JPS6278822A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 −に嬰＋１１１１４　　げ丹ス１９千′ノ々１１やプラ
ズマ処理装置などの半導体製造装置に係り、特に半導体
を加工する機器をガスによって駆動および制御する半導
体製造装置に関する。

〔発明の背景〕

ガス（例えば空気）駆動方式の半導体製造装置は、例え
ば特公昭５４−２４６９１号公報に開示されているよう
に公知である。

半導体処理装置においては、半導体の処理を途中で中断
すると製品品質の低下となり１歩留りを悪化させる。こ
のため、処理途中での中断をな４すことが大きな課題と
なっている。

ガスによって半導体加工機を駆動および制御するガス駆
動タイプのものにおいては、その駆動源であるガス供給
ラインの故障は、処理を中断させるので極力防止する必
要がある。

〔発明の目的〕　　゛ 本発明の目的は、ガス供給ラインの故障が発生した場合
にも継断運転を可能にした半導体製造装置を提供するこ
とである。

〔発明の概要〕

本発明は、ガス供給ラインとは別個にガス４Ｊ（給源の
異なる別のガス供給ラインを設け、本来のガス供給ライ
ンの故障、特に供給ガス圧力の低下によって、別のガス
供給ラインのガスを半導体加工機に供給する如く構成し
たことを特徴とする。

〔発明の実施例〕

以下、本発明を９Ｓ１図に示す本発明の一実施例に基づ
き詳細に説明する。第１図において、ｌは半導体を加工
（処理）する加工機の一種であるドライエツチング装置
（以下、単に装置という、）１ある。５は空気圧縮機な
どで構成さｎるエアー供給源である。父は、エアー供給
源５からのガス（この例では空気）を加工機の駆動およ
び制御のために装ｆｔｌに導び（導管である。このエア
ー供給源５と導管間によって第１のガス供給ライン（こ
の例ではエアー供給ライン）が構成さｎる。

２は導管（資）の途中に設けたチェック弁であり、逆流
防止のために設けらｎている。圧力スイッチ３は、４管
父内のガス（空気）の圧力が許容値以下になったとき作
動する圧力検知器である。７は別のガス供給源であり、
ここでは窒素ガスを供給する例を示す。導管７０は、こ
の窒素ガスを装５！１に導び（ために設けらｎる。この
導管７０の途中には。

調節弁８が設げら几、弁開閉機構によって開閉調節され
る。９はチェック弁であり、逆流防止のために設けられ
る。窒素供給源７と導管７０と調節弁８とによって！Ｊ
２のガス供給ライン（この例では窒素供給ライン）が構
成さｎる。４は弁開閉機構であり、この例では電磁弁を
用いる。この電磁弁４は、圧力スイッチ３が作動したと
き弁８を開き。

窒素ガスを装置１１に供給する。圧カスイブチロは、導
管７０内のガス圧力が許容値以下になったとき作動する
圧力検知器である。

次に、第１図の動作を男２図に示すタイムチャートを参
考にして説明する。通常の状態においては、エアー供給
源５からのエアーが一定圧力以上で導管間を通って装置
１に供給され、半導体の加工が実施さｎる。この場合、
第２図のＡ区間に示すように、圧力スイッチ３はハイレ
ベルとなって作動しない。電磁弁４もハイレベルとなり
、弁８は閉じた状態となっている。したがって、窒素供
給源７からの窒素ガスは加工機側Ｉこ供給されない。

いま、何等かの異常によって、第２図のＢ区間に示すよ
うに、圧力スイッチ３が作動（すなわちエアー圧力が許
容値以下に低下）した場合、直ちに電磁弁４がローレベ
ルとなり、弁８は全開となる。

したがって、窒素ガスが導管７０を通って＊Ｉｉ！１に
供給さｎ、装ＷＬ１の駆動および制御は正常な場合と同
様に実施される。＄２図のＣ区間に示すように、エアー
圧力が正常に回復した場合には１区間Ａの場合と同様に
、弁８が閉じらｎ、再びエアーが装置１に供給されるよ
うになる。例えば、停電等が生じると、１１Ｅ磁弁４が
オフし、弁８が開々。

この状態を示したのが第２図のＤ区間である。停電によ
ってシステムは停止するが、窒素ガスが直値側に供給さ
れ、エアー駆動力による状態保持の必要な箇所の保持を
可能とする。第２図のＥ区間に示すように、圧力スイッ
チ６が作動（すなわち。

窒素供給ラインの異常）　した場合、エラーメツセージ
は表示さｎるが、装置１にはエアーが供給さｎでおり、
処理は中断されない。第２図のＦ区間のように、圧力ス
イッチ３および６が共にローレベル（作動）になった場
合は、ｇｉ直重の正常な駆動および制御ができないので
、直ちにンステム停止する。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によｎば１通常のガス供給ラ
インの故障時にも加工機の継続運転が実現でき、システ
ムの稼動率の向上、製品歩留りの向上に寄与するところ
大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図は動作タイ
ムチャートを示す図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、半導体を加工する機器をガスによって駆動および制
   御するためのガスを供給するガス供給源および該ガス供
   給源からのガスを該機器に送給する導管とからなるガス
   供給ラインを具備した半導体製造装置において、前記ガ
   ス供給ラインとは別のガス供給源、該別のガス供給源か
   らのガスを前記導管内に流入させるための別の導管、お
   よび該別の配管の途中に設けた弁からなる別のガス供給
   ラインを設けると共に、前記ガス供給ラインの導管内の
   圧力が許容値以下になったことを検知する圧力検知器と
   、該圧力検知器が許容値以下の圧力を検知している期間
   前記弁を開動作する弁開閉機構とを設けたことを特徴と
   する半導体製造装置。