′，２８′の一端を一直線に
結んで形成している。適当な取付具Ｐ１″とＰ
２″は前記通路Ｐ１′とＰ２′と連通する状態に円
板２２上に着座するように備え、これらの通路は
前記円板２２の面２２″から延びるように配置す
る。
次に中心の弁要素即ち円板２０につき説明す
る。第２，４，４Ａ図に示す如く、円板２０は中
心の軸線方向通路３４を形成されている。半径方
向孔３６は円板２０の外周からその中心通路３４
に延びるように形成され、ピン３８はその中に圧
入嵌合され、その最内端３８′は前記通路３４に
入つている。円板２０は円周切欠き４０をもつ。
切欠き４０は切欠き３０及び類似の切欠き４４の
長さより大きいかなりの円周方向長さをもち、前
記切欠き４４は後述する目的で外部の円板２４に
形成されている。
る。第２，４，４Ａ図に示す如く、円板２０は中
心の軸線方向通路３４を形成されている。半径方
向孔３６は円板２０の外周からその中心通路３４
に延びるように形成され、ピン３８はその中に圧
入嵌合され、その最内端３８′は前記通路３４に
入つている。円板２０は円周切欠き４０をもつ。
切欠き４０は切欠き３０及び類似の切欠き４４の
長さより大きいかなりの円周方向長さをもち、前
記切欠き４４は後述する目的で外部の円板２４に
形成されている。
１対の平行孔Ｐ１３とＰ１４は円板２０に貫通
形成され、これらの中心軸は円板２０を中心軸か
ら同じ距離“ａ”だけ離れ、お互いからは距離
“ｂ”だけ離れている。孔Ｐ１４は孔Ｐ１３より
僅かに大きい直径をもつ。
形成され、これらの中心軸は円板２０を中心軸か
ら同じ距離“ａ”だけ離れ、お互いからは距離
“ｂ”だけ離れている。孔Ｐ１４は孔Ｐ１３より
僅かに大きい直径をもつ。
１対の平行な貫通孔Ｐ１５′とＰ１５″は円板２
０を貫通して作られ、この孔の中心軸は前記孔Ｐ
１５′とＰ１５″の軸中心から距離“ｃ”だけ離れ
た軸中心をもち、これらはお互に距離“ｄ”だけ
離れている。好適にはステンレス鋼の如き化学的
耐性をもつ材料から作られかつ均等な精密な内部
容積を画成する均等な孔をもつＵ形中空管の予定
長さの形状をもつ中空ループＰ１５は円板２０の
面２０′に定着され、その自由端は前記孔Ｐ１
５′とＰ１５″と封鎖状に連通している。
０を貫通して作られ、この孔の中心軸は前記孔Ｐ
１５′とＰ１５″の軸中心から距離“ｃ”だけ離れ
た軸中心をもち、これらはお互に距離“ｄ”だけ
離れている。好適にはステンレス鋼の如き化学的
耐性をもつ材料から作られかつ均等な精密な内部
容積を画成する均等な孔をもつＵ形中空管の予定
長さの形状をもつ中空ループＰ１５は円板２０の
面２０′に定着され、その自由端は前記孔Ｐ１
５′とＰ１５″と封鎖状に連通している。
１対の浅い通路Ｐ１６′とＰ１６″は円板２０に
形成され、その面２０″にのみ開口している。前
記通路Ｐ１６′とＰ１６″の中心軸はお互いに距離
“ｄ”だけ離れ、前記中心軸は前記円板２０の中
心軸から距離“ｃ”だけ離れている。通路Ｐ１
５′の中心軸は通路Ｐ１６′の中心軸から距離
“ｅ”だけ離れ、一方通路Ｐ１５″の中心軸は通路
Ｐ１６″の中心軸から同じ距離“ｅ”だけ離れて
いる。
形成され、その面２０″にのみ開口している。前
記通路Ｐ１６′とＰ１６″の中心軸はお互いに距離
“ｄ”だけ離れ、前記中心軸は前記円板２０の中
心軸から距離“ｃ”だけ離れている。通路Ｐ１
５′の中心軸は通路Ｐ１６′の中心軸から距離
“ｅ”だけ離れ、一方通路Ｐ１５″の中心軸は通路
Ｐ１６″の中心軸から同じ距離“ｅ”だけ離れて
いる。
直線の内部通路Ｐ１６は円板２０に形成され
て、前記円板２０の円周表面から延びており、通
路Ｐ１６′とＰ１６″の内端間を連通させていてこ
れを連絡せしめている。プラグ４２は円板２０の
円周から通路Ｐ１６を閉鎖する。
て、前記円板２０の円周表面から延びており、通
路Ｐ１６′とＰ１６″の内端間を連通させていてこ
れを連絡せしめている。プラグ４２は円板２０の
円周から通路Ｐ１６を閉鎖する。
第三組の平行な一対の通路Ｐ１７′とＰ１７″も
又円板２０に形成され、それらの中心軸は円板２
０の中心軸から半径方向に距離“ｃ”だけ離れて
いる。通路Ｐ１７″は通路Ｐ１５′の位置と正反対
の位置に形成され、一方通路Ｐ１７′は通路Ｐ１
５″の位置と正反対の位置に形成される。
又円板２０に形成され、それらの中心軸は円板２
０の中心軸から半径方向に距離“ｃ”だけ離れて
いる。通路Ｐ１７″は通路Ｐ１５′の位置と正反対
の位置に形成され、一方通路Ｐ１７′は通路Ｐ１
５″の位置と正反対の位置に形成される。
内部ギヤラリー（gallery）Ｐ１８は円板２０
の面２０″内にアーチ状みぞＰ１８′を形成するこ
とにより弁１０内に画成され、前記みぞは終点Ｐ
１８へ半径方向内方へ延びる端延長部Ｐ１８″を
もつ。前記みぞの端は円板２０の中心軸と同心の
円と一致しかつこの円上に横たわる中心点をもつ
円内に位置する半円筒形壁により画成される。前
記端の中心点対中心点間の距離は前記通路Ｐ１
７′とＰ１７″の中心軸間の距離と同じである。み
ぞＰ１８のなす円弧は円板２０の中心軸と同心の
円に沿つて位置する。或る長さの均等な横断面の
Ｕ形中空管の形をなす第二の中空ループＰ１７も
又好適にはステンレス鋼の如き化学的耐性をもつ
材料から形成される。ループＰ１７は精密な一定
の内部容積をもち、前記通路Ｐ１７′，１７″と封
鎖状に連通する状態に円板２０の面２０′に定着
される。第二のループＰ１７は第一のループＰ１
５より大きな内直径と大きな長さをもつ。かくし
て、ループＰ１７の端によつて占められない通路
Ｐ１７′，Ｐ１７″の部分を含んで第二ループＰ１
７内部に含まれる容積は（ループＰ１５の端によ
つて占められない通路Ｐ１５′，Ｐ１５″の部分を
含んで）第一ループＰ１５内部に含まれる容積と
異なり、好適にはそれより大きい。
の面２０″内にアーチ状みぞＰ１８′を形成するこ
とにより弁１０内に画成され、前記みぞは終点Ｐ
１８へ半径方向内方へ延びる端延長部Ｐ１８″を
もつ。前記みぞの端は円板２０の中心軸と同心の
円と一致しかつこの円上に横たわる中心点をもつ
円内に位置する半円筒形壁により画成される。前
記端の中心点対中心点間の距離は前記通路Ｐ１
７′とＰ１７″の中心軸間の距離と同じである。み
ぞＰ１８のなす円弧は円板２０の中心軸と同心の
円に沿つて位置する。或る長さの均等な横断面の
Ｕ形中空管の形をなす第二の中空ループＰ１７も
又好適にはステンレス鋼の如き化学的耐性をもつ
材料から形成される。ループＰ１７は精密な一定
の内部容積をもち、前記通路Ｐ１７′，１７″と封
鎖状に連通する状態に円板２０の面２０′に定着
される。第二のループＰ１７は第一のループＰ１
５より大きな内直径と大きな長さをもつ。かくし
て、ループＰ１７の端によつて占められない通路
Ｐ１７′，Ｐ１７″の部分を含んで第二ループＰ１
７内部に含まれる容積は（ループＰ１５の端によ
つて占められない通路Ｐ１５′，Ｐ１５″の部分を
含んで）第一ループＰ１５内部に含まれる容積と
異なり、好適にはそれより大きい。
第２，５，５Ａ図を参照すれば、他方の外部の
円板２４は面２４′を有し、又面２０′，２０″上
に備えた被膜と同じ耐摩耗性、耐酸性被膜と外部
の円板２２の面２２″に備えた被膜をもつてい
る。反対側の面２４″は取付具の形のポートをも
ち、弁１０の外部へ連通するようになしている。
円板２４は面２４′を有し、又面２０′，２０″上
に備えた被膜と同じ耐摩耗性、耐酸性被膜と外部
の円板２２の面２２″に備えた被膜をもつてい
る。反対側の面２４″は取付具の形のポートをも
ち、弁１０の外部へ連通するようになしている。
一組の平行な貫通した通路Ｐ３′とＰ４′は円板
２４中の或る位置に形成して、これらが円板２２
に形成した通路Ｐ１′，Ｐ２′と整列して該弁を通
る第一の組の流路を限定するようになす。中心円
板の第一位置で、通路Ｐ１３、即ち配量通路のみ
が道路Ｐ２′，Ｐ４′により限定された流路と連通
し、一方前記中心円板２０の第二位置で、通路Ｐ
１３は整列した通路Ｐ１′，Ｐ３′により限定した
流路と連通し、通路Ｐ１４は整列した通路Ｐ
２′，Ｐ４′により限定した流路から外れて流れを
阻止する。
２４中の或る位置に形成して、これらが円板２２
に形成した通路Ｐ１′，Ｐ２′と整列して該弁を通
る第一の組の流路を限定するようになす。中心円
板の第一位置で、通路Ｐ１３、即ち配量通路のみ
が道路Ｐ２′，Ｐ４′により限定された流路と連通
し、一方前記中心円板２０の第二位置で、通路Ｐ
１３は整列した通路Ｐ１′，Ｐ３′により限定した
流路と連通し、通路Ｐ１４は整列した通路Ｐ
２′，Ｐ４′により限定した流路から外れて流れを
阻止する。
第二組の平行な貫通通路Ｐ５，Ｐ７は円板２４
に形成される。第三組の同じ直径の平行な貫通通
路Ｐ６，Ｐ８も又前記円板２４に形成されてい
る。通路Ｐ５，Ｐ７は中心円板２０が第一位置に
ある間第一ループＰ１５と連通し、又中心円板２
０が第二位置にある間内部通路Ｐ１６と連通する
ように配置している。
に形成される。第三組の同じ直径の平行な貫通通
路Ｐ６，Ｐ８も又前記円板２４に形成されてい
る。通路Ｐ５，Ｐ７は中心円板２０が第一位置に
ある間第一ループＰ１５と連通し、又中心円板２
０が第二位置にある間内部通路Ｐ１６と連通する
ように配置している。
第二組の平行な通路Ｐ５，Ｐ７は第三流路を限
定し、一方第三組の平行な通路Ｐ６，Ｐ８は第四
流路を限定する。第一の中空ループＰ１５はかく
して円板２０が第一即ち装てん位置にある間第三
流路と連通する。ループＰ１５は円板２０が第二
即ち送出位置にある間第四流路と連通する。第一
ループＰ１５と第四流路間の連通が生ずるのと同
時に、内部通路Ｐ１６は第三流路と連通状態に置
かれる。
定し、一方第三組の平行な通路Ｐ６，Ｐ８は第四
流路を限定する。第一の中空ループＰ１５はかく
して円板２０が第一即ち装てん位置にある間第三
流路と連通する。ループＰ１５は円板２０が第二
即ち送出位置にある間第四流路と連通する。第一
ループＰ１５と第四流路間の連通が生ずるのと同
時に、内部通路Ｐ１６は第三流路と連通状態に置
かれる。
第四組の平行な貫通通路Ｐ９，Ｐ１１は円板２
４を設け、第五組の平行な貫通通路Ｐ１０，Ｐ１
２も又前記円板２４に形成する。第四組の通路Ｐ
９，Ｐ１１は第五流路を生ずる。第五組の平行な
通路Ｐ１０，Ｐ１２は第六組の流路を生ずる。第
四組と第五組の貫通通路は円板２４に配置して、
第二の中空ループＰ１７が円板２０が第一位置に
ある間に第六流路と連通するようになし、該円板
が第二位置へ移されると中空ループＰ１７は第五
流路に入る状態に置かれ、一方ギヤラリーＰ１８
は第六流路内に置かれる。第二の中空ループＰ１
７、ギヤラリーＰ１８、第五及び第六流路は液体
試料の供給源が予め希釈した試料であるときにの
み用いられるという事実から見れば、第一乃至第
四流路はかかる予め希釈した試料を使用するとき
には用いられない。
４を設け、第五組の平行な貫通通路Ｐ１０，Ｐ１
２も又前記円板２４に形成する。第四組の通路Ｐ
９，Ｐ１１は第五流路を生ずる。第五組の平行な
通路Ｐ１０，Ｐ１２は第六組の流路を生ずる。第
四組と第五組の貫通通路は円板２４に配置して、
第二の中空ループＰ１７が円板２０が第一位置に
ある間に第六流路と連通するようになし、該円板
が第二位置へ移されると中空ループＰ１７は第五
流路に入る状態に置かれ、一方ギヤラリーＰ１８
は第六流路内に置かれる。第二の中空ループＰ１
７、ギヤラリーＰ１８、第五及び第六流路は液体
試料の供給源が予め希釈した試料であるときにの
み用いられるという事実から見れば、第一乃至第
四流路はかかる予め希釈した試料を使用するとき
には用いられない。
第１図は線図的に示す系統に取付けた場合、液
体移送弁１０と該希釈及び試験系の要素間に通じ
る流体管路が形成される。管路５０，５２は通路
Ｐ１，Ｐ９を供給源５４に連結し、希釈剤の予定
量を前記通路Ｐ１とＰ９に分配するようになす。
流体管路５６は通路Ｐ４を真空源５８と希釈剤供
給源６０に交互に適当な弁手段を経て連結する。
管路６２は通路Ｐ６を、希釈剤の所定量を通路Ｐ
６分配するために、希釈剤分配手段６４と連結す
る。管路６６は通路Ｐ５と６８と７０で夫々示す
真空源と希釈剤供給源に適当な弁手段７２を経て
交互に連結する。管路７４は通路１２を適当な
弁、ここではピンチバルブ７６を経て試験装置１
４と連結する。
体移送弁１０と該希釈及び試験系の要素間に通じ
る流体管路が形成される。管路５０，５２は通路
Ｐ１，Ｐ９を供給源５４に連結し、希釈剤の予定
量を前記通路Ｐ１とＰ９に分配するようになす。
流体管路５６は通路Ｐ４を真空源５８と希釈剤供
給源６０に交互に適当な弁手段を経て連結する。
管路６２は通路Ｐ６を、希釈剤の所定量を通路Ｐ
６分配するために、希釈剤分配手段６４と連結す
る。管路６６は通路Ｐ５と６８と７０で夫々示す
真空源と希釈剤供給源に適当な弁手段７２を経て
交互に連結する。管路７４は通路１２を適当な
弁、ここではピンチバルブ７６を経て試験装置１
４と連結する。
管路７８は通路Ｐ３，Ｐ１１を夫々試験装置１
６に通じる管路８２に連結する。管路８４，８６
は夫々通路Ｐ２，Ｐ７を管路９０を経て全血液吸
出器８８と連結する。流体管路９２は通路Ｐ８を
試験装置１４に連結する。
６に通じる管路８２に連結する。管路８４，８６
は夫々通路Ｐ２，Ｐ７を管路９０を経て全血液吸
出器８８と連結する。流体管路９２は通路Ｐ８を
試験装置１４に連結する。
図示の系統は、試験装置１４は白血球（white
blood cell）パラメータの測定値を与えるが、試
験装置１６は赤血球パラメータの測定値を与え
る。適当な混合気泡は供給源Ａから装置１４と１
６の混合容器に送られ、一方リシング溶液
（Iysing solution）はその供給源Ｂから装置１４
へ送られる。適当な導管が夫々の試験装置１４と
１６から排出部へ通じている。
blood cell）パラメータの測定値を与えるが、試
験装置１６は赤血球パラメータの測定値を与え
る。適当な混合気泡は供給源Ａから装置１４と１
６の混合容器に送られ、一方リシング溶液
（Iysing solution）はその供給源Ｂから装置１４
へ送られる。適当な導管が夫々の試験装置１４と
１６から排出部へ通じている。
弁１０は中心の円板２０の角度的移動により２
つの位置間で作動する。第一位置は装てん位置を
称することができる。装てんは試料供給源である
全血液吸出器８８から、弁１０を経てこの供給源
を真空源へ連結することにより、行なわれるた
め、第一位置は吸出位置とも称することができ
る。送出即ち分配は中心の円板２０を第二位置に
回動させた後に所定量の希釈剤を弁の通路に送る
ことにより行なわれる。この第二位置は分配又は
送出位置と称することができる。前記送出位置
で、区分通路Ｐ１３と第一ループＰ１５の内部に
含まれた分量の試料は夫々試験装置１６と試験装
置１４へ押進められる。
つの位置間で作動する。第一位置は装てん位置を
称することができる。装てんは試料供給源である
全血液吸出器８８から、弁１０を経てこの供給源
を真空源へ連結することにより、行なわれるた
め、第一位置は吸出位置とも称することができ
る。送出即ち分配は中心の円板２０を第二位置に
回動させた後に所定量の希釈剤を弁の通路に送る
ことにより行なわれる。この第二位置は分配又は
送出位置と称することができる。前記送出位置
で、区分通路Ｐ１３と第一ループＰ１５の内部に
含まれた分量の試料は夫々試験装置１６と試験装
置１４へ押進められる。
前記含まれた分量は一掃され、又はその後希釈
剤が導入されて、試料供給源８８に通じる流路を
すすぐようになされる。通路Ｐ１４は通路Ｐ２と
Ｐ４に整列させられ、一方内部通路Ｐ１６はすす
ぎ作業中通路Ｐ６及びＰ８と連通状態に配置され
る。
剤が導入されて、試料供給源８８に通じる流路を
すすぐようになされる。通路Ｐ１４は通路Ｐ２と
Ｐ４に整列させられ、一方内部通路Ｐ１６はすす
ぎ作業中通路Ｐ６及びＰ８と連通状態に配置され
る。
予め希釈した試料を用いる場合、第二ループＰ
１７は通路Ｐ１０及びＰ１２と連通する。容器９
６内の予め希釈した試料９４は管路９８を経て通
路１０へ送られ、第二ループＰ１７を経て通路１
２へ移動し、管路７４を経て、ピンチバルブ７６
を通つて試験装置１４へ送られる。弁１０がその
送出位置即ち第二位置へ動かされたとき、第二ル
ープＰ１７は通路Ｐ９とＰ１１に連通した状態に
置かれ、前記ループＰ１７の分量の予め希釈した
試料は通路Ｐ９、ループＰ１７及び通路Ｐ１１に
より形成される流路内へ入れられ、管路８２を経
て試験装置１６へ行く。容器９６内の残つた液体
量はこれと同時に又はその後試験装置１４へギヤ
ラリーＰ１８を経て送られ、そこから第１図に示
す如く排出部へ吸引される。
１７は通路Ｐ１０及びＰ１２と連通する。容器９
６内の予め希釈した試料９４は管路９８を経て通
路１０へ送られ、第二ループＰ１７を経て通路１
２へ移動し、管路７４を経て、ピンチバルブ７６
を通つて試験装置１４へ送られる。弁１０がその
送出位置即ち第二位置へ動かされたとき、第二ル
ープＰ１７は通路Ｐ９とＰ１１に連通した状態に
置かれ、前記ループＰ１７の分量の予め希釈した
試料は通路Ｐ９、ループＰ１７及び通路Ｐ１１に
より形成される流路内へ入れられ、管路８２を経
て試験装置１６へ行く。容器９６内の残つた液体
量はこれと同時に又はその後試験装置１４へギヤ
ラリーＰ１８を経て送られ、そこから第１図に示
す如く排出部へ吸引される。
液体移送弁１０の実施例では、関連した弁要素
即ち円板に形成した通路の中心軸間の直線距離は
下記の通りであつた： ａ＝0.406、ｂ＝0.3304、ｃ＝0.625 ｄ＝0.752、ｅ＝0.508 下記部分に含まれた液体量は次の通りであつ
た： 通路Ｐ１３は1.6（マイクロリツトル）、 ループＰ１５は42.9（マイクロリツトル）、 ループＰ１７は359.55（マイクロリツトル） 通路内に含まれた分量の試料の各々を送出する
間に分配された希釈剤の量は10c.c.であり、〔イソ
ントニツク水（isontonic water）が用いられ〕、
これによつて試験装置１４と装置１６で行なう試
験に適した希釈液を作る。
即ち円板に形成した通路の中心軸間の直線距離は
下記の通りであつた： ａ＝0.406、ｂ＝0.3304、ｃ＝0.625 ｄ＝0.752、ｅ＝0.508 下記部分に含まれた液体量は次の通りであつ
た： 通路Ｐ１３は1.6（マイクロリツトル）、 ループＰ１５は42.9（マイクロリツトル）、 ループＰ１７は359.55（マイクロリツトル） 通路内に含まれた分量の試料の各々を送出する
間に分配された希釈剤の量は10c.c.であり、〔イソ
ントニツク水（isontonic water）が用いられ〕、
これによつて試験装置１４と装置１６で行なう試
験に適した希釈液を作る。
円板２０，２２，２４は不動の取付板１０２か
ら延び出るスピンドル１００上に通すことによつ
て支持される。スピンドル１００は上記不動の取
付板に対して回転可能であり、みぞ穴をもつみぞ
穴付き端部分１０４を含む。ピン３８のピン端３
８′はこのみぞ穴内に掛合して、スピンドルの回
転が円板２０を回転させてこれを第一と第二位置
間で割出し移動させるようになす。
ら延び出るスピンドル１００上に通すことによつ
て支持される。スピンドル１００は上記不動の取
付板に対して回転可能であり、みぞ穴をもつみぞ
穴付き端部分１０４を含む。ピン３８のピン端３
８′はこのみぞ穴内に掛合して、スピンドルの回
転が円板２０を回転させてこれを第一と第二位置
間で割出し移動させるようになす。
スピンドル１００に加えて、取付板１０２は不
動の長方形のブロツク状柱部材１０８を支持す
る。３つの円板２０，２２，２４がスピンドル１
００上に通されると、柱１０８は前記円板を角度
的移動を阻止するように固定するために切欠き３
０と４４を通して受入れられる。中心の円板２０
が割出しされるにつれて、柱１０８は長い円周切
欠き４０に掛かる。切欠き４０の対向端は柱１０
８と協働して、円板２０の回動限度を形成する。
動の長方形のブロツク状柱部材１０８を支持す
る。３つの円板２０，２２，２４がスピンドル１
００上に通されると、柱１０８は前記円板を角度
的移動を阻止するように固定するために切欠き３
０と４４を通して受入れられる。中心の円板２０
が割出しされるにつれて、柱１０８は長い円周切
欠き４０に掛かる。切欠き４０の対向端は柱１０
８と協働して、円板２０の回動限度を形成する。
夫々の弁要素である円板２０，２２，２４はボ
ルト１１０によりスピンドル１００上に組立てて
保持され、そのねじ山付き端はスピンドル１００
を通過し、取付板１０２の反対側にあるばね偏倚
装置に掛合する。
ルト１１０によりスピンドル１００上に組立てて
保持され、そのねじ山付き端はスピンドル１００
を通過し、取付板１０２の反対側にあるばね偏倚
装置に掛合する。
スピンドル１００は空気シリンダの往復プラン
ジヤとスピンドル間を関節ピボツト結合すること
により前記円板２０を割出しすべく回動すること
ができ、前記プランジヤの往復動を前記スピンド
ルの角度的回動に変えられる如くなされる。
ジヤとスピンドル間を関節ピボツト結合すること
により前記円板２０を割出しすべく回動すること
ができ、前記プランジヤの往復動を前記スピンド
ルの角度的回動に変えられる如くなされる。
液体移送弁１０が組立てられて作動状態にある
とき、ループＰ１５とＰ１７は夫々みぞ穴２６と
２８を貫通しその中を動くことは明らかである。
とき、ループＰ１５とＰ１７は夫々みぞ穴２６と
２８を貫通しその中を動くことは明らかである。
小容積の区分通路Ｐ１３と中間容積のループＰ
１５を用いる弁は予め希釈するループＰ１７を用
いるときには利用されない。継手、流体導管及び
連結部は調節可能であつて、小容積の区分通路Ｐ
１３の分配作業と同時にかなり大きい容積のルー
プＰ１７の使用ができるように調節することがで
きる。通路Ｐ１３、ループＰ１５及び、又はルー
プＰ１７の何れも他のものと無関係に、又は他の
ものの一方又は他方、又は両方と協働して使用す
ることができる。
１５を用いる弁は予め希釈するループＰ１７を用
いるときには利用されない。継手、流体導管及び
連結部は調節可能であつて、小容積の区分通路Ｐ
１３の分配作業と同時にかなり大きい容積のルー
プＰ１７の使用ができるように調節することがで
きる。通路Ｐ１３、ループＰ１５及び、又はルー
プＰ１７の何れも他のものと無関係に、又は他の
ものの一方又は他方、又は両方と協働して使用す
ることができる。
第１図は試験装置に供給する希釈系統に使用す
るものとして示した本発明による液体移送弁の一
般的構成を示す図、第２図は本発明による回転円
板型の液体移送弁を示す分解図、第３図は第２図
の弁の１つの外部の円板を示す平面図、第３Ａ図
は前記１つの外部円板の反対側の面を示す平面
図、第４図は第２図の弁の中心の円板の平面図
で、ループを仮想線で示すもの、第４Ａ図は前記
中心円板の反対側の面の平面図、第５図は第２図
の他方の外部の円板の平面図、第５Ａ図は前記他
方の外部円板の反対側の面を示す平面図である。 １０……液体移送弁、１２……通路、１４，１
６……試験装置、２０……中心の弁要素即ち円
板、２２，２４……外部の弁要素即ち円板、２
６，２８……みぞ穴、３０，４０……円周切欠
き、３２，３４……中心通路、３６……半径方向
の孔、３８……ピン、４４……切欠き、５０，５
２，６２，６６……管路、５６……流体管路、５
８……真空源、６０，７０……希釈剤供給源、６
４……希釈剤分配手段、６８……真空源、７６…
…ピンチバルブ、９６……容器、１００……スピ
ンドル、１０２……不動の取付板。
るものとして示した本発明による液体移送弁の一
般的構成を示す図、第２図は本発明による回転円
板型の液体移送弁を示す分解図、第３図は第２図
の弁の１つの外部の円板を示す平面図、第３Ａ図
は前記１つの外部円板の反対側の面を示す平面
図、第４図は第２図の弁の中心の円板の平面図
で、ループを仮想線で示すもの、第４Ａ図は前記
中心円板の反対側の面の平面図、第５図は第２図
の他方の外部の円板の平面図、第５Ａ図は前記他
方の外部円板の反対側の面を示す平面図である。 １０……液体移送弁、１２……通路、１４，１
６……試験装置、２０……中心の弁要素即ち円
板、２２，２４……外部の弁要素即ち円板、２
６，２８……みぞ穴、３０，４０……円周切欠
き、３２，３４……中心通路、３６……半径方向
の孔、３８……ピン、４４……切欠き、５０，５
２，６２，６６……管路、５６……流体管路、５
８……真空源、６０，７０……希釈剤供給源、６
４……希釈剤分配手段、６８……真空源、７６…
…ピンチバルブ、９６……容器、１００……スピ
ンドル、１０２……不動の取付板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 希釈剤供給源をもち、一方の区分試料の量が
他方の区分試料の量と異なつている少なくとも２
個の区分試料を前記希釈剤供給源から供給するた
めの希釈系に使用する液体移送弁であつて、或る
一定量の液体試料を受入れかつ隔離するため及び
前記量の試料を或る一定量の希釈剤と結合させて
正確な所望の第一の希釈液を作るための第一の移
送弁部分２０と、或る第二の量の液体試料を受入
れかつ隔離するため及び前記第二の量の液体試料
を或る一定量の希釈剤と結合させて第二の希釈液
を作るための第二の移送弁部分２４とを有する液
体移送弁において、前記第一移送弁部分２０が液
体移送弁の内部に形成した正確な容積をもつ区分
通路Ｐ１，Ｐ２をもち、前記第二移送弁部分２４
が正確な内部容積をもつ外部の中空のループ部材
Ｐ１５，Ｐ１７をもつことを特徴とする液体移送
弁。 ２ 前記液体移送弁が互に隔離した２個の外部の
弁要素２２，２４と内部の弁要素２０とから形成
され、前記内部弁要素２０は前記外部弁要素２
２，２４の間に挟まれかつその両面２０′，２
０″が前記両外部弁要素の隣接面２２′，２４′，
２２″，２４″と封鎖状に、摩擦的に可動に掛合し
ており、前記内部弁要素は前記両外部弁要素に対
して相対的に動いて前記第一の移送弁部分と第二
の移送弁部分を試料の装てん位置と送出位置に動
かすことができ、前記内部の区分通路Ｐ１，Ｐ２
は前記内部弁要素２０に形成しており、前記外部
のループ部材Ｐ１５は前記内部弁要素の一面２
０′に定着しており、この一面に隣接した外部弁
要素２２は前記内部弁要素が前記両外部弁要素と
の摩擦掛合を維持して前記内部弁要素が移動する
間に前記外部のループ部材を通して入れるための
みぞ穴２６をもつことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の液体移送弁。 ３ 或る第三の量の液体試料をその供給源から受
入れかつ隔離するため及び前記第三の量の液体試
料を所定量の希釈剤と結合して今１つの希釈液を
作るための第三の移送弁部分Ｐ１７を有し、前記
第三の移送弁部分は第一の中空のループ部材Ｐ１
５の内部容積と異なつた正確な内部容積をもつ第
二の外部の中空ループ部材Ｐ１７からなることを
特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記
載の液体移送弁。 ４ 前記第一と第二の移送弁部分をすすぐため希
釈剤供給源に連通状に接続できる内部ギヤラリー
Ｐ１８を備え、前記内部ギヤラリーがすすぎ作業
中前記両移送弁部分に連通状に接続できる少なく
とも１つの内部通路Ｐ１１，Ｐ１８をもつことを
特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記
載の液体移送弁。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/861,356 US4152391A (en) | 1977-12-16 | 1977-12-16 | Liquid transfer valve |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5497087A JPS5497087A (en) | 1979-07-31 |
| JPS627488B2 true JPS627488B2 (ja) | 1987-02-17 |
Family
ID=25335572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15462278A Granted JPS5497087A (en) | 1977-12-16 | 1978-12-16 | Liquid transfering valve |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4152391A (ja) |
| JP (1) | JPS5497087A (ja) |
| AU (1) | AU524989B2 (ja) |
| CA (1) | CA1089648A (ja) |
| CH (1) | CH624766A5 (ja) |
| DE (1) | DE2854303A1 (ja) |
| ES (1) | ES476053A1 (ja) |
| FR (1) | FR2412019A1 (ja) |
| GB (1) | GB2010780B (ja) |
| SE (1) | SE438740B (ja) |
| ZA (1) | ZA786916B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3315504A1 (en) | 2016-10-27 | 2018-05-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Tetracarboxylic acid diester compound, polymer of polyimide precursor and method for producing same, negative photosensitive resin composition, patterning process, and method for forming cured film |
| EP3398983A1 (en) | 2017-03-22 | 2018-11-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymer of polyimide precursor, positive type photosensitive resin composition, negative type photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic parts |
| EP3604390A1 (en) | 2018-08-01 | 2020-02-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymer having a structure of polyamide, polyamide-imide, or polyimide, photosensitive resin composition, patterning process, photosensitive dry film, and protective film for electric and electronic parts |
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|---|---|---|---|---|
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| US4445391A (en) * | 1981-10-19 | 1984-05-01 | Coulter Electronics, Inc. | Liquid metering and transfer valve assembly |
| SE451164B (sv) * | 1982-03-22 | 1987-09-07 | Erik Ohlin | Apparat och sett for serieutspedning av en provvetska |
| SE453754B (sv) * | 1982-06-15 | 1988-02-29 | Gambro Lundia Ab | Anordning for metning av koncentrationen av en lagmolekyler forening i ett komplext medium |
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| FR2535848A1 (fr) * | 1982-11-08 | 1984-05-11 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif d'echantillonnage d'un fluide, procede de prelevement mettant en oeuvre le dispositif et application a la dilution d'un fluide |
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