JPS628120A - 光加熱炉の光学系位置調整方法 - Google Patents
光加熱炉の光学系位置調整方法Info
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- JPS628120A JPS628120A JP14677485A JP14677485A JPS628120A JP S628120 A JPS628120 A JP S628120A JP 14677485 A JP14677485 A JP 14677485A JP 14677485 A JP14677485 A JP 14677485A JP S628120 A JPS628120 A JP S628120A
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- light
- mirror
- elliptical mirror
- elliptical
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- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光加熱炉の光学系位置調整方法に関するもので
ある。
ある。
光加熱炉は光源と光学系とを組み合わせることにより高
密度エネルギーを被加熱物に照射することができて高速
高温加熱が可能であり、しかも装置を小型化することが
できるので、例えば高融点金属或いはその酸化物の粉体
試料を溶融するための加熱炉として有利に利用すること
ができる。従って5のような先細熱炉に種々の測定装置
を付属させることにより、種々の加熱実験を行うことが
でき、被加熱物の物性的な研究、例えば高温材料の基礎
物性の研究開発、アモルファス金属の開発、アモルファ
ス酸化物の物性研究、温度計測による熱特性の解析、温
度計測による品質管理などの研究を有利に行うことが可
能である。
密度エネルギーを被加熱物に照射することができて高速
高温加熱が可能であり、しかも装置を小型化することが
できるので、例えば高融点金属或いはその酸化物の粉体
試料を溶融するための加熱炉として有利に利用すること
ができる。従って5のような先細熱炉に種々の測定装置
を付属させることにより、種々の加熱実験を行うことが
でき、被加熱物の物性的な研究、例えば高温材料の基礎
物性の研究開発、アモルファス金属の開発、アモルファ
ス酸化物の物性研究、温度計測による熱特性の解析、温
度計測による品質管理などの研究を有利に行うことが可
能である。
このような先細熱炉の光学系の一例を第1図に示す、こ
の光学系は基本的には、例えばキセノンショートアーク
ランプなどの点状の発光部を有する光源ランプ1と、こ
の光源ランプ1と組み合わせて設けられ、その第1焦点
に当該光源ランプ1を位置させるべき一方の楕円鏡2と
、光源ランプ1及び一方の楕円鏡2よりの光を集光して
高密度化した微小スポット状の光を試料台5の被照射位
置6に保持される被加熱試料に照射するために設けられ
る他方の楕円鏡3と、一方の楕円鏡2から他方の楕円鏡
3に至る光路中において他方の楕円鏡3とこの他方の楕
円鏡3の第2焦点との間に介挿した、光の進行方向を変
えるための平面反射鏡4とを有してなり、一方の楕円鏡
2の第2焦点と他方の楕円鏡3の第2焦点(平面反射鏡
4により反射されてできる第2焦点)とが一致した状態
で一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3とが位置固定され
ている。7はアパーチャ一部材であり、このアパーチャ
一部材7はその開口が一方の楕円鏡2の第2焦点に位置
するよう保持具8に保持され、これにより光源ランプ1
及び一方の楕円鏡2からの光のうち第2焦点に集光しな
いような光が遮断される。Pは光軸である。
の光学系は基本的には、例えばキセノンショートアーク
ランプなどの点状の発光部を有する光源ランプ1と、こ
の光源ランプ1と組み合わせて設けられ、その第1焦点
に当該光源ランプ1を位置させるべき一方の楕円鏡2と
、光源ランプ1及び一方の楕円鏡2よりの光を集光して
高密度化した微小スポット状の光を試料台5の被照射位
置6に保持される被加熱試料に照射するために設けられ
る他方の楕円鏡3と、一方の楕円鏡2から他方の楕円鏡
3に至る光路中において他方の楕円鏡3とこの他方の楕
円鏡3の第2焦点との間に介挿した、光の進行方向を変
えるための平面反射鏡4とを有してなり、一方の楕円鏡
2の第2焦点と他方の楕円鏡3の第2焦点(平面反射鏡
4により反射されてできる第2焦点)とが一致した状態
で一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3とが位置固定され
ている。7はアパーチャ一部材であり、このアパーチャ
一部材7はその開口が一方の楕円鏡2の第2焦点に位置
するよう保持具8に保持され、これにより光源ランプ1
及び一方の楕円鏡2からの光のうち第2焦点に集光しな
いような光が遮断される。Pは光軸である。
このような構成の先細熱炉においては、被加熱試料に照
射される光を高密度化された微小スポット状のものとす
るために、光学系の焦点が厳密に調整されていることが
必要である。特に実用的な観点からは、焦点の位置精度
が約0.1龍程度のオーダーで調整されていることが望
ましく、またそのような高精度で焦点の位置が調整され
ている場合には出力が約10KW程度の光源ランプによ
り極めて高温例えば約3000℃程度にまで高速加熱す
ることが可能である。
射される光を高密度化された微小スポット状のものとす
るために、光学系の焦点が厳密に調整されていることが
必要である。特に実用的な観点からは、焦点の位置精度
が約0.1龍程度のオーダーで調整されていることが望
ましく、またそのような高精度で焦点の位置が調整され
ている場合には出力が約10KW程度の光源ランプによ
り極めて高温例えば約3000℃程度にまで高速加熱す
ることが可能である。
このような構成の先細熱炉においては、通常その製造時
において光学系の焦点の位置調整が既述のオーダーでな
されるが、このように一旦高精度に焦点が調整された場
合にも、先細熱炉の使用時間の経過と共に光学系が汚れ
たりするので、平面反射鏡4の掃除をしたり或いは光源
ランプ1を交換したりする作業が必要とされる場合があ
り、このような場合には光学系の焦点位置が微妙にずれ
ることがある。このように光学系の焦点位置がずれた場
合には高密度化された微小スポット状の光を得ることが
できない、このため、先細熱炉においては、光学系の位
置調整を行うことが必要とされる。
において光学系の焦点の位置調整が既述のオーダーでな
されるが、このように一旦高精度に焦点が調整された場
合にも、先細熱炉の使用時間の経過と共に光学系が汚れ
たりするので、平面反射鏡4の掃除をしたり或いは光源
ランプ1を交換したりする作業が必要とされる場合があ
り、このような場合には光学系の焦点位置が微妙にずれ
ることがある。このように光学系の焦点位置がずれた場
合には高密度化された微小スポット状の光を得ることが
できない、このため、先細熱炉においては、光学系の位
置調整を行うことが必要とされる。
光学系の位置を高精度に調整するためには、当該光層熱
炉の光源ランプlを点灯して行えばよいが、しかしなが
ら、この場合には相当高度な技術が必要とされ、従って
先細熱炉の利用者が容易に必要とされる高精度で光学系
の位置調整を行うことができない問題点がある。
炉の光源ランプlを点灯して行えばよいが、しかしなが
ら、この場合には相当高度な技術が必要とされ、従って
先細熱炉の利用者が容易に必要とされる高精度で光学系
の位置調整を行うことができない問題点がある。
〔発明の目的〕 ・
本発明は以上の如き事情に基いてなされたものであって
、その目的は、簡単な方法で光学系の位置を高精度で調
整することができる先細熱炉の光学系位置調整方法を提
供することにある。
、その目的は、簡単な方法で光学系の位置を高精度で調
整することができる先細熱炉の光学系位置調整方法を提
供することにある。
本発明光加熱炉の光学系位置調整方法は、各々の第2焦
点が設定位置において一致するよう配設した、光源ラン
プが組み込まれる一方の楕円鏡及びその集光された光が
試料台の被照射位1に照射される他方の楕円鏡とを具え
てなる先細熱炉において、前記設定位置に位置調整用光
源を置き、この位置調整用光源よりの光が前記一方の楕
円鏡により集光される位置に前記光源ランプの光点位置
が一敗するよう、前記一方の楕円鏡、前記光源ランプの
少なくとも一つの位置を調整するかまたは前記一方の楕
円鏡の第1焦点と第2焦点との間に平面反射鏡が介挿さ
れる場合には前記一方の楕円鏡、前記光源ランプ、前記
平面反射鏡の少なくとも一つの位置を調整することを特
徴とし、また各々の第2焦点が設定位置において一致す
るよう配″設した、光源ランプが組み込まれる一方の楕
円鏡及びその集光された光が試料台の被照射位置に照射
される他方の楕円鏡とを具えてなる光加熱炉において、
前記設定位置に位置調整用光源を置き、この位置調整用
光源よりの光が前記他方の楕円鏡により集光される位置
に前記試料台の被照射位置が一致するよう、前記他方の
楕円鏡の位置を調整するかまたは前記他方の楕円鏡の第
1焦点と第2焦点との間に平面反射鏡が介挿される場合
には前記他方の楕円鏡、前記平面反射鏡の少なくとも一
つの位置を調整することを特徴とする。
点が設定位置において一致するよう配設した、光源ラン
プが組み込まれる一方の楕円鏡及びその集光された光が
試料台の被照射位1に照射される他方の楕円鏡とを具え
てなる先細熱炉において、前記設定位置に位置調整用光
源を置き、この位置調整用光源よりの光が前記一方の楕
円鏡により集光される位置に前記光源ランプの光点位置
が一敗するよう、前記一方の楕円鏡、前記光源ランプの
少なくとも一つの位置を調整するかまたは前記一方の楕
円鏡の第1焦点と第2焦点との間に平面反射鏡が介挿さ
れる場合には前記一方の楕円鏡、前記光源ランプ、前記
平面反射鏡の少なくとも一つの位置を調整することを特
徴とし、また各々の第2焦点が設定位置において一致す
るよう配″設した、光源ランプが組み込まれる一方の楕
円鏡及びその集光された光が試料台の被照射位置に照射
される他方の楕円鏡とを具えてなる光加熱炉において、
前記設定位置に位置調整用光源を置き、この位置調整用
光源よりの光が前記他方の楕円鏡により集光される位置
に前記試料台の被照射位置が一致するよう、前記他方の
楕円鏡の位置を調整するかまたは前記他方の楕円鏡の第
1焦点と第2焦点との間に平面反射鏡が介挿される場合
には前記他方の楕円鏡、前記平面反射鏡の少なくとも一
つの位置を調整することを特徴とする。
斯かる方法によれば、位置調整用光源を設定位置に置い
てこの光を一方の楕円鏡により集光させてその集光位置
に光源ランプの光点位置が一致するよう或いは位置調整
用光源を設定位置に置いてこの光を他方の楕円鏡により
集光させてその集光位置に試料台の被照射位置が一致す
るよう、光源ランプ、一方の楕円鏡、他方の楕円鏡、必
要に応じて設けられる平面反射鏡の少なくとも一つの位
置を調整して光学系の位置を調整する方法であるので、
光源ランプを交換した後或いは光学系の掃除をした後に
おいて必要とされる光学系の位置調整においては、光源
ランプを実際に点灯することなく簡単な手段でしかも容
易に光学系の位置調整を高い精度で行うことができる。
てこの光を一方の楕円鏡により集光させてその集光位置
に光源ランプの光点位置が一致するよう或いは位置調整
用光源を設定位置に置いてこの光を他方の楕円鏡により
集光させてその集光位置に試料台の被照射位置が一致す
るよう、光源ランプ、一方の楕円鏡、他方の楕円鏡、必
要に応じて設けられる平面反射鏡の少なくとも一つの位
置を調整して光学系の位置を調整する方法であるので、
光源ランプを交換した後或いは光学系の掃除をした後に
おいて必要とされる光学系の位置調整においては、光源
ランプを実際に点灯することなく簡単な手段でしかも容
易に光学系の位置調整を高い精度で行うことができる。
そして位置調整用光源としては出力の小さいものを用い
ることができるので、この位置調整用光源の一方の楕円
鏡或いは他方の楕円鏡による光像の結像位置を眩しさを
伴うことな←簡単に検出することができ、このため光源
ランプの位置調整においては例えば目視による位置調整
が可能となりこの点からも光学系の位Nl!整が容易と
なる。
ることができるので、この位置調整用光源の一方の楕円
鏡或いは他方の楕円鏡による光像の結像位置を眩しさを
伴うことな←簡単に検出することができ、このため光源
ランプの位置調整においては例えば目視による位置調整
が可能となりこの点からも光学系の位Nl!整が容易と
なる。
以下図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第1図に示すような構成の光学系を有する光加熱炉にお
いて、例えば平面反射鏡4の掃除をした後においては、
第2rf!Jに示すように、互いに一致する一方の楕円
鏡2及び他方の楕円鏡3の第2焦点位置即ち設定位置A
に位置調整用光源9を置き、この位置調整用光源9を点
灯してその光を平面反射鏡4に反射させた後他方の楕円
鏡3に向かうよう照射する。試料台5の被加熱試料が位
置される被照射位置6!IIち光加熱処理時において被
加熱試料が実際に光を受けるべき位置に、当該位置調整
用光源9よりの光が他方の楕円鏡3により集光されて結
像するよう平面反射鏡4の位置を調整する。
いて、例えば平面反射鏡4の掃除をした後においては、
第2rf!Jに示すように、互いに一致する一方の楕円
鏡2及び他方の楕円鏡3の第2焦点位置即ち設定位置A
に位置調整用光源9を置き、この位置調整用光源9を点
灯してその光を平面反射鏡4に反射させた後他方の楕円
鏡3に向かうよう照射する。試料台5の被加熱試料が位
置される被照射位置6!IIち光加熱処理時において被
加熱試料が実際に光を受けるべき位置に、当該位置調整
用光源9よりの光が他方の楕円鏡3により集光されて結
像するよう平面反射鏡4の位置を調整する。
具体的には、被照射位置6に、反射性マークがその表面
に設けられた位置調整用の模擬試料10を置き、位Wi
lJ整用光源9を点灯した状態において模擬試料10の
反射性マークからの反射光を例えば他方の楕円鏡3の底
部に設けた開口11からデジタル輝度計12により受光
してその輝度を測定しながら、第3図に示すように、光
軸Pに対する平面反射鏡4の傾きαと光軸Pに対する平
面反射鏡4の交叉角θとを微調整し、デジタル輝度計1
2による測定輝度が最高値となった状態で平面反射鏡4
を位置固定する。
に設けられた位置調整用の模擬試料10を置き、位Wi
lJ整用光源9を点灯した状態において模擬試料10の
反射性マークからの反射光を例えば他方の楕円鏡3の底
部に設けた開口11からデジタル輝度計12により受光
してその輝度を測定しながら、第3図に示すように、光
軸Pに対する平面反射鏡4の傾きαと光軸Pに対する平
面反射鏡4の交叉角θとを微調整し、デジタル輝度計1
2による測定輝度が最高値となった状態で平面反射鏡4
を位置固定する。
このようにして平面反射鏡4を高い精度で位置調整され
たものとすることができ、この結果高密度化した微小ス
ポット状の光を被加熱試料に照射することができて高温
高速加熱を行うことが可能となる。
たものとすることができ、この結果高密度化した微小ス
ポット状の光を被加熱試料に照射することができて高温
高速加熱を行うことが可能となる。
また光源ランプ1を交換したときには、第4図に示すよ
うに、位置調整用光源9を前記設定位置Aに置き、この
位1fl!整用光[9を点灯してその光を一方の楕円鏡
2に向けて照射する。この位置調整用光源9よりの光が
一方の楕円鏡2により集光されて結像する位置に光源ラ
ンプ1の光点位置が一致するよう当該光源ランプ1の位
置を調整する。具体的には、位置調整用光源9の一方の
楕円鏡2による光像を目視により追跡しながら当該光像
が光源ランプ1の光点位W(通常は陰極体の先端近傍)
に一致するよう当該光源ランプ1を一方の楕円鏡2に対
して移動させながら位置調整する。
うに、位置調整用光源9を前記設定位置Aに置き、この
位1fl!整用光[9を点灯してその光を一方の楕円鏡
2に向けて照射する。この位置調整用光源9よりの光が
一方の楕円鏡2により集光されて結像する位置に光源ラ
ンプ1の光点位置が一致するよう当該光源ランプ1の位
置を調整する。具体的には、位置調整用光源9の一方の
楕円鏡2による光像を目視により追跡しながら当該光像
が光源ランプ1の光点位W(通常は陰極体の先端近傍)
に一致するよう当該光源ランプ1を一方の楕円鏡2に対
して移動させながら位置調整する。
この場合位置調整用光B9としては出力の小さいものを
用いることができるので、眩しさを感じることなく目視
により位置調整用光源9の一方の楕円鏡2による光像の
位置を確認することができ、また光源ランプ1を点灯さ
せないので光学系の位置調整に必要な消費電力が少なく
節電を図ることができる。
用いることができるので、眩しさを感じることなく目視
により位置調整用光源9の一方の楕円鏡2による光像の
位置を確認することができ、また光源ランプ1を点灯さ
せないので光学系の位置調整に必要な消費電力が少なく
節電を図ることができる。
また光加熱炉において光源ランプ1の交換と平面反射鏡
4の掃除の両方を行った後においては、光源ランプlの
位置調整と平面反射鏡4の位置調整の両方を行うことが
必要であるが、この場合には光源ランプ1の位置調整と
平面反射鏡4の位置調整とを個別に行うこととな、す、
個別の位置調整においてはそれぞれ高い精度で位置調整
された状態となるものの現実には微小の誤差を含むもの
であり、これらの誤差が加算された状態で光学系全体の
位置が調整されてしまうこともある。このような場合を
考慮すると、個別の位置調整が完了した後さらに光源ラ
ンプ1及び平面反射鏡4の光学系全体における位置が厳
密に調整されたものであることを確認することが好まし
い。即ち第5図に示すように、例えば試料台5の被加熱
試料が位置される被照射位置6に例えば点状の発光部を
有するLED光源13を置き、このLED光源13を点
灯して、このLED光源13の光像が、他方の楕円鏡3
、平面反射鏡4を経由して一方の楕円鏡2により結像さ
れて光源ランプ1の光点位置に一致することを例えば目
視により確認することが好ましい。
4の掃除の両方を行った後においては、光源ランプlの
位置調整と平面反射鏡4の位置調整の両方を行うことが
必要であるが、この場合には光源ランプ1の位置調整と
平面反射鏡4の位置調整とを個別に行うこととな、す、
個別の位置調整においてはそれぞれ高い精度で位置調整
された状態となるものの現実には微小の誤差を含むもの
であり、これらの誤差が加算された状態で光学系全体の
位置が調整されてしまうこともある。このような場合を
考慮すると、個別の位置調整が完了した後さらに光源ラ
ンプ1及び平面反射鏡4の光学系全体における位置が厳
密に調整されたものであることを確認することが好まし
い。即ち第5図に示すように、例えば試料台5の被加熱
試料が位置される被照射位置6に例えば点状の発光部を
有するLED光源13を置き、このLED光源13を点
灯して、このLED光源13の光像が、他方の楕円鏡3
、平面反射鏡4を経由して一方の楕円鏡2により結像さ
れて光源ランプ1の光点位置に一致することを例えば目
視により確認することが好ましい。
ここで仮にLED光源13の光像が光源ランプ1の光点
位置に一致していないときには、平面反射鏡4或いは光
源ランプ1の一方または両方を再度微小調整して光学系
全体における光源ランプ1及び平面反射鏡4の位置の調
整を行う。
位置に一致していないときには、平面反射鏡4或いは光
源ランプ1の一方または両方を再度微小調整して光学系
全体における光源ランプ1及び平面反射鏡4の位置の調
整を行う。
以上において、位置調整用光aI9の具体例としては例
えばミラーコンデンサ型ハロゲンランプを挙げることが
でき、この位置調整用光源9の光点の大きさは光源ラン
プlの輝点の大きさより若干大きいことが好ましく、そ
のように位置調整用光源9を選択することにより光学系
の焦点位置の調整精度を高くすることができる。
えばミラーコンデンサ型ハロゲンランプを挙げることが
でき、この位置調整用光源9の光点の大きさは光源ラン
プlの輝点の大きさより若干大きいことが好ましく、そ
のように位置調整用光源9を選択することにより光学系
の焦点位置の調整精度を高くすることができる。
そして位置調整用光源9は適当な保持具により光加熱炉
内の所定位置に脱着自在に装着し得るものであることが
実用上便利であり、そのためアバー千ャ一部材7の保持
具8を位置調整用光源9の保持具として兼用することが
できるように構成することが実用上便利である。例えば
第6図に示すように、ストッパー14と、アパーチャ一
部材7の両側部が嵌入されて当該アパーチャ一部材7を
スライド可能に保持する一対のガイド15.15とを基
台(図示せず)に固定して保持具8を構成し、一方第7
図に示すように、保持具8の一対のガイド15、15に
嵌入してスライド可能に保持されるようホルダー16を
成形し、このホルダー16をその端部がストッパー14
に当接した状態で保持具8に取り付けたときには位置調
整用光源9の光点の位置が設定位置Aに一致することと
なるようにホルダー16に位置調整用光源9を固定する
。焦点調整時にはアパーチャ一部材7を保持具8から取
り外し、位置調整用光源9が固定されたホルダー16を
保持具8に取り付けて当該位置調整用光源9が設定位置
Aに位置するようにする。この場合、位置調整用光源9
としてミラーを有してなるものを用いる場合には、位置
調整用光源9よりの光に方向性があるのでこの方向性を
考慮して位置調整用光a9をホルダー16に取り付ける
必要があり、また位置調整用光源9の光を一方の楕円鏡
2に向かって照射する場合と、他方の楕円鏡3に向かっ
て照射する場合とでは、ミラーの反射面の位置をそれぞ
れ反対方向にすることが必要であるので、例えばホルダ
ー16を保持具8に対して反対方向に取り付は可能に構
成し、そしてミラーの反射面がいずれの方向に向いてい
る場合にも位置調整用光源9の光点位置が常に設定位置
Aに位置することとなるよう例えば当該位置調整用光源
9をその光点位置がホルダー16の中心に位置するよう
ホルダー16に固定して構成することが望ましい。この
ようにアパーチャ一部材7の保持具8を位置調整用光I
IA9の保持具として兼用させることにより、位置調整
用光源9を常に設定位置Aに容易に固定することができ
極めて便利である。
内の所定位置に脱着自在に装着し得るものであることが
実用上便利であり、そのためアバー千ャ一部材7の保持
具8を位置調整用光源9の保持具として兼用することが
できるように構成することが実用上便利である。例えば
第6図に示すように、ストッパー14と、アパーチャ一
部材7の両側部が嵌入されて当該アパーチャ一部材7を
スライド可能に保持する一対のガイド15.15とを基
台(図示せず)に固定して保持具8を構成し、一方第7
図に示すように、保持具8の一対のガイド15、15に
嵌入してスライド可能に保持されるようホルダー16を
成形し、このホルダー16をその端部がストッパー14
に当接した状態で保持具8に取り付けたときには位置調
整用光源9の光点の位置が設定位置Aに一致することと
なるようにホルダー16に位置調整用光源9を固定する
。焦点調整時にはアパーチャ一部材7を保持具8から取
り外し、位置調整用光源9が固定されたホルダー16を
保持具8に取り付けて当該位置調整用光源9が設定位置
Aに位置するようにする。この場合、位置調整用光源9
としてミラーを有してなるものを用いる場合には、位置
調整用光源9よりの光に方向性があるのでこの方向性を
考慮して位置調整用光a9をホルダー16に取り付ける
必要があり、また位置調整用光源9の光を一方の楕円鏡
2に向かって照射する場合と、他方の楕円鏡3に向かっ
て照射する場合とでは、ミラーの反射面の位置をそれぞ
れ反対方向にすることが必要であるので、例えばホルダ
ー16を保持具8に対して反対方向に取り付は可能に構
成し、そしてミラーの反射面がいずれの方向に向いてい
る場合にも位置調整用光源9の光点位置が常に設定位置
Aに位置することとなるよう例えば当該位置調整用光源
9をその光点位置がホルダー16の中心に位置するよう
ホルダー16に固定して構成することが望ましい。この
ようにアパーチャ一部材7の保持具8を位置調整用光I
IA9の保持具として兼用させることにより、位置調整
用光源9を常に設定位置Aに容易に固定することができ
極めて便利である。
そして位置調整用光源9よりの光による模擬試料10の
反射性マークからの反射光をデジタル輝度計12により
測定して光学系の位置調整を行う場合には、位置調整用
光源9はその光放射強度が一定であることが望ましく、
そのために位置調整用光源9を電圧安定化電源17(第
2図参照)により点灯することが好ましい。
反射性マークからの反射光をデジタル輝度計12により
測定して光学系の位置調整を行う場合には、位置調整用
光源9はその光放射強度が一定であることが望ましく、
そのために位置調整用光源9を電圧安定化電源17(第
2図参照)により点灯することが好ましい。
そして一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3が、その位置
を微小調整し得る構成とされている光加熱炉において光
学°系の位置調整を行う場合には、これら一方の楕円鏡
2及び他方の楕円鏡3を微小調整するようにしてもよい
。
を微小調整し得る構成とされている光加熱炉において光
学°系の位置調整を行う場合には、これら一方の楕円鏡
2及び他方の楕円鏡3を微小調整するようにしてもよい
。
以上の実施例によれば、平面反射鏡4の位置調整におい
ては、互いに一致する一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡
3の第2焦点位置即ち設定位置Aに位置調整用光源9を
置き、この位置調整用光源9を点灯してその光を平面反
射鏡4に反射させた後他方の楕円鏡3に向かうよう照射
して、試料台5の、被加熱試料が位置される被照射位置
6即ち光加熱処理時において被加熱試料が実際に光を受
けるべき位置に、当該位置調整用光源9よりの光が他方
の楕円鏡3により集光されて結像するよう平面反射鏡4
の位置を調整するので、光源ランプ1の位置に拘束され
ることなく、前記設定位置Aが厳密に他方の楕円鏡3の
第2焦点となり試料台5の被加熱試料が位置される被照
射位置6が厳密に他方の楕円鏡3の第1焦点となるよう
平面反射鏡4の位置を固定することができるので位置調
整を極めて容易に行うことができる。
ては、互いに一致する一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡
3の第2焦点位置即ち設定位置Aに位置調整用光源9を
置き、この位置調整用光源9を点灯してその光を平面反
射鏡4に反射させた後他方の楕円鏡3に向かうよう照射
して、試料台5の、被加熱試料が位置される被照射位置
6即ち光加熱処理時において被加熱試料が実際に光を受
けるべき位置に、当該位置調整用光源9よりの光が他方
の楕円鏡3により集光されて結像するよう平面反射鏡4
の位置を調整するので、光源ランプ1の位置に拘束され
ることなく、前記設定位置Aが厳密に他方の楕円鏡3の
第2焦点となり試料台5の被加熱試料が位置される被照
射位置6が厳密に他方の楕円鏡3の第1焦点となるよう
平面反射鏡4の位置を固定することができるので位置調
整を極めて容易に行うことができる。
また光源ランプlの位置調整においては、前記設定位置
Aに位置調整用光源9を置き、この位置調整用光源9を
点灯してその光を一方の楕円鏡2に向けて照射して、こ
の位置調整用光源9よりの光が一方の楕円鏡2により集
光されて結像する位置に光源ランプ1の光点位置が一致
するよう当該光源ランプ1の位置を調整するので、平面
反射鏡4の位置に拘束されることなく、前記設定位gA
が厳密に一方の楕円鏡2の第2焦点となり光源ランプ1
の光点位置が厳密に一方の楕円鏡2の第1焦点となるよ
う光源ランプ1の位置を固定することができるので位置
調整を極めて容易に行うことができる。
Aに位置調整用光源9を置き、この位置調整用光源9を
点灯してその光を一方の楕円鏡2に向けて照射して、こ
の位置調整用光源9よりの光が一方の楕円鏡2により集
光されて結像する位置に光源ランプ1の光点位置が一致
するよう当該光源ランプ1の位置を調整するので、平面
反射鏡4の位置に拘束されることなく、前記設定位gA
が厳密に一方の楕円鏡2の第2焦点となり光源ランプ1
の光点位置が厳密に一方の楕円鏡2の第1焦点となるよ
う光源ランプ1の位置を固定することができるので位置
調整を極めて容易に行うことができる。
次に光学系の構成が上記の場合と異なるときの例につい
て説明する。
て説明する。
例えば光源ランプlとして超高圧水銀ランプを用いる場
合においては、当該超高圧水銀ランプはその電極が垂直
方向に伸びる状態で点灯することが必要であるので、こ
の場合には第8図に示すように、さらに平面反射鏡41
が一方の楕円鏡2の第1焦点と第2焦点との間に介挿さ
れて光学系が構成される。斯かる構成の光学系を有する
光加熱炉の当該光学系の位置調整を行う場合において、
光源ランプ1の交換後においては、一方の楕円鏡2及び
他方の楕円鏡3の第2焦点となるべき設定位置Aに位置
調整用光1l19を置き、この位置調整用光′a9を点
灯してその光を平面反射鏡41に反射させた後一方の楕
円鏡2に向かうよう照射し、この位置調整用光源9より
の光が一方の楕円鏡2により集光されて結像する位置に
光源ランプ1の光点位置が一致するよう既述の実施例と
同様にして当該光源ランプ1の位置を調整する。
合においては、当該超高圧水銀ランプはその電極が垂直
方向に伸びる状態で点灯することが必要であるので、こ
の場合には第8図に示すように、さらに平面反射鏡41
が一方の楕円鏡2の第1焦点と第2焦点との間に介挿さ
れて光学系が構成される。斯かる構成の光学系を有する
光加熱炉の当該光学系の位置調整を行う場合において、
光源ランプ1の交換後においては、一方の楕円鏡2及び
他方の楕円鏡3の第2焦点となるべき設定位置Aに位置
調整用光1l19を置き、この位置調整用光′a9を点
灯してその光を平面反射鏡41に反射させた後一方の楕
円鏡2に向かうよう照射し、この位置調整用光源9より
の光が一方の楕円鏡2により集光されて結像する位置に
光源ランプ1の光点位置が一致するよう既述の実施例と
同様にして当該光源ランプ1の位置を調整する。
また平面反射鏡41を掃除した後においては、一方の楕
円鏡2及び他方の楕円鏡3の第2焦点となるべき設定位
mAに位置調整用光aI9を置き、この位Wil!整用
光源9を点灯してその光を平面反射鏡41に反射させた
後一方の楕円鏡2に向かうよう照射し、この位置調整用
光源9よりの光が一方の楕円鏡2により集光されて結像
する位置に光源ランプ1の光点位置が一敗するよう既述
の実施例と同様にして当該平面反射鏡41の位置を調整
する。
円鏡2及び他方の楕円鏡3の第2焦点となるべき設定位
mAに位置調整用光aI9を置き、この位Wil!整用
光源9を点灯してその光を平面反射鏡41に反射させた
後一方の楕円鏡2に向かうよう照射し、この位置調整用
光源9よりの光が一方の楕円鏡2により集光されて結像
する位置に光源ランプ1の光点位置が一敗するよう既述
の実施例と同様にして当該平面反射鏡41の位置を調整
する。
また光加熱炉においては、平面反射鏡は必ずしも必要と
されるものとは限らないので、第9図に示すように平面
反射鏡を有しない光学系を有する光加熱炉において光源
ランプ1の交換後において光学系の位置調整を行う場合
には、一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3の第2焦点と
なるべき設定位置Aに位置調整用光源9を置き、この位
置調整用光源9を点灯してその光を一方の楕円鏡2に向
かうよう照射し、この位置調整用光源9よりの光が一方
の楕円鏡2により集光されて結像する位置に光源ランプ
1の光点位置が一致するよう既述の実施例と同様にして
当該光源ランプ1の位置を調整する。また必要に応じて
一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3の位置を微小調整す
るようにしてもよい。
されるものとは限らないので、第9図に示すように平面
反射鏡を有しない光学系を有する光加熱炉において光源
ランプ1の交換後において光学系の位置調整を行う場合
には、一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3の第2焦点と
なるべき設定位置Aに位置調整用光源9を置き、この位
置調整用光源9を点灯してその光を一方の楕円鏡2に向
かうよう照射し、この位置調整用光源9よりの光が一方
の楕円鏡2により集光されて結像する位置に光源ランプ
1の光点位置が一致するよう既述の実施例と同様にして
当該光源ランプ1の位置を調整する。また必要に応じて
一方の楕円鏡2及び他方の楕円鏡3の位置を微小調整す
るようにしてもよい。
以上説明したように、本発明は、各々の第2焦点が設定
位置において一敗するよう配設した、光源ランプが組み
込まれる一方の楕円鏡及びその集光された光が試料台の
被照射位置に照射される他方の楕円鏡とを具えてなる光
加熱炉において、位置調整用光源を設定位置に置いてこ
れよりの光を一方の楕円鏡または他方の楕円鏡により集
光させてその結像位置を追跡することにより光源ランプ
、一方の楕円鏡、他方の楕円鏡、必要に応じて設けられ
る平面反射鏡の少なくともいずれか一つの位置を調整し
て光学系の位置を調整する方法であるので、光源ランプ
を交換した後或いは光学系の掃除をした後において必要
とされる光学系の位置調整においては、光源ランプを実
際に点灯することなく簡単な手段でしかも容易に光学系
の位WtPi整を高い精度で行うことができる。そして
位置調整用光源としては出力の小さいものを用いること
ができるので、この位置調整用光源の一方の楕円鏡或い
は他方の楕円鏡による光像の結像位置を眩しさを伴うこ
となく簡単に検出することができ、このため光源ランプ
の位置調整においては例えば目視による位置調整が可能
となりこの点からも光学系の位置調整が容易となる。
位置において一敗するよう配設した、光源ランプが組み
込まれる一方の楕円鏡及びその集光された光が試料台の
被照射位置に照射される他方の楕円鏡とを具えてなる光
加熱炉において、位置調整用光源を設定位置に置いてこ
れよりの光を一方の楕円鏡または他方の楕円鏡により集
光させてその結像位置を追跡することにより光源ランプ
、一方の楕円鏡、他方の楕円鏡、必要に応じて設けられ
る平面反射鏡の少なくともいずれか一つの位置を調整し
て光学系の位置を調整する方法であるので、光源ランプ
を交換した後或いは光学系の掃除をした後において必要
とされる光学系の位置調整においては、光源ランプを実
際に点灯することなく簡単な手段でしかも容易に光学系
の位WtPi整を高い精度で行うことができる。そして
位置調整用光源としては出力の小さいものを用いること
ができるので、この位置調整用光源の一方の楕円鏡或い
は他方の楕円鏡による光像の結像位置を眩しさを伴うこ
となく簡単に検出することができ、このため光源ランプ
の位置調整においては例えば目視による位置調整が可能
となりこの点からも光学系の位置調整が容易となる。
第1図は光加熱炉の光学系の一例を示す説明図、第2図
乃至第7図は本発明の一実施例を示す説明図、第8図及
び第9図は各々光加熱炉の光学系の他の例を示す説明図
である。
乃至第7図は本発明の一実施例を示す説明図、第8図及
び第9図は各々光加熱炉の光学系の他の例を示す説明図
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)各々の第2焦点が設定位置において一致するよう配
設した、光源ランプが組み込まれる一方の楕円鏡及びそ
の集光された光が試料台の被照射位置に照射される他方
の楕円鏡とを具えてなる光加熱炉において、前記設定位
置に位置調整用光源を置き、この位置調整用光源よりの
光が前記一方の楕円鏡により集光される位置に前記光源
ランプの光点位置が一致するよう、前記一方の楕円鏡、
前記光源ランプの少なくとも一つの位置を調整するかま
たは前記一方の楕円鏡の第1焦点と第2焦点との間に平
面反射鏡が介挿される場合には前記一方の楕円鏡、前記
光源ランプ、前記平面反射鏡の少なくとも一つの位置を
調整することを特徴とする光加熱炉の光学系位置調整方
法。 2)各々の第2焦点が設定位置において一致するよう配
設した、光源ランプが組み込まれる一方の楕円鏡及びそ
の集光された光が試料台の被照射位置に照射される他方
の楕円鏡とを具えてなる光加熱炉において、前記設定位
置に位置調整用光源を置き、この位置調整用光源よりの
光が前記他方の楕円鏡により集光される位置に前記試料
台の被照射位置が一致するよう、前記他方の楕円鏡の位
置を調整するかまたは前記他方の楕円鏡の第1焦点と第
2焦点との間に平面反射鏡が介挿される場合には前記他
方の楕円鏡、前記平面反射鏡の少なくとも一つの位置を
調整することを特徴とする光加熱炉の光学系位置調整方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14677485A JPS628120A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 光加熱炉の光学系位置調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14677485A JPS628120A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 光加熱炉の光学系位置調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS628120A true JPS628120A (ja) | 1987-01-16 |
Family
ID=15415237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14677485A Pending JPS628120A (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 光加熱炉の光学系位置調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628120A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01319007A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Yamashita Denso Kk | 回転楕円鏡を使用した集光装置における光源位置調整方法 |
| US20090249787A1 (en) * | 2006-11-13 | 2009-10-08 | Deutsches Zentrum Fuer Luft- Und Raumfahrt E. V. | Method for controlling the alignment of a heliostat with respect to a receiver, heliostat device and solar power plant |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP14677485A patent/JPS628120A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01319007A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Yamashita Denso Kk | 回転楕円鏡を使用した集光装置における光源位置調整方法 |
| US20090249787A1 (en) * | 2006-11-13 | 2009-10-08 | Deutsches Zentrum Fuer Luft- Und Raumfahrt E. V. | Method for controlling the alignment of a heliostat with respect to a receiver, heliostat device and solar power plant |
| US8651100B2 (en) * | 2006-11-13 | 2014-02-18 | Deutsches Zentrum Fuer Luft- Und Raumfahrt E.V. | Method for controlling the alignment of a heliostat with respect to a receiver, heliostat device and solar power plant |
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