JPS6282083A - レ−ザ−記録用フイルム - Google Patents
レ−ザ−記録用フイルムInfo
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- JPS6282083A JPS6282083A JP60223194A JP22319485A JPS6282083A JP S6282083 A JPS6282083 A JP S6282083A JP 60223194 A JP60223194 A JP 60223194A JP 22319485 A JP22319485 A JP 22319485A JP S6282083 A JPS6282083 A JP S6282083A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザー光を利用する記録に適したレーザー記
録用フィルムに関するものである。
録用フィルムに関するものである。
情報の高速記録あるいは実時間的記録が必要とされる分
野において、レーザー光を利用する方法が近年多く提案
されている。この方去はレーザー光の光エネルギーの強
さ及び解像力を利用するものであり、光吸収性のよい物
質にL/−ザー攪を照射し、これを吸収して加熱された
物質が受像面KZ着付着して画像を記録する菟のである
。
野において、レーザー光を利用する方法が近年多く提案
されている。この方去はレーザー光の光エネルギーの強
さ及び解像力を利用するものであり、光吸収性のよい物
質にL/−ザー攪を照射し、これを吸収して加熱された
物質が受像面KZ着付着して画像を記録する菟のである
。
この記録フィルムとしては、熱を吸収するカーボンブラ
ックなどの微粒子およびニトロセルロースなどの自己酸
化性結合物質を含有する被1物質を塗布した記録フィル
ムが提案されている(%開田48−43632号)。こ
の記録フィルム゛1土レーザー光を照射してカーボンブ
ラックなどの微句子を池の記録テープに転移させること
(・てより、ネガ、ポジの記録が可能となるものである
。
ックなどの微粒子およびニトロセルロースなどの自己酸
化性結合物質を含有する被1物質を塗布した記録フィル
ムが提案されている(%開田48−43632号)。こ
の記録フィルム゛1土レーザー光を照射してカーボンブ
ラックなどの微句子を池の記録テープに転移させること
(・てより、ネガ、ポジの記録が可能となるものである
。
また、レーザーエネルギーを吸収する粒子、自己酸化性
結合剤および交叉結合41または交叉結合可能な樹弓旨
あるいは非酸化性重合物質ないしは樹脂と組合された又
又結合i”+llからなる被嘩物′4を透明フィルムに
塗布し、これをアルミニウムノートのような石版印刷表
面と緊密に接触させ、透明フィルム側からレーザー光を
導入して、被I′量物資を選択的に石版印刷表面て転移
させ印刷版を製造する方法が提案されている(特開昭5
0−102402号)。これらのレーザー記録用フィル
ムはいスレモニトロセルロースのような自己酸化性結合
剤を利用し、レーザー光によって供給される熱で自己酸
化性結合剤を加熱して、・燃焼ないしは噴出させ、カー
ボンブラックのような熱吸収粒子と樹脂とを搬出し、フ
ィルム上に無地な領域を残したり、受像面に画像を記録
するものである。
結合剤および交叉結合41または交叉結合可能な樹弓旨
あるいは非酸化性重合物質ないしは樹脂と組合された又
又結合i”+llからなる被嘩物′4を透明フィルムに
塗布し、これをアルミニウムノートのような石版印刷表
面と緊密に接触させ、透明フィルム側からレーザー光を
導入して、被I′量物資を選択的に石版印刷表面て転移
させ印刷版を製造する方法が提案されている(特開昭5
0−102402号)。これらのレーザー記録用フィル
ムはいスレモニトロセルロースのような自己酸化性結合
剤を利用し、レーザー光によって供給される熱で自己酸
化性結合剤を加熱して、・燃焼ないしは噴出させ、カー
ボンブラックのような熱吸収粒子と樹脂とを搬出し、フ
ィルム上に無地な領域を残したり、受像面に画像を記録
するものである。
〔発明り1解決しようとする問題点〕
しかし、これらのレーザー肥録フィルムや像形成プリン
ト板の製造に供する物品のバインダー樹脂には前述した
ようにニトロセルロースのような自己酸化性結合剤が使
用されているために作像中に熱分解により酸性物質が発
生してシステムを腐蝕したり、保存中の安全性が懸念さ
れたり、解像度が悪いという欠点を有していた。更に、
これらのレーザー記録用フィルムの記録層(記録媒体層
)はそれ自体傷が付き易く、又塗膜厚味が約0.5μm
と薄いため傷が記録層の表面だけでなく基板の表面に寸
で容易に到達していた。
ト板の製造に供する物品のバインダー樹脂には前述した
ようにニトロセルロースのような自己酸化性結合剤が使
用されているために作像中に熱分解により酸性物質が発
生してシステムを腐蝕したり、保存中の安全性が懸念さ
れたり、解像度が悪いという欠点を有していた。更に、
これらのレーザー記録用フィルムの記録層(記録媒体層
)はそれ自体傷が付き易く、又塗膜厚味が約0.5μm
と薄いため傷が記録層の表面だけでなく基板の表面に寸
で容易に到達していた。
本発明者らはこれらの欠点を解消すべく輩意検討した結
果、バインダーとして非自己酸化性バインダーを使用し
、更に熱を吸収する微粒子としてグラファイトを使用す
ることにより高熱化a度を達成させることができ、さら
に記録に用いるYAGレーザー光の波長領域で強い吸収
能を有する熱線吸収剤を含有させることにより記録媒体
を紙、印別版等の転写受像面に転移し易くすることがで
さるとともに透明基板上に記録媒体の残奄が残らないよ
うにすることができ、高解像度のネガ、ポジ画像を与え
るレーザー記録用フィルムが得られることを見い出し、
゛また記録層の表面に有F&高分子からなる保護層を設
けることにより従来のレーザー記録用フィルムに比べて
著しい耐擦傷性を有するレーザー記録用フィルムが得ら
れることを見い出しそれぞれ先に特願昭59−4172
4号、!!Fff1顎昭59−112311号として出
願した。
果、バインダーとして非自己酸化性バインダーを使用し
、更に熱を吸収する微粒子としてグラファイトを使用す
ることにより高熱化a度を達成させることができ、さら
に記録に用いるYAGレーザー光の波長領域で強い吸収
能を有する熱線吸収剤を含有させることにより記録媒体
を紙、印別版等の転写受像面に転移し易くすることがで
さるとともに透明基板上に記録媒体の残奄が残らないよ
うにすることができ、高解像度のネガ、ポジ画像を与え
るレーザー記録用フィルムが得られることを見い出し、
゛また記録層の表面に有F&高分子からなる保護層を設
けることにより従来のレーザー記録用フィルムに比べて
著しい耐擦傷性を有するレーザー記録用フィルムが得ら
れることを見い出しそれぞれ先に特願昭59−4172
4号、!!Fff1顎昭59−112311号として出
願した。
ただし、この種のレーザー記録方法、特にレーザーの出
力が大きい場合には、記録層での発熱が著しいために、
記録層中のグラファイトが透明支持体の表面ンて融漬す
る現象が覗察される場合がある。本来ならばレーザーが
照射された部分は記録層が転写低へ転写し、照射部分の
光学濃度は透明支持体と同一となるべきものである。し
かし、前述の15!す現象が生じた場合には、レーザー
の照射された部分の光学m度が増し、レーザー光の未照
射部とのafw差が小さくなるために、レーザー記録用
フィルムのマスクフィルムとしての性能(遮光ヰ)が著
しく損なわれる。
力が大きい場合には、記録層での発熱が著しいために、
記録層中のグラファイトが透明支持体の表面ンて融漬す
る現象が覗察される場合がある。本来ならばレーザーが
照射された部分は記録層が転写低へ転写し、照射部分の
光学濃度は透明支持体と同一となるべきものである。し
かし、前述の15!す現象が生じた場合には、レーザー
の照射された部分の光学m度が増し、レーザー光の未照
射部とのafw差が小さくなるために、レーザー記録用
フィルムのマスクフィルムとしての性能(遮光ヰ)が著
しく損なわれる。
本発明者等はこのような問題点を解、信すべく税意倹討
した結果、透明支持体と記録層の間に下塗り層を設ける
ことにより、従来のレーザー記録用フィルムに比べてレ
ーザー照射部分の光学濃度増加を著しく抑えたレーザー
記録用フィルムを見い出し本発明に到達した。
した結果、透明支持体と記録層の間に下塗り層を設ける
ことにより、従来のレーザー記録用フィルムに比べてレ
ーザー照射部分の光学濃度増加を著しく抑えたレーザー
記録用フィルムを見い出し本発明に到達した。
即ち本発明は、下塗り層を設けた透明支持体上に非自己
酸化性バインター樹脂と高黒化濃度を与え熱を吸収する
e、粒子と記録に用いるレーザー光の波長領域で強い吸
収能を有する熱線吸収剤を含有する記録層を設け、さら
にその上に熱可塑性高分子からなる保護層を設けたレー
ザー記録用フィルムを提供するものである。
酸化性バインター樹脂と高黒化濃度を与え熱を吸収する
e、粒子と記録に用いるレーザー光の波長領域で強い吸
収能を有する熱線吸収剤を含有する記録層を設け、さら
にその上に熱可塑性高分子からなる保護層を設けたレー
ザー記録用フィルムを提供するものである。
本発明になるレーザー記録用フィルムの構成は第1図に
示すように、レーザー光透過性の支持体1上に下塗り層
2、さらに下塗り層2上に非自己酸化性バインダーと、
高黒化濃度を賦与し、熱を吸収する微粒子と、記録に用
いるレーザー光の波長領域で強い吸収能を有する熱線吸
収剤とを含有させた記録媒体を塗布した層(記′禄層)
3、さらに記録層3上に、熱可塑性高分子からなる保護
層4を設けてなる。
示すように、レーザー光透過性の支持体1上に下塗り層
2、さらに下塗り層2上に非自己酸化性バインダーと、
高黒化濃度を賦与し、熱を吸収する微粒子と、記録に用
いるレーザー光の波長領域で強い吸収能を有する熱線吸
収剤とを含有させた記録媒体を塗布した層(記′禄層)
3、さらに記録層3上に、熱可塑性高分子からなる保護
層4を設けてなる。
記録の方法としては第2図に示すように通常のレンズ系
及び調整装置を1再して調節したレーザー光を支持体1
の側から走査して2.4さ、記録層(転写像1袷体)3
お・よび保護層・1を転写受像体5の受像向に蒸着付着
させて画f象を記録する方法を用いることができる。受
像向は保護層4と接触させて装置することが7壕しく、
減圧操作により密層度を向」ニさせると解像度はいっそ
う良好となる。
及び調整装置を1再して調節したレーザー光を支持体1
の側から走査して2.4さ、記録層(転写像1袷体)3
お・よび保護層・1を転写受像体5の受像向に蒸着付着
させて画f象を記録する方法を用いることができる。受
像向は保護層4と接触させて装置することが7壕しく、
減圧操作により密層度を向」ニさせると解像度はいっそ
う良好となる。
この方法によると、1回の操作で転写受像体上にボン像
、記録層3上にネガf象を同時に得ることカーできる。
、記録層3上にネガf象を同時に得ることカーできる。
ネガフィルムは印tiill m脂刷版作成時に利用で
さ、ボン像は転写受像体50種類により校正用コピーあ
るいは直接刷版として使用できる。
さ、ボン像は転写受像体50種類により校正用コピーあ
るいは直接刷版として使用できる。
本発明のレーザー記録用フィルムの支持体としては使用
するレーザー光を透過するフィルムであればよく、ポリ
エチレンテレフタlノート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ナイロン−6、ポリエーテルスルホンなどの
フィルムが挙げられる。特にポリプロピレン、ポリエチ
レンテレフタレートの2軸延伸フイルムは透明性、強度
、寸法安定性に優れており好ましい。
するレーザー光を透過するフィルムであればよく、ポリ
エチレンテレフタlノート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ナイロン−6、ポリエーテルスルホンなどの
フィルムが挙げられる。特にポリプロピレン、ポリエチ
レンテレフタレートの2軸延伸フイルムは透明性、強度
、寸法安定性に優れており好ましい。
記録層中の熱を吸収し、高黒化傾度を達成させる微粒子
としてはグラファイト、カーボンブラ。
としてはグラファイト、カーボンブラ。
り等を挙げることがでさ、単独もしくは混合物として使
用できる。特に、薄嗅で高黒化濃度を賦与でさるものと
しては、微粉末グラファイトがよい。
用できる。特に、薄嗅で高黒化濃度を賦与でさるものと
しては、微粉末グラファイトがよい。
保護層中のレーザー光の波長力貝域で強い吸収能を有す
る熱線吸収剤としては、例えば、下記の一般式(I)あ
るいはffDで示される化合物う−挙げられる。
る熱線吸収剤としては、例えば、下記の一般式(I)あ
るいはffDで示される化合物う−挙げられる。
一般式(1)
(ここで、Rは水素又は低級アルキル基、Xはへキサフ
ルオロヒ戒イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン
、フッ化ホウ素ダイオンおよび過塩素酸イオンよりなる
群から選ばれる陰イオンであり、mは0または1,2の
整数である。
ルオロヒ戒イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン
、フッ化ホウ素ダイオンおよび過塩素酸イオンよりなる
群から選ばれる陰イオンであり、mは0または1,2の
整数である。
を示す。
この一般式で示される例としては、ビス(p−ジエチル
アミノフェニル)CN、N−ビス−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)−p−7ミノフエニル〕アミニウムのヘキ
サフルオロアンチモン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過
塩素酸塩あるいはフッ化ホウ素酸塩、N、N、N’、N
’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−
ベンゾキノン−ビスイモニウムのへキサフルオロアンチ
モン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過酸素酸塩あるいは
フッ化ホウ素酸塩、ビス(p−ジプロピルアミノフェニ
ル)(N、N−ビス−(p−ジプロピルアミノフェニル
)−p−アミノフェニル〕アミニウムのへキサフルオロ
アンチモノ酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過塩素酸塩、
フン化ホウ素酸塩、N 、 N 、 N’、 N’−テ
トラキス(p−ジプロピルアミノフェニル)−p−ペン
ゾキノンービスイモニウムのヘキサフルオロアンチモン
酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過塩素酸塩あるいは7ノ
化ホウ素酸塩、ビス(p−ジブチルアミノフェニル)
[N、N−ビス−(p −’;ジブチルアミノフェニル
−p−アミノフェニル〕アミニウムのヘキサフルオロア
ンチモン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸塩、過塩素酸塩
、7ノ化ホウ素酸塩、N 、 N 、 N’、 N’−
テトラキス−(p−ジブチルアミノフェニルフール−ベ
ンゾキノンビスイモニウムのヘキサフルオロアンチモン
d 4、ヘキサフルオロヒ収虫、過塩素酸塩、フッ化ホ
ウ素酸塩などがある。
アミノフェニル)CN、N−ビス−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)−p−7ミノフエニル〕アミニウムのヘキ
サフルオロアンチモン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過
塩素酸塩あるいはフッ化ホウ素酸塩、N、N、N’、N
’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−
ベンゾキノン−ビスイモニウムのへキサフルオロアンチ
モン酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過酸素酸塩あるいは
フッ化ホウ素酸塩、ビス(p−ジプロピルアミノフェニ
ル)(N、N−ビス−(p−ジプロピルアミノフェニル
)−p−アミノフェニル〕アミニウムのへキサフルオロ
アンチモノ酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過塩素酸塩、
フン化ホウ素酸塩、N 、 N 、 N’、 N’−テ
トラキス(p−ジプロピルアミノフェニル)−p−ペン
ゾキノンービスイモニウムのヘキサフルオロアンチモン
酸塩、ヘキサフルオロヒ酸塩、過塩素酸塩あるいは7ノ
化ホウ素酸塩、ビス(p−ジブチルアミノフェニル)
[N、N−ビス−(p −’;ジブチルアミノフェニル
−p−アミノフェニル〕アミニウムのヘキサフルオロア
ンチモン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸塩、過塩素酸塩
、7ノ化ホウ素酸塩、N 、 N 、 N’、 N’−
テトラキス−(p−ジブチルアミノフェニルフール−ベ
ンゾキノンビスイモニウムのヘキサフルオロアンチモン
d 4、ヘキサフルオロヒ収虫、過塩素酸塩、フッ化ホ
ウ素酸塩などがある。
(ここでGは水素、アルキル基、〕・ロゲン基を、Mは
ニッケル、コバルト、パラジウム、白金を、mは−1ま
たは−2の整数を、Aはmが−1のとき一価のカチオン
であり、またmが−2のとさ二価のカチオンであること
を示す。)この一般式で示されるものの例としては、ビ
ス(1−メルカプト−2−ナフトレート)ニッケル(、
l)テトラ−n−ブチルアンモニウムがある。
ニッケル、コバルト、パラジウム、白金を、mは−1ま
たは−2の整数を、Aはmが−1のとき一価のカチオン
であり、またmが−2のとさ二価のカチオンであること
を示す。)この一般式で示されるものの例としては、ビ
ス(1−メルカプト−2−ナフトレート)ニッケル(、
l)テトラ−n−ブチルアンモニウムがある。
記録層中の非自己酸化性バインダーとしてはアクリル系
t141]i& 、ニトロセルロースヲ除<セルロース
誘導体、フェノール耐相、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体等を使用できる。
t141]i& 、ニトロセルロースヲ除<セルロース
誘導体、フェノール耐相、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体等を使用できる。
非自己酸化性バインダーを1更用することにより、ニト
ロセルロースの様な自己酸化性バインターを用いた場合
の保存中の安全性の懸念やレーザー元照射時に発生する
酸性物質による装量の腐食に関する問題は全くなくなっ
た。
ロセルロースの様な自己酸化性バインターを用いた場合
の保存中の安全性の懸念やレーザー元照射時に発生する
酸性物質による装量の腐食に関する問題は全くなくなっ
た。
記録層の黒化濃度は0.5以上で望ましくは2.0以上
である。黒化濃度が低いとネガフィルムとしての遮光性
能に劣り、ポジ画像としても薄い印字となる。
である。黒化濃度が低いとネガフィルムとしての遮光性
能に劣り、ポジ画像としても薄い印字となる。
熱線吸収剤の添加量は非自己酸化性バインダー100重
量部に利して001〜200重量部、特に0.1〜10
0重量部の範囲が好ましい。
量部に利して001〜200重量部、特に0.1〜10
0重量部の範囲が好ましい。
熱、礫吸収剤の添加は特にネガフィルム(転写供給体)
の記録層の転移に犬さく影響を及ぼし、解l!!1隻を
上げる効果が顕著である。無添加の場合には記録層の転
移により抜けた部分に残置が残り易いが、これをほとん
ど無くすことができ、樹脂製版用ネガフィルム作成の場
合には特に効果的である。
の記録層の転移に犬さく影響を及ぼし、解l!!1隻を
上げる効果が顕著である。無添加の場合には記録層の転
移により抜けた部分に残置が残り易いが、これをほとん
ど無くすことができ、樹脂製版用ネガフィルム作成の場
合には特に効果的である。
本発明の%徴である、記録層と透明支持体の間の下塗り
層としては、耐熱性を有し、透明性の良い樹脂を用いる
ことができる。
層としては、耐熱性を有し、透明性の良い樹脂を用いる
ことができる。
例えば、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド
、ポリエーテルスルホン、ボリアリレート、ポリスルホ
ン、シリコン系樹脂、7ノ素樹脂などが好適である。こ
れらの樹脂を適当な溶剤を用いて溶解し、公知の技術に
より塗布、乾燥させ、下塗り層を形成することができる
。
、ポリエーテルスルホン、ボリアリレート、ポリスルホ
ン、シリコン系樹脂、7ノ素樹脂などが好適である。こ
れらの樹脂を適当な溶剤を用いて溶解し、公知の技術に
より塗布、乾燥させ、下塗り層を形成することができる
。
保護層として用いられる熱可塑性高分子としては機械的
強度のある各種の高分子物質を用いることができる。例
えば塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリカーボネート、
ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸メチルなどのア
クリル系m h=、ポリビニルブチラール、ポリビニル
アルコール、硝酸セルロースを除くセルロース誘導体、
溶剤可溶型ポリエステル、溶剤可溶型ポリアミド、酢酸
ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢
酸ビニル−塩化ビニル共重合体などのビニル系重合体お
よび共重合体、スチレンープタジェ/共重合体、スチレ
ン−アクリル共重合体などが好ましく用いられる。
強度のある各種の高分子物質を用いることができる。例
えば塩化ビニル、塩化ビニリデン、ポリカーボネート、
ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸メチルなどのア
クリル系m h=、ポリビニルブチラール、ポリビニル
アルコール、硝酸セルロースを除くセルロース誘導体、
溶剤可溶型ポリエステル、溶剤可溶型ポリアミド、酢酸
ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢
酸ビニル−塩化ビニル共重合体などのビニル系重合体お
よび共重合体、スチレンープタジェ/共重合体、スチレ
ン−アクリル共重合体などが好ましく用いられる。
下塗層の上に記録層を塗布する際、または記録層の上に
保護層の塗布液を伍布する1県、その液は記録層または
下塗層を溶解させて破壊したり変化させるものであって
はならない。しかし塗布方法および塗布液の溶剤組成を
選択することにより溶剤に対して記録層または下塗層が
抵抗力の無い場合にも安定に塗布することが出来る。例
えばディッピング、ファウンテン・リバース法等の場合
には記録層のバインダーを溶解させる溶解を用いて保護
層を塗布しても安定に塗布出来る。
保護層の塗布液を伍布する1県、その液は記録層または
下塗層を溶解させて破壊したり変化させるものであって
はならない。しかし塗布方法および塗布液の溶剤組成を
選択することにより溶剤に対して記録層または下塗層が
抵抗力の無い場合にも安定に塗布することが出来る。例
えばディッピング、ファウンテン・リバース法等の場合
には記録層のバインダーを溶解させる溶解を用いて保護
層を塗布しても安定に塗布出来る。
記録層の厚みおよび保護層の厚みは使用するレーザー光
の出力、熱線吸収剤の碓加量にも影響を受けるが記録媒
体層、保護層合わせて0.1〜2μの範囲がよく好昔し
くは0.2〜0.5μがよい。保護層を記録媒体層に傷
が付かないほど十分な膜厚例えば3μ以上塗布するとレ
ーザー光による記録層「Wが大幅に減少する。
の出力、熱線吸収剤の碓加量にも影響を受けるが記録媒
体層、保護層合わせて0.1〜2μの範囲がよく好昔し
くは0.2〜0.5μがよい。保護層を記録媒体層に傷
が付かないほど十分な膜厚例えば3μ以上塗布するとレ
ーザー光による記録層「Wが大幅に減少する。
本発明における記録層と透明支持体の間の下塗り)※の
設定は特にレーザー光照射部分のグラファイトの熱融着
を防き、光学濃度の増加防止の効果は顕著である。透明
支持体と記録層の間に下塗り層を設けることによりレー
ザー光照射部分の光学濃度を透明支持体のa度と等しく
保つことができ、レーサー記e 用フィルムのマスクフ
ィルムとしての性能を向上することができた。
設定は特にレーザー光照射部分のグラファイトの熱融着
を防き、光学濃度の増加防止の効果は顕著である。透明
支持体と記録層の間に下塗り層を設けることによりレー
ザー光照射部分の光学濃度を透明支持体のa度と等しく
保つことができ、レーサー記e 用フィルムのマスクフ
ィルムとしての性能を向上することができた。
転写受像体としては、一般紙、プラスチックフィルム、
合成紙(白色顔料をプラスチックフィルム中に分散した
もの)、陽極酸化したアルミニウム、銅張ジ積層フィル
ム等が使用される。
合成紙(白色顔料をプラスチックフィルム中に分散した
もの)、陽極酸化したアルミニウム、銅張ジ積層フィル
ム等が使用される。
一般紙、プラスチックフィルム、合成紙等を使用した場
合には校正用コピー、印判物として利用でき、陽極酸化
したアルミニウムを使用した場合には転写像をそのマ塘
あるいはゴムライニングして刷版として、銅張り積層フ
ィルムを使用した場合妃はプリント配線基板作成用のエ
ツチング保護材として利用できる。
合には校正用コピー、印判物として利用でき、陽極酸化
したアルミニウムを使用した場合には転写像をそのマ塘
あるいはゴムライニングして刷版として、銅張り積層フ
ィルムを使用した場合妃はプリント配線基板作成用のエ
ツチング保護材として利用できる。
本発明になるレーザー記録用フィルムは、現像定着など
の後処理を必要としない実時間記録であり、さらに感光
しないので暗室操作が不要であり、近年急速に発展して
いて通信、コンピューター処理情報を直接記録するのに
最適であり、広く応用することが可能である。
の後処理を必要としない実時間記録であり、さらに感光
しないので暗室操作が不要であり、近年急速に発展して
いて通信、コンピューター処理情報を直接記録するのに
最適であり、広く応用することが可能である。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例をもって説明する。実施例中の部
はすべて重量部を表わす。
はすべて重量部を表わす。
実施例1
処方1からなる塗工液を用いて100μポリエステルフ
イルム上にメイヤーバーにより塗布し、50℃で乾燥さ
せ下塗り層とした。
イルム上にメイヤーバーにより塗布し、50℃で乾燥さ
せ下塗り層とした。
この上に処方2からなる配合液をディップ法により塗布
し90℃で乾燥させ、保護層を形成させた。
し90℃で乾燥させ、保護層を形成させた。
さらにこの記録層上に処方3からなる配合液を記録1−
と同様にディップ法により塗布、乾燥し、保護層とした
。
と同様にディップ法により塗布、乾燥し、保護層とした
。
乾燥厚み黒化(震1度およびNd YAGレーザ−(
波長11064n、出力1.0 W、 記録媒体上0.
5Joμle/cyl )照射による作像試験結果を表
1にまとめて示す。
波長11064n、出力1.0 W、 記録媒体上0.
5Joμle/cyl )照射による作像試験結果を表
1にまとめて示す。
処方1 シリコンフェス 10部(′″K
R251’信越化学C−製) トルエン 10部 処方2 グラファイト 100部エチルセルロ
ース 36部酢酸エチル
1224部ビス(p−ジメチルアミノフェニル) 6
.8部CN、N−ビス−(p−ジエチルアミノフェニル
)−p−7ミノフエニル〕 アミニウムのへキサフルオロアンチモン酸塩処方3 溶剤可溶型ポリエステル樹脂 100部(東洋紡(掬製
・バイロン200’) メチルエチルケトン 900部実施例2 処方4からなる塗工液を用いて100μポリエステルフ
イルム上にメイヤーバーにより塗布し、100℃で乾燥
させ、下塗り層とした。この下塗り層の上に実施例1・
・と同様にして記録層、保護層を設けた。
R251’信越化学C−製) トルエン 10部 処方2 グラファイト 100部エチルセルロ
ース 36部酢酸エチル
1224部ビス(p−ジメチルアミノフェニル) 6
.8部CN、N−ビス−(p−ジエチルアミノフェニル
)−p−7ミノフエニル〕 アミニウムのへキサフルオロアンチモン酸塩処方3 溶剤可溶型ポリエステル樹脂 100部(東洋紡(掬製
・バイロン200’) メチルエチルケトン 900部実施例2 処方4からなる塗工液を用いて100μポリエステルフ
イルム上にメイヤーバーにより塗布し、100℃で乾燥
させ、下塗り層とした。この下塗り層の上に実施例1・
・と同様にして記録層、保護層を設けた。
乾燥皮膜厚み、黒化濃度およびNd YAGレーザ−(
波長11064n、出力10W、記録媒体上O5J O
LL l elcr& ) 照射による作像試験結果
を表1.に壕とめて示す。
波長11064n、出力10W、記録媒体上O5J O
LL l elcr& ) 照射による作像試験結果
を表1.に壕とめて示す。
処方4
ボリアリレート 100部(ユニチ
か■製1Uポリマー U−1060’)テトラヒドロフ
ラン 900部比較例 実施例1においてポリエステルフィルム上に下塗り層を
設けない塗布フィルムを作成し、比較例とした。
か■製1Uポリマー U−1060’)テトラヒドロフ
ラン 900部比較例 実施例1においてポリエステルフィルム上に下塗り層を
設けない塗布フィルムを作成し、比較例とした。
乾喚、厚み、黒化a度、Nd−YAGレーザ−(波長1
1064n、出力10 W 、記録媒体上0.5 Jo
ule/ff1)を表1.にまとめて示す。
1064n、出力10 W 、記録媒体上0.5 Jo
ule/ff1)を表1.にまとめて示す。
第1図は本発明のレーザー記録用フィルムの断面図、第
2図は本発明のフィルムを用いた記録装置の略示断面図
を示す図である。 1・・支持体、2・・下塗り層、3・・・記録層、1・
・保護層、5・・転写受像体。 特許用1項人 ダイセル化学工業昧式会社代理人 弁理
士 越 場 隆 第1図 男2図 3記録層
2図は本発明のフィルムを用いた記録装置の略示断面図
を示す図である。 1・・支持体、2・・下塗り層、3・・・記録層、1・
・保護層、5・・転写受像体。 特許用1項人 ダイセル化学工業昧式会社代理人 弁理
士 越 場 隆 第1図 男2図 3記録層
Claims (1)
- 1 透明な支持体上に非自己酸化性バインダー樹脂と、
高黒化濃度を与え、熱を吸収する微粒子と記録に用いる
レーザー光の波長領域で強い吸収能を有する熱線吸収剤
を含有する記録層を設け、さらにその上に熱可塑性高分
子からなる保護層を設けたレーザー記録用フィルムにお
いて透明支持体と記録層の間に下塗り層を設けたことを
特徴とするレーザー記録用フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60223194A JPS6282083A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | レ−ザ−記録用フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60223194A JPS6282083A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | レ−ザ−記録用フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6282083A true JPS6282083A (ja) | 1987-04-15 |
Family
ID=16794272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60223194A Pending JPS6282083A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | レ−ザ−記録用フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6282083A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH022075A (ja) * | 1987-12-21 | 1990-01-08 | Eastman Kodak Co | レーザーによる染料熱転写に用いる染料供与素子用スペーサービーズ層 |
| US5840463A (en) * | 1997-07-14 | 1998-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive donor element assemblages and associated process for laser-induced thermal transfer |
| US6143451A (en) * | 1996-11-26 | 2000-11-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Imaged laserable assemblages and associated processes with high speed and durable image-transfer characteristics for laser-induced thermal transfer |
-
1985
- 1985-10-07 JP JP60223194A patent/JPS6282083A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH022075A (ja) * | 1987-12-21 | 1990-01-08 | Eastman Kodak Co | レーザーによる染料熱転写に用いる染料供与素子用スペーサービーズ層 |
| US6143451A (en) * | 1996-11-26 | 2000-11-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Imaged laserable assemblages and associated processes with high speed and durable image-transfer characteristics for laser-induced thermal transfer |
| US5840463A (en) * | 1997-07-14 | 1998-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive donor element assemblages and associated process for laser-induced thermal transfer |
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