JPS627645A - ガラスセラミツク製品およびその製造方法 - Google Patents
ガラスセラミツク製品およびその製造方法Info
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- JPS627645A JPS627645A JP61118997A JP11899786A JPS627645A JP S627645 A JPS627645 A JP S627645A JP 61118997 A JP61118997 A JP 61118997A JP 11899786 A JP11899786 A JP 11899786A JP S627645 A JPS627645 A JP S627645A
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- glass
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- ceramic
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/006—Glass-ceramics fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の分野)
本発明は、B P Otを主結晶相として含有ザる透明
、半透明あるいは不透明なガラスセラミック製品および
その製造方法に関づる。
、半透明あるいは不透明なガラスセラミック製品および
その製造方法に関づる。
(発明の技術的背景および先行技術)
ガラスセラミクスの分野は、米国特許第2,920.9
71号においてその基礎がきずかれた。この特許に述べ
られているように、ガラスセラミック製品は、先駆ガラ
ス製品の制御された結晶化により製造される。すなわら
、まず最初に、しばしば成慎剤を含むガラス形成バッチ
が溶融され、次いで19られた溶融物は少なくともその
転移範囲内の温度まで、一般には転移範囲よりも低い温
度まで冷却され、それと同時に該溶融物より留みの形状
のガラス素地が成形され、最後に得られたガラス素地が
上記転移範囲J:りも高い温度にさらされて該ガラス素
地のその位置での結晶化が誘発される。ガラス素地の結
晶化はしばしば2段階で達成される。
71号においてその基礎がきずかれた。この特許に述べ
られているように、ガラスセラミック製品は、先駆ガラ
ス製品の制御された結晶化により製造される。すなわら
、まず最初に、しばしば成慎剤を含むガラス形成バッチ
が溶融され、次いで19られた溶融物は少なくともその
転移範囲内の温度まで、一般には転移範囲よりも低い温
度まで冷却され、それと同時に該溶融物より留みの形状
のガラス素地が成形され、最後に得られたガラス素地が
上記転移範囲J:りも高い温度にさらされて該ガラス素
地のその位置での結晶化が誘発される。ガラス素地の結
晶化はしばしば2段階で達成される。
すなわち、まず最初にガラス素地が転移範囲よりもいく
ぶん高い温度まで加熱されて該ガラス中に核が発生せし
められ、その後ガラス素地の温度が高められしばしば該
ガラスの軟化点よりも高くされて核上に結晶の生長が生
ぜしめられる。通常、溶融バッチはガラスの失透を避け
るために充分に速く冷却される。上記転移範囲は溶融塊
が非晶質固体になる温度として定義され、この温度は典
型的にはガラスの徐冷点付近にあるものと考えられる。
ぶん高い温度まで加熱されて該ガラス中に核が発生せし
められ、その後ガラス素地の温度が高められしばしば該
ガラスの軟化点よりも高くされて核上に結晶の生長が生
ぜしめられる。通常、溶融バッチはガラスの失透を避け
るために充分に速く冷却される。上記転移範囲は溶融塊
が非晶質固体になる温度として定義され、この温度は典
型的にはガラスの徐冷点付近にあるものと考えられる。
ガラスセラミック中に生じた結晶は、通常均一な微細粒
子であり、素地全体に亘って均質に分散している。また
、該結晶は素地全体のかなりの割合を占め、しばしば素
地の50容量%以上である。
子であり、素地全体に亘って均質に分散している。また
、該結晶は素地全体のかなりの割合を占め、しばしば素
地の50容量%以上である。
ガラスセラミック中の残留ガラスマトリックスの組成は
、結晶を構成する成分が除去されたために親ガラスの組
成とは箕なっている。通常ガラスセラミック素地は非多
孔質であり、空隙を右していない。ガラスセラミックは
先駆ガラス素地から製造されるので、ブローイング、キ
ャスティング。
、結晶を構成する成分が除去されたために親ガラスの組
成とは箕なっている。通常ガラスセラミック素地は非多
孔質であり、空隙を右していない。ガラスセラミックは
先駆ガラス素地から製造されるので、ブローイング、キ
ャスティング。
ドローイング、ブレスシング、ローリングおよびスピニ
ングのような従来のガラス成形法が利用されうる。
ングのような従来のガラス成形法が利用されうる。
〈発明の要約)
水元n、+1 ハ、約45X 10−’ −65×10
−’ / ’C(7) fll’ Fm (7)熱膨張
率(25−300℃) 、1100℃までの熱安定性、
□約4−5の範囲の誘電率、0.002より小
さい102−106Hzの範囲の誘電正接、および25
0℃において1Q 16Ωα以下のり、C,抵抗率を示
し、B2O3P2O5Si○2系内に組成を有する透明
、半透明あるいは不透明なガラスセラミック素地の発見
に基づいている。本発明のガラスセラミ ゛ッ
クスは、BPO4を実質的に単独の結晶相とし
1て含んでおり、酸化物に基づく重量%で表わして、
10−50%のSiO2,5−35%の320
3および25−75% 17) P 20 s b’
ラh リ、cl: コテS I 02 +P20S +
8203は90%よりも多量である。Ba O,ca、
o、Cd O,Li 20.MQ O,Naz O,S
n 02 、Sr OおよびZnOからなる群より選ば
れる金属酸化物が合計量で10%以下含まれてもよいが
、各酸化物のそれぞれの予は約5%を越えてはならない
。
−’ / ’C(7) fll’ Fm (7)熱膨張
率(25−300℃) 、1100℃までの熱安定性、
□約4−5の範囲の誘電率、0.002より小
さい102−106Hzの範囲の誘電正接、および25
0℃において1Q 16Ωα以下のり、C,抵抗率を示
し、B2O3P2O5Si○2系内に組成を有する透明
、半透明あるいは不透明なガラスセラミック素地の発見
に基づいている。本発明のガラスセラミ ゛ッ
クスは、BPO4を実質的に単独の結晶相とし
1て含んでおり、酸化物に基づく重量%で表わして、
10−50%のSiO2,5−35%の320
3および25−75% 17) P 20 s b’
ラh リ、cl: コテS I 02 +P20S +
8203は90%よりも多量である。Ba O,ca、
o、Cd O,Li 20.MQ O,Naz O,S
n 02 、Sr OおよびZnOからなる群より選ば
れる金属酸化物が合計量で10%以下含まれてもよいが
、各酸化物のそれぞれの予は約5%を越えてはならない
。
科学文献において、BPO4はβ−クリストバル石の正
方品系同質多像として記述されているが、BPO4はク
リストバル石に固有の突発的β−α転移を示さない。B
P Otの溶融あるいは分解濡1αは正確に測定され
ていないが、昇華は約1350℃で起こると判断され、
B P Oaはこの温度まで熱的に安定であると考えら
れる。
方品系同質多像として記述されているが、BPO4はク
リストバル石に固有の突発的β−α転移を示さない。B
P Otの溶融あるいは分解濡1αは正確に測定され
ていないが、昇華は約1350℃で起こると判断され、
B P Oaはこの温度まで熱的に安定であると考えら
れる。
BPO45tOz疑似二成分系への胃酸化物の添加は、
△更zO3を除いてBPO4結晶化の動力学を著しく減
退させるようである。AL203の添加はBPO4AR
,Po4 St Oz り’)ストパル石固溶体の生成
を引き起こし、この固溶体はB P O4結晶とは異な
り、約190℃において置換による激しいα−β構造転
移を受けやすい。
△更zO3を除いてBPO4結晶化の動力学を著しく減
退させるようである。AL203の添加はBPO4AR
,Po4 St Oz り’)ストパル石固溶体の生成
を引き起こし、この固溶体はB P O4結晶とは異な
り、約190℃において置換による激しいα−β構造転
移を受けやすい。
結果として、△9. P O4結晶を含有するガラスセ
ラミックスは相当するB P Oa含有素地よりも高い
熱膨張率を示す。従って、本発明の組成には、ALzO
3は実質的に存在しないのが好ましい。
ラミックスは相当するB P Oa含有素地よりも高い
熱膨張率を示す。従って、本発明の組成には、ALzO
3は実質的に存在しないのが好ましい。
上記組成を有する本発明のガラスセラミック製品は下記
の3つの工程により製造されるSi) 適当な組成のバ
ッチを溶融する工程、ii) 溶融物をその転移範囲
よりも低い温度に冷却し、それと同時に該溶融物より望
みの形状のガラス製品を成形する工程、および 1ii) 得られたガラス製品を約850−1200
℃の範囲の温度に充分な時間さらして該ガラス製品中に
B P Oa結晶を発生させ生長させる工程。
の3つの工程により製造されるSi) 適当な組成のバ
ッチを溶融する工程、ii) 溶融物をその転移範囲
よりも低い温度に冷却し、それと同時に該溶融物より望
みの形状のガラス製品を成形する工程、および 1ii) 得られたガラス製品を約850−1200
℃の範囲の温度に充分な時間さらして該ガラス製品中に
B P Oa結晶を発生させ生長させる工程。
上記ガラスはかなり迅速に結晶化するので、高度に結晶
化したガラスセラミックスを得るには約0.5−2時間
の熱処理で充分である。相当に長い時間の熱処理を用い
ることも可能であるが、過度の結晶粒子生長により生じ
る光散乱のために最終製品の透明度が悪影響を受けるこ
とを除いては、最終製品の特性はあまり変わらない。
化したガラスセラミックスを得るには約0.5−2時間
の熱処理で充分である。相当に長い時間の熱処理を用い
ることも可能であるが、過度の結晶粒子生長により生じ
る光散乱のために最終製品の透明度が悪影響を受けるこ
とを除いては、最終製品の特性はあまり変わらない。
電子顕微鏡による検査およびX線回折分析の結果、本発
明のガラスセラミック製品は高い結晶含有率を右するこ
とが判明している。すなわち、本発明のガラスセラミッ
ク製品の結晶含有率は少なくとも40容量%であり、し
ばしば60容量%よりも高い。結晶それ自身はほとんど
が直径が10ミクロンよりも微細な粒子であり、曲型的
には直径が1ミク[コン未満の粒子である。また、X線
回折分析の結果、実質的に単独の結晶相としてB P
O4の存在が確認されている。
明のガラスセラミック製品は高い結晶含有率を右するこ
とが判明している。すなわち、本発明のガラスセラミッ
ク製品の結晶含有率は少なくとも40容量%であり、し
ばしば60容量%よりも高い。結晶それ自身はほとんど
が直径が10ミクロンよりも微細な粒子であり、曲型的
には直径が1ミク[コン未満の粒子である。また、X線
回折分析の結果、実質的に単独の結晶相としてB P
O4の存在が確認されている。
添付の図面はSi 02 8203 P20S系の三
成分図であり、ガラス生成領域(りOスハッチ部分)お
よびガラスセラミック生成領域(ハツチ部分)を示すも
のである。B2O3頂点付近の安定ガラス生成(逆ハツ
チ部分)の限界の外側で、オパールガラスの生成が起こ
る。5iOz頂点付近でガラスは安定であるが、溶融過
程でのその高い流動性および非常に高い粘度は、通常の
ガラス溶融および成形技術による均質な混合物のない溶
融物の製造を妨げる。P2O55!02接合、すなわち
P2O,と5iOzが実質的に等モル聞である線に沿っ
た組成は広範囲に沿って安定なガラスを生成するが、P
2O5の揮発性のためにP205 : Si 02モ
ル比についての実用限界は約1:1である。
成分図であり、ガラス生成領域(りOスハッチ部分)お
よびガラスセラミック生成領域(ハツチ部分)を示すも
のである。B2O3頂点付近の安定ガラス生成(逆ハツ
チ部分)の限界の外側で、オパールガラスの生成が起こ
る。5iOz頂点付近でガラスは安定であるが、溶融過
程でのその高い流動性および非常に高い粘度は、通常の
ガラス溶融および成形技術による均質な混合物のない溶
融物の製造を妨げる。P2O55!02接合、すなわち
P2O,と5iOzが実質的に等モル聞である線に沿っ
た組成は広範囲に沿って安定なガラスを生成するが、P
2O5の揮発性のためにP205 : Si 02モ
ル比についての実用限界は約1:1である。
最も好ましい生成物はB2O3P2O5接合(図面参照
)に沿った組成を有している。得られるガラスセラミッ
ク素地は非常に高水準のBPO4PO4金品でおり、残
留ガラスマトリックスは純粋なシリカに近い組成を有し
ている。このガラスセラミック素地に含まれるB P
O4結晶は非常に微細であり、そのいくらかは直径が5
00A (0,05ミクロン)未満である。本発明のガ
ラスセラミック製品は、1200℃までの温度に対して
さえ高い耐熱変形性を示し、優れた化学的耐久性を示し
、また光学透明度を示づ゛。これら特性の組合わせによ
り、本発明のガラスセラミック製品は高温強化ファイバ
、光学レンズおよび電子部品用支持体のような種々の用
途に有用である。
)に沿った組成を有している。得られるガラスセラミッ
ク素地は非常に高水準のBPO4PO4金品でおり、残
留ガラスマトリックスは純粋なシリカに近い組成を有し
ている。このガラスセラミック素地に含まれるB P
O4結晶は非常に微細であり、そのいくらかは直径が5
00A (0,05ミクロン)未満である。本発明のガ
ラスセラミック製品は、1200℃までの温度に対して
さえ高い耐熱変形性を示し、優れた化学的耐久性を示し
、また光学透明度を示づ゛。これら特性の組合わせによ
り、本発明のガラスセラミック製品は高温強化ファイバ
、光学レンズおよび電子部品用支持体のような種々の用
途に有用である。
(関連出願)
本出願の原米国特許出願と同時に出願された米国特許出
願No (発明の名称=「水素含有ガラ
スマイクロフオームおよびガスセラミクス」、発明者:
G、l−1,ビールおよびJ、F。
願No (発明の名称=「水素含有ガラ
スマイクロフオームおよびガスセラミクス」、発明者:
G、l−1,ビールおよびJ、F。
マクダーウエル)には、特に微孔性ガラスおよびガラス
セラミック素地製造用の基材として5iO2−B203
PzOs相成の使用が開示されている。
セラミック素地製造用の基材として5iO2−B203
PzOs相成の使用が開示されている。
(実 施 例)
下記第1表は、酸化物に基づく重量部で表わされるい(
つかのガラス組成を示すものであり、本発明の生成物の
組成パラメーターを説明するものである(各組成は添付
の図面にも示されている)。
つかのガラス組成を示すものであり、本発明の生成物の
組成パラメーターを説明するものである(各組成は添付
の図面にも示されている)。
各成分の合計は100あるいはほぼ100であるので、
実際には各成分の値は重量パーセントで表わされている
とみなすことができる。実際のバッチ成分は、共に溶融
される時適当な割合で望みの酸化物に変換される酸化物
あるいはその他の化合物のどの材料からなるものであっ
てもよい。
実際には各成分の値は重量パーセントで表わされている
とみなすことができる。実際のバッチ成分は、共に溶融
される時適当な割合で望みの酸化物に変換される酸化物
あるいはその他の化合物のどの材料からなるものであっ
てもよい。
各バッチを調合し、均質な溶融物を得るのを助けるため
にボールミルにかけ、そしてシリカルツボに充填した。
にボールミルにかけ、そしてシリカルツボに充填した。
ルツボに蓋をして約1000℃の炉中に導入し、バッチ
を約2時間溶融した。溶融物を圧延して直径約6インチ
、厚さ約−0,25インチの寸法を有するガラスディス
クとし、このガラスディスクを約550−650℃の温
度で一晩徐冷した。
を約2時間溶融した。溶融物を圧延して直径約6インチ
、厚さ約−0,25インチの寸法を有するガラスディス
クとし、このガラスディスクを約550−650℃の温
度で一晩徐冷した。
なJ3、第1表には、各ガラスのBz O3: P20
5 : St 02 (B : P : Si )
’eJIi比モ示すしTいる。
5 : St 02 (B : P : Si )
’eJIi比モ示すしTいる。
第1表
ユ 2 旦 庄 5L 旦 L 旦S
i○2−12.422.127,432.13f3.2
39,843.lP2O567,158,852,34
8,745J 42.8’40,438.2B203
32,928,825.623.922.321.01
9,818.7f3:P:Si 1:1:0 2:
2:1 1:1:1 3:3:4 3:3:5
11:2 3:3ニア 3:3:8Si02
46.04B、653.146.039.0 35.6
29,9P205 36,334.531,427,
230,8 38.6 35,4Bz03 17,71
6.’l 15.426,730.2 25.8 34
.7B:P:Si 1:1:3 3:3:10 1
:1;4 2:1:4 2:C31,4:1:2.
2 2zt2P205 42.268.7 G9.2
57,260,053,247,843.5[3203
31,016,811,318,714,713,Oi
l、710.613:P:Si3:2:31:2:11
コ3:22:3二31:2:21:2:31:2:4C
2:5種々の物理的および化学的特性の試験を行なうの
に適した形状のサンプルを各ディスクから切り取り、各
サンプルと各ディスクの残りを電気炉中に導入した。よ
り速いあるいはより遅い加熱速度を用いることも可能で
あるが、便宜上炉内の温度を約り℃/分の速度で下記第
2表に示される結晶化温度まで上昇させ(但し700−
800℃の間の50℃/時の核形成勾配を除り)、その
温度を同じく第2表に示される時間だけ維持した。同様
に、素地を空温まで冷却するのにより速いあるいはより
遅い冷却速度を用いることも可能であるが、便宜上単に
炉への電力の供給を切り、その内部に素地を残したまま
で炉を自然冷却した。この冷却方法は“炉速度での冷却
”と呼ばれており、その冷却速度は平均的2−3℃/分
である。
i○2−12.422.127,432.13f3.2
39,843.lP2O567,158,852,34
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9,818.7f3:P:Si 1:1:0 2:
2:1 1:1:1 3:3:4 3:3:5
11:2 3:3ニア 3:3:8Si02
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29,9P205 36,334.531,427,
230,8 38.6 35,4Bz03 17,71
6.’l 15.426,730.2 25.8 34
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2 2zt2P205 42.268.7 G9.2
57,260,053,247,843.5[3203
31,016,811,318,714,713,Oi
l、710.613:P:Si3:2:31:2:11
コ3:22:3二31:2:21:2:31:2:4C
2:5種々の物理的および化学的特性の試験を行なうの
に適した形状のサンプルを各ディスクから切り取り、各
サンプルと各ディスクの残りを電気炉中に導入した。よ
り速いあるいはより遅い加熱速度を用いることも可能で
あるが、便宜上炉内の温度を約り℃/分の速度で下記第
2表に示される結晶化温度まで上昇させ(但し700−
800℃の間の50℃/時の核形成勾配を除り)、その
温度を同じく第2表に示される時間だけ維持した。同様
に、素地を空温まで冷却するのにより速いあるいはより
遅い冷却速度を用いることも可能であるが、便宜上単に
炉への電力の供給を切り、その内部に素地を残したまま
で炉を自然冷却した。この冷却方法は“炉速度での冷却
”と呼ばれており、その冷却速度は平均的2−3℃/分
である。
下記第2表はまた、結晶化された生成物の目視観察結果
、X線回折分析および電子顕微鏡検査によって固定され
た結晶相、およびX線回折ピークの高さに対応する各結
晶相の相対聞(5−メジャー、1−マイナー)を、標準
技術によって測定されたいくつかの25−300℃の温
度範囲に亘る熱膨張率(X 10’ /℃)および密度
(g/ cc )と共に示ず。
、X線回折分析および電子顕微鏡検査によって固定され
た結晶相、およびX線回折ピークの高さに対応する各結
晶相の相対聞(5−メジャー、1−マイナー)を、標準
技術によって測定されたいくつかの25−300℃の温
度範囲に亘る熱膨張率(X 10’ /℃)および密度
(g/ cc )と共に示ず。
1、 な し 粗粒子、白色2、
な し 微細な中粒子、半透明2、 900
℃−2時間 中程度の微細粒子、白色、わずかに多孔質
I 3、 な し ごくわずかに曇りのあるガラ
ス 3、 900℃−2時間 非常に微細な粒子、Jm
りあり、透明 3、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、半透
明、白色 3、 1200℃−2時間 微細粒子、白色、艶のあ
る表面 4、 900℃−2時間 ガラス透明、わずかに曇
りあり、 4. 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、半透
明、白色 4、 1200℃−2時間 微細粒子、白色、艷のあ
る表面 5、 900℃−2時間 ガラス透明、わずかにひ
び割れ 5.1000℃−2時間 ガラス半透明、白色5、
1200℃−2時間 微細粒子、白色、ひび割れ 6、 な し 透明ガラス 6、 900℃−1時間 ガラス透明6、 10
00℃−1時間 ガラス状白色6、 11oo℃−2
時間 非常に微細な粒子、白色、わずかな垂れ下り 7.900℃−2時間 ガラス状、紫色がかつている。
な し 微細な中粒子、半透明2、 900
℃−2時間 中程度の微細粒子、白色、わずかに多孔質
I 3、 な し ごくわずかに曇りのあるガラ
ス 3、 900℃−2時間 非常に微細な粒子、Jm
りあり、透明 3、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、半透
明、白色 3、 1200℃−2時間 微細粒子、白色、艶のあ
る表面 4、 900℃−2時間 ガラス透明、わずかに曇
りあり、 4. 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、半透
明、白色 4、 1200℃−2時間 微細粒子、白色、艷のあ
る表面 5、 900℃−2時間 ガラス透明、わずかにひ
び割れ 5.1000℃−2時間 ガラス半透明、白色5、
1200℃−2時間 微細粒子、白色、ひび割れ 6、 な し 透明ガラス 6、 900℃−1時間 ガラス透明6、 10
00℃−1時間 ガラス状白色6、 11oo℃−2
時間 非常に微細な粒子、白色、わずかな垂れ下り 7.900℃−2時間 ガラス状、紫色がかつている。
透明
7、 1100℃−2時間 非常に微細な粒子、白色
、垂れ下り 8、 900℃−2時間 ガラス状、灰色がかつて
いる 8、 1000°C−2時間 非常に微細な粒子、
白色、半透明 9、 な し 透明ガラス、脈理、ぬ
゛か泡、ブリスター 9、 900℃−2時間 ガラス透明、ぬか泡9、
1000℃−2時間 非常に微細な粒子、灰゛ 色
、半透明 9、 1100℃−2時間 非常に微細な粒子、白色
、垂れ下り 10、 900℃−2時間 非常に微細な粒子、灰
色、透明 10.1100℃−2時間 非常に微細な粒子、青灰色
、半透明 11、 な し 透明ガラス、ぬか泡11
、 900℃−2時間 透明、わずかに曇りあり 12、 な し 透明ガラス、ぬか泡12
.1000℃−2時間 ガラス状白色、垂れ下り 13、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色、垂れ下り 14、 900℃−2時間 透明、ごくわずかに青
色の曇りあり 14、 1000℃−2時間 ガラス状、灰色がかっ
た白色 15、 な し 青白色、半透明15、
900℃−2時間 ガラス状、′a白色15、
1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白色、わずか
に吸湿性 16、 な し 透明、わずかに曇りあり 16、 900℃−2時間 ガラス状、半透明、白
色 16、 1000℃−2時間 微細粒子、白色11、
な し 透明/曇りガラス17、
900℃−2時間 非常に微細な粒子、白色、半透明、
ひび割れ 17、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色、ひび割れ 17、 1100℃−2時間 微細粒子、白色、ひひ
割れ 18、 900℃−2時間 ガラス状、曇りのある
青色がかった白色 18、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色、少数の透明なすし 18、 1100℃−2時間 微細粒子、白色19、
900℃−2時間 ガラス透明、ひび割れ19、
1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白色、い
くつかの半透明 脈理 19、 1200℃−2時間 微細粒子、白色、艶の
ある表面 20、 900℃−2時間 ガラス状、白色半透明
20.1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白色 20、 1100℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色 21、 な し 透明、わずかに畳りある
ガラス 21、 1000℃−2時間 ガラス状、半透明、白
色 22、 な し 透明ガラス、わずかに脈
理 22.1000℃−2時間 ガラス状、半透明、白色、
垂れ下り 23、 な し 透明ガラス、わずかに脈理 23、 1000℃−2時間 ガラス状、半透明、白
色1乗れ下り 1 BPO4(5) −一 2 BPO4(5) −− 38PO4(3) 511.7 2.569
3 BPO4(4) −一3
13POa(5) −−48PO4(3
) −− 4[3PO4(4) −− 4BPO4(5) −− 5BPO=<3) −− 58PO4(4) −− 5BPO4(5−) 、−6
53,02,391 68P○a (3) 51,7
2.4896 8POa (4) 5
1,5 2.4956 BPO4(
5) −−7BPOa (2+)
−−7BPOa(3) −− 88PO4(2+) −− 8BPO4(3) −− 949,12,354 9BPO4(2) −− 98PO4(3) 45.B
2.’42910 BPO4(2)
−−10BPO4(3) −− 11BPO4(2) −−13B−Pot
(5) −−14BPO4(3)
−− 14[3PO4(4) 52.4
2.44415 BPO4(3)、 5G
、3 2,339t−13803< 2
) 15 BPO4(4)、 −−H3B
03 (1) 16 54.0
2.3491fi BPOa(4)
、 −−t−13BO3(1) 1e BPO4(4+)、 −−H3BO:
+(2> 17 3PO4(3) 63.2
2.6917 BP○、(4)
−−17BPO4(S) −− 18BPO4(3) 5”−” −
188P○4 (4) 58,3
2.57418 [3PO4(4+> 57
.3 2.57319 BPOa(3
) −−19BPOa (4)
−−19BPO4(5) 54.2
2,60320 BPOa (3)
57,2 2.50720 8 P 0
4 (4) 56.5 2.5’7
020 3PO4(5) 56.2
2.57021 BPO4(4)
−−2252,32,445 22[3PO4(3) −−上記第2表から
明らかなように、上記第1表に示される組成の多くから
生じるガラスセラミック素地は、900℃イ」近での数
時間の熱処理の場合には透明あるいはほぼ透明である。
、垂れ下り 8、 900℃−2時間 ガラス状、灰色がかつて
いる 8、 1000°C−2時間 非常に微細な粒子、
白色、半透明 9、 な し 透明ガラス、脈理、ぬ
゛か泡、ブリスター 9、 900℃−2時間 ガラス透明、ぬか泡9、
1000℃−2時間 非常に微細な粒子、灰゛ 色
、半透明 9、 1100℃−2時間 非常に微細な粒子、白色
、垂れ下り 10、 900℃−2時間 非常に微細な粒子、灰
色、透明 10.1100℃−2時間 非常に微細な粒子、青灰色
、半透明 11、 な し 透明ガラス、ぬか泡11
、 900℃−2時間 透明、わずかに曇りあり 12、 な し 透明ガラス、ぬか泡12
.1000℃−2時間 ガラス状白色、垂れ下り 13、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色、垂れ下り 14、 900℃−2時間 透明、ごくわずかに青
色の曇りあり 14、 1000℃−2時間 ガラス状、灰色がかっ
た白色 15、 な し 青白色、半透明15、
900℃−2時間 ガラス状、′a白色15、
1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白色、わずか
に吸湿性 16、 な し 透明、わずかに曇りあり 16、 900℃−2時間 ガラス状、半透明、白
色 16、 1000℃−2時間 微細粒子、白色11、
な し 透明/曇りガラス17、
900℃−2時間 非常に微細な粒子、白色、半透明、
ひび割れ 17、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色、ひび割れ 17、 1100℃−2時間 微細粒子、白色、ひひ
割れ 18、 900℃−2時間 ガラス状、曇りのある
青色がかった白色 18、 1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色、少数の透明なすし 18、 1100℃−2時間 微細粒子、白色19、
900℃−2時間 ガラス透明、ひび割れ19、
1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白色、い
くつかの半透明 脈理 19、 1200℃−2時間 微細粒子、白色、艶の
ある表面 20、 900℃−2時間 ガラス状、白色半透明
20.1000℃−2時間 非常に微細な粒子、白色 20、 1100℃−2時間 非常に微細な粒子、白
色 21、 な し 透明、わずかに畳りある
ガラス 21、 1000℃−2時間 ガラス状、半透明、白
色 22、 な し 透明ガラス、わずかに脈
理 22.1000℃−2時間 ガラス状、半透明、白色、
垂れ下り 23、 な し 透明ガラス、わずかに脈理 23、 1000℃−2時間 ガラス状、半透明、白
色1乗れ下り 1 BPO4(5) −一 2 BPO4(5) −− 38PO4(3) 511.7 2.569
3 BPO4(4) −一3
13POa(5) −−48PO4(3
) −− 4[3PO4(4) −− 4BPO4(5) −− 5BPO=<3) −− 58PO4(4) −− 5BPO4(5−) 、−6
53,02,391 68P○a (3) 51,7
2.4896 8POa (4) 5
1,5 2.4956 BPO4(
5) −−7BPOa (2+)
−−7BPOa(3) −− 88PO4(2+) −− 8BPO4(3) −− 949,12,354 9BPO4(2) −− 98PO4(3) 45.B
2.’42910 BPO4(2)
−−10BPO4(3) −− 11BPO4(2) −−13B−Pot
(5) −−14BPO4(3)
−− 14[3PO4(4) 52.4
2.44415 BPO4(3)、 5G
、3 2,339t−13803< 2
) 15 BPO4(4)、 −−H3B
03 (1) 16 54.0
2.3491fi BPOa(4)
、 −−t−13BO3(1) 1e BPO4(4+)、 −−H3BO:
+(2> 17 3PO4(3) 63.2
2.6917 BP○、(4)
−−17BPO4(S) −− 18BPO4(3) 5”−” −
188P○4 (4) 58,3
2.57418 [3PO4(4+> 57
.3 2.57319 BPOa(3
) −−19BPOa (4)
−−19BPO4(5) 54.2
2,60320 BPOa (3)
57,2 2.50720 8 P 0
4 (4) 56.5 2.5’7
020 3PO4(5) 56.2
2.57021 BPO4(4)
−−2252,32,445 22[3PO4(3) −−上記第2表から
明らかなように、上記第1表に示される組成の多くから
生じるガラスセラミック素地は、900℃イ」近での数
時間の熱処理の場合には透明あるいはほぼ透明である。
より長時間の熱処理(特により高い温度においての)は
、非常に微細なりPOa結晶粒子のサイズを大きくし、
当該結晶粒子は光を散乱し始める。上記素地は900℃
において数時間の熱処理の後に約50容伍%付近の結晶
度を示すが、より高い温度で熱処理を行なう場合には、
より一層高い結晶度が得られるようである。組成中に理
論上存在し得るBPO4のモル百分率に対するこの見掛
上の高い結晶度から、B P O4の5iOzとの固溶
体が存在すると考えることができる。従って、本明細書
においてBPO4と言う場合、それはB P Oaの5
i02との固溶体も含めて意味するものとする。
、非常に微細なりPOa結晶粒子のサイズを大きくし、
当該結晶粒子は光を散乱し始める。上記素地は900℃
において数時間の熱処理の後に約50容伍%付近の結晶
度を示すが、より高い温度で熱処理を行なう場合には、
より一層高い結晶度が得られるようである。組成中に理
論上存在し得るBPO4のモル百分率に対するこの見掛
上の高い結晶度から、B P O4の5iOzとの固溶
体が存在すると考えることができる。従って、本明細書
においてBPO4と言う場合、それはB P Oaの5
i02との固溶体も含めて意味するものとする。
また、上記第1表および第2表から明らかなように、熱
膨張率は一般に5iOz含有固が増加するに従って減少
する。密度は三成分図のB2O11頂点付近で最も高く
、B2O3頂点付近で最も低い。
膨張率は一般に5iOz含有固が増加するに従って減少
する。密度は三成分図のB2O11頂点付近で最も高く
、B2O3頂点付近で最も低い。
r3POt 5iOz5’2似二成分系ガラスの化学
的耐久性は極めて低い。しかしながら、それより製造さ
れるガラスセラミックの化学的耐久性は、下記第3表に
示されるように著しく高いものである。第3表は、実施
例6(B203 :P2O5:2Si 02 )の親ガ
ラスとその親ガラスの900’C12時間の熱処理によ
って得られたガラスセラミックの酸、塩Uおよび蒸留水
に対する耐久性を示すものである。
的耐久性は極めて低い。しかしながら、それより製造さ
れるガラスセラミックの化学的耐久性は、下記第3表に
示されるように著しく高いものである。第3表は、実施
例6(B203 :P2O5:2Si 02 )の親ガ
ラスとその親ガラスの900’C12時間の熱処理によ
って得られたガラスセラミックの酸、塩Uおよび蒸留水
に対する耐久性を示すものである。
研磨面を有する秤量サンプルを第3表に示される温度の
溶液および蒸留水に同じく第3表に示される時間だけ浸
漬した。その後、ナンプルを溶液あるいは蒸留水から取
り出し、乾燥し、再秤吊し、そして単位表面積当りの1
岱損失(mFI/ ci )をX+算した。
溶液および蒸留水に同じく第3表に示される時間だけ浸
漬した。その後、ナンプルを溶液あるいは蒸留水から取
り出し、乾燥し、再秤吊し、そして単位表面積当りの1
岱損失(mFI/ ci )をX+算した。
第 3 表
ガラス ガラスセラミック
5重量%HC交溶液。
95℃、24時間 G4 0.0
30.2N Na 2 CO3溶液。
30.2N Na 2 CO3溶液。
45℃、6時間 g、3 0.16Hz
0.95℃、24時間 12゜o o、oi 上記第3表から明らかなように、ガラスセラミックは酸
溶液おにび水中に83いて3桁以上の耐久性の向上を示
し、希塩基溶液中においてほぼ50倍の耐久性の向上を
示した。
0.95℃、24時間 12゜o o、oi 上記第3表から明らかなように、ガラスセラミックは酸
溶液おにび水中に83いて3桁以上の耐久性の向上を示
し、希塩基溶液中においてほぼ50倍の耐久性の向上を
示した。
ガラス相からのBPO4の移動ははるかに耐久性の高い
残留ガラス(SiOz含有聞が非常に高い)を残し、こ
の残留ガラスがその中に分散するBPO4結晶の溶解を
防止する。上記第1表および第2表から明らかなように
、B2O3含右量が35%イ」近でX線回折パターン中
に!−13BO3が少■現われはじめる。ガラスビラミ
ック素地に吸湿性が生じるのはこのH3BO3が存在す
るからである。
残留ガラス(SiOz含有聞が非常に高い)を残し、こ
の残留ガラスがその中に分散するBPO4結晶の溶解を
防止する。上記第1表および第2表から明らかなように
、B2O3含右量が35%イ」近でX線回折パターン中
に!−13BO3が少■現われはじめる。ガラスビラミ
ック素地に吸湿性が生じるのはこのH3BO3が存在す
るからである。
添付の図面ハsi 02 8203 B206Mの三
成分図であり、本発明のガラスセラミック製品の組成を
説明するものである。 (自 発)手続ネ市装置 特許庁長官 殿 昭和61年6月2
0日1、事件の表示 ガラスセラミック製品およびその製造方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州コーニング
(番地なし) 名 称 コーニング グラス ワークス4、代理人 〒106 東京都港区六本木5−2−1はうらいやピ
ル 7階 ffi (479) 2367(7318)
弁理士 柳 1)征 史 (はが2名)5、補正命
令の日付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明細書 8、補正の内容 1)手書き明l1lI書をタイプ浄書明細書に補正しま
す。 (自発)手続ネ「n正置 特許庁長官 殿 昭和61年6月2
3日2゜発明の名称 ガラスセラミック製品およびその製造方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州コーニング
(番地なし) 名 称 コーニング グラス ワークス4、代理人 〒106 東京都港区六本木5−2−1はうらいやビ
ル 7階 口(479) 2367(7318) 弁
理士 柳 1)征 史 (ほか2名)5、補正命令の日
付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄8、補
正の内容 1)明細書第10頁第17行 rNc JをrNa 737,205
(同一出願人、同日特許願(2)]と訂正する。 2)同頁第18〜19行 「マイクロフオームおよびガスセラミクス」を「微小発
泡体、ガス−セラミックおよびその製造方法」と訂正す
る。 3)同頁第19行 「ビール」を「ごオール」と訂正する。
成分図であり、本発明のガラスセラミック製品の組成を
説明するものである。 (自 発)手続ネ市装置 特許庁長官 殿 昭和61年6月2
0日1、事件の表示 ガラスセラミック製品およびその製造方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州コーニング
(番地なし) 名 称 コーニング グラス ワークス4、代理人 〒106 東京都港区六本木5−2−1はうらいやピ
ル 7階 ffi (479) 2367(7318)
弁理士 柳 1)征 史 (はが2名)5、補正命
令の日付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明細書 8、補正の内容 1)手書き明l1lI書をタイプ浄書明細書に補正しま
す。 (自発)手続ネ「n正置 特許庁長官 殿 昭和61年6月2
3日2゜発明の名称 ガラスセラミック製品およびその製造方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州コーニング
(番地なし) 名 称 コーニング グラス ワークス4、代理人 〒106 東京都港区六本木5−2−1はうらいやビ
ル 7階 口(479) 2367(7318) 弁
理士 柳 1)征 史 (ほか2名)5、補正命令の日
付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄8、補
正の内容 1)明細書第10頁第17行 rNc JをrNa 737,205
(同一出願人、同日特許願(2)]と訂正する。 2)同頁第18〜19行 「マイクロフオームおよびガスセラミクス」を「微小発
泡体、ガス−セラミックおよびその製造方法」と訂正す
る。 3)同頁第19行 「ビール」を「ごオール」と訂正する。
Claims (5)
- (1)BPO_4を主結晶相として含んでおり、酸化物
に基づく重量%で表わして10−50%のSiO_2、
5−35%のB_2O_3および25−75%のP_2
O_5からなり、ここでSiO_2+P_2O_5+B
_2O_3は90%よりも多量である透明、半透明ある
いは不透明なガラスセラミック製品。 - (2)Li_2O、Na_2O、MgO、CaO、Sr
O、BaO、CdO、ZnOおよびSnO_2からなる
群より選ばれる少なくとも一種の酸化物が合計量で10
%以下含まれており、かつ各酸化物のそれぞれの量は約
5%以下であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載のガラスセラミック製品。 - (3)a)酸化物に基づく重量%で表わして10−50
%のSiO_2、5−35%のB_2O_3および25
−75%のP_2O_5からなり、SiO_2+P_2
O_5+B_2O_3が90%よりも多量であるバッチ
を溶融する工程、 b)溶融物をその転移範囲よりも低い温度に冷却し、そ
れと同時に該溶融物より望みの形状のガラス製品を成形
する工程、 c)上記ガラス製品を約850−1200℃の範囲の温
度に充分な時間さらして、該ガラス製品中にBPO_4
結晶を発生させる工程、および d)結晶化した製品を室温まで冷却する工程からなるB
PO_4を主結晶相とする透明、半透明あるいは不透明
なガラスセラミック製品の製造方法。 - (4)上記ガラス製品がLi_2O、Na_2O、Mg
O、CaO、SrO、BaO、CdO、ZnOおよびS
nO_2からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化
物を合計量で10%以下含むことを特徴とする特許請求
の範囲第3項記載のガラスセラミック製品の製造方法。 - (5)上記c)の工程において、上記ガラス製品を約8
50−1200℃の範囲の温度に、約0.5−24時間
さらすことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のガ
ラスセラミック製品の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US737204 | 1985-05-23 | ||
| US06/737,204 US4576920A (en) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | B2 O3 --P2 O5 --SiO2 glass-ceramics |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS627645A true JPS627645A (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=24962989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61118997A Pending JPS627645A (ja) | 1985-05-23 | 1986-05-23 | ガラスセラミツク製品およびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4576920A (ja) |
| EP (1) | EP0202751B1 (ja) |
| JP (1) | JPS627645A (ja) |
| CA (1) | CA1239655A (ja) |
| DE (1) | DE3666220D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007153735A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Schott Ag | ガラスセラミック |
Families Citing this family (10)
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| DE3728330A1 (de) | 1987-08-25 | 1989-03-09 | Tewig Fa | Temperaturgeregelte luefter-fluessigkeitskupplung |
| US4833104A (en) * | 1987-11-27 | 1989-05-23 | Corning Glass Works | Glass-ceramic substrates for electronic packaging |
| US4784977A (en) * | 1988-03-11 | 1988-11-15 | Corning Glass Works | Hydrogen-containing gas-ceramics |
| US5475528A (en) * | 1994-03-25 | 1995-12-12 | Corning Incorporated | Optical signal amplifier glasses |
| US5516733A (en) * | 1994-03-31 | 1996-05-14 | Corning Incorporated | Fusion seal and sealing mixtures |
| JP4162532B2 (ja) * | 2003-04-18 | 2008-10-08 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、プレス成形用プリフォーム及びその製造方法、光学素子及びその製造方法 |
| DE102005034785B3 (de) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | Schott Ag | Glaszusammensetzung ausschließlich bestehend aus Oxiden,welche bei Reaktion mit Fluor schon bei niedrigen Temperaturen flüchtige Fluoride ausbilden, sowie deren Verwendung |
| CN111971257A (zh) * | 2018-03-28 | 2020-11-20 | 康宁股份有限公司 | 具有低介电损耗的硼磷酸盐玻璃陶瓷 |
| CN114890676B (zh) * | 2021-06-21 | 2023-07-07 | 桂林电子科技大学 | 一种高介电高储能微晶玻璃介质材料及其制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| CH613679A5 (en) * | 1973-05-23 | 1979-10-15 | Leitz Ernst Gmbh | Glass-ceramic material, and process for the production thereof |
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| JPS608985B2 (ja) * | 1979-08-10 | 1985-03-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
-
1985
- 1985-05-23 US US06/737,204 patent/US4576920A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-03-06 CA CA000503429A patent/CA1239655A/en not_active Expired
- 1986-04-10 EP EP86302642A patent/EP0202751B1/en not_active Expired
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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