JPS628315A - 複合磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
複合磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS628315A JPS628315A JP14608085A JP14608085A JPS628315A JP S628315 A JPS628315 A JP S628315A JP 14608085 A JP14608085 A JP 14608085A JP 14608085 A JP14608085 A JP 14608085A JP S628315 A JPS628315 A JP S628315A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばフロッピーディスク等の磁気ディスク
に対して高密度記録するのに使用して好適な複合磁気ヘ
ッドの製造方法に関し、詳細には、上記複合磁気ヘッド
を構成する消去ヘッドと薄膜磁気ヘッド（記録再生ヘッ
ド）とのトラック位置合わせ方法に関する。
に対して高密度記録するのに使用して好適な複合磁気ヘ
ッドの製造方法に関し、詳細には、上記複合磁気ヘッド
を構成する消去ヘッドと薄膜磁気ヘッド（記録再生ヘッ
ド）とのトラック位置合わせ方法に関する。
本発明は、消去ヘッドと薄膜磁気ヘッドとを一体化して
なる複合磁気ヘッドを製造するに際し、予め、消去ヘッ
ドにトラ。ツタ中心を表すマーカー溝を形成するととも
に、薄膜磁気ヘッドにトラック中心を表すマーカー膜を
形成し、これらマーカー溝及びマーカー膜により上記各
ヘッドのトランク位置合わせした後、これらヘッドを一
体化することにより、 トラック位置合わせ精度の向上を図ろうとしたものであ
る。
なる複合磁気ヘッドを製造するに際し、予め、消去ヘッ
ドにトラ。ツタ中心を表すマーカー溝を形成するととも
に、薄膜磁気ヘッドにトラック中心を表すマーカー膜を
形成し、これらマーカー溝及びマーカー膜により上記各
ヘッドのトランク位置合わせした後、これらヘッドを一
体化することにより、 トラック位置合わせ精度の向上を図ろうとしたものであ
る。
磁気ディスクの一例である例えばフロッピーディスクは
、取扱が比較的筒車で、しかも大容量の信号を記録でき
るので、ミニコンピユータ、オフイスコンピュータ、パ
ーソナルコンピュータ等の外部記憶装置としての使用が
拡大されている。
、取扱が比較的筒車で、しかも大容量の信号を記録でき
るので、ミニコンピユータ、オフイスコンピュータ、パ
ーソナルコンピュータ等の外部記憶装置としての使用が
拡大されている。
一般に、上記磁気ディスクにおいては、所定のデータの
記録に略円形のトランクを形成しているので、記録再生
用ヘッドのギャップと消去用ヘッドのギャップとの距離
が大きいと位置ずれ（オフトランク）等が生じ易く、さ
らに近年、上記フロッピーディスクの小径化や高密度記
録化が進み、上記ギャップ間距離を小さくすることが要
望されている。
記録に略円形のトランクを形成しているので、記録再生
用ヘッドのギャップと消去用ヘッドのギャップとの距離
が大きいと位置ずれ（オフトランク）等が生じ易く、さ
らに近年、上記フロッピーディスクの小径化や高密度記
録化が進み、上記ギャップ間距離を小さくすることが要
望されている。
そこで、記録再生用として薄膜形成技術で作製した薄膜
磁気ヘッドを使用し、消去用としてフェライトコアを用
いたいわゆるバルクタイプの消去ヘッドを使用し、これ
ら薄膜磁気ヘッドと消去ヘッドをガラス等で融着接合し
た複合磁気ヘッドが提案されている。
磁気ヘッドを使用し、消去用としてフェライトコアを用
いたいわゆるバルクタイプの消去ヘッドを使用し、これ
ら薄膜磁気ヘッドと消去ヘッドをガラス等で融着接合し
た複合磁気ヘッドが提案されている。
上記複合磁気ヘッドは、記録再生用として薄膜磁気ヘッ
ドを使用しているため、比較的小型に形成できるととも
に、消去ヘッドが薄膜磁気ヘッドに隣接して配設されて
いるので、薄膜磁気ヘッドのギャップと消去ヘッドのギ
ヤツブとの距離を小さくすることができ、もイ１気ディ
スクに対して高密度記録をするのに適した複合磁気ヘッ
ドとなる。
ドを使用しているため、比較的小型に形成できるととも
に、消去ヘッドが薄膜磁気ヘッドに隣接して配設されて
いるので、薄膜磁気ヘッドのギャップと消去ヘッドのギ
ヤツブとの距離を小さくすることができ、もイ１気ディ
スクに対して高密度記録をするのに適した複合磁気ヘッ
ドとなる。
この種の複合磁気ヘッドを製造するには、第１０図に示
すように、薄膜形成技術やフォトリソグラフィー技術を
用い、磁性基板（５２）上にギャップ膜（５３）を介し
て磁性薄膜（５４）を形成する。そして、この磁性薄膜
（５４）でトランクＴ、の幅が規制された複数の薄膜磁
気ヘッド素子を有する薄膜ブロック（５１）を作製する
。一方、消去ブロック（６１）はトラックＴ、の幅を規
制する溝（６４）を形成したフェライトコア（６２）
、 （６３）をギャップ膜（６５）を介して突き合わせ
た後、ガラス等で融着して作製する。
すように、薄膜形成技術やフォトリソグラフィー技術を
用い、磁性基板（５２）上にギャップ膜（５３）を介し
て磁性薄膜（５４）を形成する。そして、この磁性薄膜
（５４）でトランクＴ、の幅が規制された複数の薄膜磁
気ヘッド素子を有する薄膜ブロック（５１）を作製する
。一方、消去ブロック（６１）はトラックＴ、の幅を規
制する溝（６４）を形成したフェライトコア（６２）
、 （６３）をギャップ膜（６５）を介して突き合わせ
た後、ガラス等で融着して作製する。
次いで、上記記録再生トランクＴ、が消去トランクＴ、
の中央に位置する如く位置合わせを行って、上記各ブロ
ック（５１） 、 （６１）を突き合わせ、ガラス融着
した後、所定の位置でスライシング加工を施し、さらに
、磁気ディスク対接面に球面研磨加工を施して複合磁気
ヘッドを製造している。
の中央に位置する如く位置合わせを行って、上記各ブロ
ック（５１） 、 （６１）を突き合わせ、ガラス融着
した後、所定の位置でスライシング加工を施し、さらに
、磁気ディスク対接面に球面研磨加工を施して複合磁気
ヘッドを製造している。
以上で製造された複合磁気ヘッドにおいて、記録再生ト
ランクＴＲと消去トランクＴゆの位置関係は、トランク
ＴＲがトラックＴ、の中央に位置するときの薄膜磁気ヘ
ッドのガートバンド幅をＴ６としたとき、 Ｔ、ｌ＜Ｔ、≦（Ｔｉ＋ ＋２ＴＯ） となるように形成する必要がある。すなわち、Ｔ８〉Ｔ
、のときは記録したトラックに消し残り部分力多生し、
ＴＥ ＞ （Ｔ＠＋２Ｔａ ）のときは隣接トランクを
も消去してしまうことになる。また、トランクＴＲがト
ラックＴ１の幅内に形成されてないと、前の信号が十分
に消去されないにもかかわらず記録することになり、良
好な記録・再生が得られなくなる。
ランクＴＲと消去トランクＴゆの位置関係は、トランク
ＴＲがトラックＴ、の中央に位置するときの薄膜磁気ヘ
ッドのガートバンド幅をＴ６としたとき、 Ｔ、ｌ＜Ｔ、≦（Ｔｉ＋ ＋２ＴＯ） となるように形成する必要がある。すなわち、Ｔ８〉Ｔ
、のときは記録したトラックに消し残り部分力多生し、
ＴＥ ＞ （Ｔ＠＋２Ｔａ ）のときは隣接トランクを
も消去してしまうことになる。また、トランクＴＲがト
ラックＴ１の幅内に形成されてないと、前の信号が十分
に消去されないにもかかわらず記録することになり、良
好な記録・再生が得られなくなる。
しかしながら、上記各トラックＴ、、７２の位置合わせ
は、目視で行っており、作業者の勘によるところが大き
く、トラックＴ□がトラックＴ。
は、目視で行っており、作業者の勘によるところが大き
く、トラックＴ□がトラックＴ。
の中央部に位置せず、左右に位置ずれ（第１Ｏ図中ｅ）
を生じる原因となっている。この位置ずれ量ｅは、十数
μｍにもおよぶ場合もあり、加工歩留まりの低下の要因
となっている。
を生じる原因となっている。この位置ずれ量ｅは、十数
μｍにもおよぶ場合もあり、加工歩留まりの低下の要因
となっている。
このように、薄膜磁気ヘッドと消去ヘッドとを一体化し
てなる複合磁気ヘッドを製造する場合、薄膜磁気ヘッド
と消去ヘッドとのトラック位置合わせは作業者の勘によ
り行っているので、トラック位置合わせ精度がバラツキ
、加工歩留まりが悪くなるという問題があった。
てなる複合磁気ヘッドを製造する場合、薄膜磁気ヘッド
と消去ヘッドとのトラック位置合わせは作業者の勘によ
り行っているので、トラック位置合わせ精度がバラツキ
、加工歩留まりが悪くなるという問題があった。
そこで、本発明は上記問題点を解決するために提案され
たものであって、薄膜磁気ヘッドと消去ヘッドとのトラ
ック位置合わせを精度良く行うことができる複合磁気ヘ
ッドの製造方法を提、供することを目的とする。
たものであって、薄膜磁気ヘッドと消去ヘッドとのトラ
ック位置合わせを精度良く行うことができる複合磁気ヘ
ッドの製造方法を提、供することを目的とする。
この目的を達成するために、本発明の複合磁気ヘッドの
製造方法は、酸化物磁性材料よりなる消去ヘッドにトラ
ンク中心を表すマーカー溝を形成し、基板上に形成され
た磁性薄膜より記録再生が行われる薄膜磁気ヘッドに、
トラック中心を表すマーカー膜を形成し、前記マーカー
溝と前記マーカー膜によりトランク位置合わせして、前
記消去ヘッドと前記薄膜磁気ヘッドとを一体化すること
を特徴とするものである。
製造方法は、酸化物磁性材料よりなる消去ヘッドにトラ
ンク中心を表すマーカー溝を形成し、基板上に形成され
た磁性薄膜より記録再生が行われる薄膜磁気ヘッドに、
トラック中心を表すマーカー膜を形成し、前記マーカー
溝と前記マーカー膜によりトランク位置合わせして、前
記消去ヘッドと前記薄膜磁気ヘッドとを一体化すること
を特徴とするものである。
このように、予め消去ヘッドにトランク中心を表すマー
カー溝を形成するとともに、薄膜磁気ヘッドにトランク
中心を表すマーカー膜を形成し、これらマーカー溝とマ
ーカー膜でトラ、り位置合わせを行っているので、精度
良くトラック位置合わせができる。
カー溝を形成するとともに、薄膜磁気ヘッドにトランク
中心を表すマーカー膜を形成し、これらマーカー溝とマ
ーカー膜でトラ、り位置合わせを行っているので、精度
良くトラック位置合わせができる。
以下、本発明による複合磁気ヘッドの製造方法の一実施
例を図面を参照しながら説明する。
例を図面を参照しながら説明する。
まず、消去ヘッドのマーカー溝の形成方法について説明
する。
する。
最初に、第１図に示すように、表面をラップ処理等によ
り平行度及び平滑度良く鏡面加工された例えばＭｎ−Ｚ
ｎ系フェライトやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸
化物よりなる基板（１）に対して、この上面（ｌａ）に
回転砥石等を用いてトランクＴ１幅を規制するための切
溝（２）を複数平行に形成し、一対の磁気コア半休を作
製するとともに、一方の磁気コア半休に対して、切？＠
（２＋と直交する方向に巻線溝（３）及び融着溝（４
）を形成し、磁気コア半休（５）を得る。
り平行度及び平滑度良く鏡面加工された例えばＭｎ−Ｚ
ｎ系フェライトやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸
化物よりなる基板（１）に対して、この上面（ｌａ）に
回転砥石等を用いてトランクＴ１幅を規制するための切
溝（２）を複数平行に形成し、一対の磁気コア半休を作
製するとともに、一方の磁気コア半休に対して、切？＠
（２＋と直交する方向に巻線溝（３）及び融着溝（４
）を形成し、磁気コア半休（５）を得る。
次いで、本発明においては、第２図に示すように、上記
磁気コア半休（５）の磁気ディスク対接面に対応する前
面（１ｂ）のトランクＴ、形成部中央にレーザビームＬ
を照射して、マーカー溝（６）を形成する。上記マーカ
ー溝（６）は、第３図に示すように、デプス方向の長さ
ａが規定デプス幅（本実施例では１０１００ＩＩに掛か
らない程度に加工し、また、基板の厚み方向の長さｂが
できる限り短くなるように加工し、例えば（ａＸｂ）−
（１００μｍ×１０μｍ）となるように形成する。さら
に、上記マーカー溝（６）の形状は略Ｖ字状に形成する
ことが好ましい。なお、上記マーカー溝（６）の形成に
は、フォトリソグラフィ技術や砥石加工等の手法を用い
て行っても良い。
磁気コア半休（５）の磁気ディスク対接面に対応する前
面（１ｂ）のトランクＴ、形成部中央にレーザビームＬ
を照射して、マーカー溝（６）を形成する。上記マーカ
ー溝（６）は、第３図に示すように、デプス方向の長さ
ａが規定デプス幅（本実施例では１０１００ＩＩに掛か
らない程度に加工し、また、基板の厚み方向の長さｂが
できる限り短くなるように加工し、例えば（ａＸｂ）−
（１００μｍ×１０μｍ）となるように形成する。さら
に、上記マーカー溝（６）の形状は略Ｖ字状に形成する
ことが好ましい。なお、上記マーカー溝（６）の形成に
は、フォトリソグラフィ技術や砥石加工等の手法を用い
て行っても良い。
次に、第４図に示すように、以上で得られた磁気コア半
休（５）と、マーカー溝（６）が形成されていない他方
の磁気コア半休（８）に対し、ガラス等の非磁性材（１
１）を溶融充填し、これら磁気コア半休（５）。
休（５）と、マーカー溝（６）が形成されていない他方
の磁気コア半休（８）に対し、ガラス等の非磁性材（１
１）を溶融充填し、これら磁気コア半休（５）。
（８）をギャップ膜（９）を介してガラス等の接着材Ｏ
Ｄで一体化した後、上記磁気コア半休（８）が所定の厚
みとなるように研削あるいは研磨を施すとともに、融着
溝（４）を切り離して消去ブロック側を製造する。
Ｄで一体化した後、上記磁気コア半休（８）が所定の厚
みとなるように研削あるいは研磨を施すとともに、融着
溝（４）を切り離して消去ブロック側を製造する。
なお、本実施例では、マーカー溝（６）を巻線溝（３）
を有する磁気コア半休（５）に形成したが、他方の磁気
コア半休（８）に形成しても良いことはいうまでもない
。
を有する磁気コア半休（５）に形成したが、他方の磁気
コア半休（８）に形成しても良いことはいうまでもない
。
また、上記マーカー溝（６）形成工程は、完成消去ブロ
ックＯＩにトラック中心を表すマーカー溝（６）が残存
する如く形成されていれば、消去ブロックＱ匂の製造工
程の如何なるところにも組み込むことがでる。例えば、
一対の磁気コア半休を一体化した後、レーザビームを照
射を照射したりあるいは砥石加工等の手法で上記マーカ
ー溝を形成するようにしても良い。
ックＯＩにトラック中心を表すマーカー溝（６）が残存
する如く形成されていれば、消去ブロックＱ匂の製造工
程の如何なるところにも組み込むことがでる。例えば、
一対の磁気コア半休を一体化した後、レーザビームを照
射を照射したりあるいは砥石加工等の手法で上記マーカ
ー溝を形成するようにしても良い。
次に、薄膜磁気ヘッドのマーカー膜の形成方法ついて説
明する。
明する。
まず、第５図に示すように、予めＳｉｎ、等の絶縁材料
からなる第１絶縁膜（２２）を形成した基板（２１）を
用意し、この基板（２１）上にスパッタリングや真空蒸
着等の手法でＣｕやＡ１等の導体薄膜を被着形成した後
、この導体薄膜に対してフォトリソグラフィ技術により
パターンエツチングを施し、デプス幅を確認するための
デプスマーカー（２４＞。
からなる第１絶縁膜（２２）を形成した基板（２１）を
用意し、この基板（２１）上にスパッタリングや真空蒸
着等の手法でＣｕやＡ１等の導体薄膜を被着形成した後
、この導体薄膜に対してフォトリソグラフィ技術により
パターンエツチングを施し、デプス幅を確認するための
デプスマーカー（２４＞。
（２４）及びコイル導体（２５）を形成する。なお、上
記コイル導体（２５）の巻線構造はスパイラル型、ヘリ
カル型、ジグザグ型環如何なる構造であっても良い。
記コイル導体（２５）の巻線構造はスパイラル型、ヘリ
カル型、ジグザグ型環如何なる構造であっても良い。
さらに、本発明においては、上記コイル導体（２５）及
びデプスマーカー（２４） 、 （２４）のパターンエ
ツチングと同時に、マーカー膜（２３） 、 （２３）
を形成する。このマーカー膜（２３）、 （２３）は、
基板（２１）の前而（２１ａ ） （ＬＩＳ気ディス
ク対接面に対応する面）に臨んでトラックＴ、 ＣＣ
ＩＩ性薄膜で規制される）の中心を挟んで微小間隔をも
って両側に配置され、この微小な間隙によりトラ、りＴ
、を確認できるようになっている。
びデプスマーカー（２４） 、 （２４）のパターンエ
ツチングと同時に、マーカー膜（２３） 、 （２３）
を形成する。このマーカー膜（２３）、 （２３）は、
基板（２１）の前而（２１ａ ） （ＬＩＳ気ディス
ク対接面に対応する面）に臨んでトラックＴ、 ＣＣ
ＩＩ性薄膜で規制される）の中心を挟んで微小間隔をも
って両側に配置され、この微小な間隙によりトラ、りＴ
、を確認できるようになっている。
上記パターンエツチングの手法としては、フォトリソグ
ラフィ技術、イオンエツチングの如きドライエツチング
、あるいはエツチング液を用いるウェットエツチング等
が採用される。
ラフィ技術、イオンエツチングの如きドライエツチング
、あるいはエツチング液を用いるウェットエツチング等
が採用される。
また、このマーカー膜（２３） 、 （２３）の間隔は
、３μｍ以下に形成することが前記消去ヘッドとのトラ
ック合わせ精度の向上上好ましい。さらに、このマーカ
ー膜（２３） 、 （２３）のデプス方向の長さｆは規
定デプス幅に掛からないように形成する必要があり、例
えばｌＯＯμｍ程度が好ましい。なお、このマーカー膜
（２３）は、トラックＴ１の中心にマーカー膜の一方の
エツジが一敗するように形成し、このマーカー膜のエツ
ジによりトラックＴ１の中心を確認するようにしても良
い。
、３μｍ以下に形成することが前記消去ヘッドとのトラ
ック合わせ精度の向上上好ましい。さらに、このマーカ
ー膜（２３） 、 （２３）のデプス方向の長さｆは規
定デプス幅に掛からないように形成する必要があり、例
えばｌＯＯμｍ程度が好ましい。なお、このマーカー膜
（２３）は、トラックＴ１の中心にマーカー膜の一方の
エツジが一敗するように形成し、このマーカー膜のエツ
ジによりトラックＴ１の中心を確認するようにしても良
い。
さらに、以上で得られた基板（２１）上に第２絶縁膜（
図示せず）を形成した後、センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−３
ｉ系合金）やパーマロイ （１？ｅ−Ｊｌｉ系合金）等
の強磁性金属材料よりなる磁性薄膜（２６）を被着形成
し、フォトリソグラフィ技術により所望の形状にエツチ
ングを施し、トランク幅規制を行う。上記磁性ｉ！４膜
（２６）の形成方法としては、フラッシュ蒸着、ガス中
蒸着、イオンブレーティング、フライスラー・イオンビ
ーム法に代表される真空薄膜形成技術が採用される。
図示せず）を形成した後、センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−３
ｉ系合金）やパーマロイ （１？ｅ−Ｊｌｉ系合金）等
の強磁性金属材料よりなる磁性薄膜（２６）を被着形成
し、フォトリソグラフィ技術により所望の形状にエツチ
ングを施し、トランク幅規制を行う。上記磁性ｉ！４膜
（２６）の形成方法としては、フラッシュ蒸着、ガス中
蒸着、イオンブレーティング、フライスラー・イオンビ
ーム法に代表される真空薄膜形成技術が採用される。
次いで、第６図に示すように、この磁性薄膜（２６）上
にＳ ｉ Ｏを等よりなる保護膜（２７）を形成した後
、ガラス等の非磁性材よりなる無機接着材（２８）を不
活性ガス雰囲気中で溶融充填し、平面研削あるいは鏡面
加工にて、平坦化して、薄膜ブロック（３０）を作製す
る。したがって、薄膜磁気ヘッド（３０）の消去ヘッド
との接合面（３０ａ）は平坦となり、前記消去ヘッド（
１０）と一体化したときに、接合ムラを生じることがな
くなり、信鎖性に優れた接合が可能となる。上記接着材
（２８）は、磁性薄膜（２６）の磁気特性が劣化しない
温度、例えばこの磁性薄膜（２６）としてセンダストを
用いた場合には軟化点が６５０℃以下のものを使用する
。
にＳ ｉ Ｏを等よりなる保護膜（２７）を形成した後
、ガラス等の非磁性材よりなる無機接着材（２８）を不
活性ガス雰囲気中で溶融充填し、平面研削あるいは鏡面
加工にて、平坦化して、薄膜ブロック（３０）を作製す
る。したがって、薄膜磁気ヘッド（３０）の消去ヘッド
との接合面（３０ａ）は平坦となり、前記消去ヘッド（
１０）と一体化したときに、接合ムラを生じることがな
くなり、信鎖性に優れた接合が可能となる。上記接着材
（２８）は、磁性薄膜（２６）の磁気特性が劣化しない
温度、例えばこの磁性薄膜（２６）としてセンダストを
用いた場合には軟化点が６５０℃以下のものを使用する
。
なお、本実施例ではマーカー膜をコイル４体を形成する
ための導体膜の一部を利用して形成したが、磁性薄膜を
利用し、この磁性薄膜のエツチングと同時に形成しても
良いことはいうまでもない。
ための導体膜の一部を利用して形成したが、磁性薄膜を
利用し、この磁性薄膜のエツチングと同時に形成しても
良いことはいうまでもない。
以上で作製された消去ブロック（１０）と薄膜ブロック
（３０）に対して、第Ｔ図（Ａ）＆び第７図（Ｂ）に示
すように、上記消去ブロック（１０）に形成されたマー
カー溝（６）の尖頭部分と、上記薄膜ブロック（３０）
に形成されたマーカー膜（２３） 、 （２３）間とで
、トランク合わせをする。次いで、このように精度良く
トラック位置合わせをした各ブロック（１０） 、 （
３０）を治具で固定した後、不活性ガス雰囲気中で軟化
点く６５０℃以下）で融着接合し、複合ブロック（３５
）を作製する。
（３０）に対して、第Ｔ図（Ａ）＆び第７図（Ｂ）に示
すように、上記消去ブロック（１０）に形成されたマー
カー溝（６）の尖頭部分と、上記薄膜ブロック（３０）
に形成されたマーカー膜（２３） 、 （２３）間とで
、トランク合わせをする。次いで、このように精度良く
トラック位置合わせをした各ブロック（１０） 、 （
３０）を治具で固定した後、不活性ガス雰囲気中で軟化
点く６５０℃以下）で融着接合し、複合ブロック（３５
）を作製する。
このように、マーカー溝（６）とマーカー膜（２３）と
でトラック位置合わせをすれば、このトラック位置合わ
せが容易にできるとともに、作業者の勘によることがな
くなり、トラック位置合わせ精度を向上することができ
る。したがって、加工歩留まりが向上し、製造コストを
下げることができる。
でトラック位置合わせをすれば、このトラック位置合わ
せが容易にできるとともに、作業者の勘によることがな
くなり、トラック位置合わせ精度を向上することができ
る。したがって、加工歩留まりが向上し、製造コストを
下げることができる。
続いて、第８図（Ａ）及び第８図（Ｂ）に示すように、
上記複合ブロック（３５）に対して、各ヘッドが所望の
デプス幅となるように、磁気ディスク対接面（３５ａ）
を研磨する。この場合、消去ヘッド（１０）に形成され
たマーカー溝（６）及び’ｉｌｌ膜磁気ヘッドに形成さ
れたマーカーＭ （２３）は、予め所定のデプス幅に掛
からないように形成されているので、この研磨により削
り取られてしまい、磁気ディスク対接面には残らない。
上記複合ブロック（３５）に対して、各ヘッドが所望の
デプス幅となるように、磁気ディスク対接面（３５ａ）
を研磨する。この場合、消去ヘッド（１０）に形成され
たマーカー溝（６）及び’ｉｌｌ膜磁気ヘッドに形成さ
れたマーカーＭ （２３）は、予め所定のデプス幅に掛
からないように形成されているので、この研磨により削
り取られてしまい、磁気ディスク対接面には残らない。
最後に、磁気ディスクとの規定当り幅を得るために、第
８図（Ａ、）Ｘ−Ｘ線及びｘ’−ｘ’線の位置でスライ
シング加工を施し、第９図に示す複合磁気ヘッドを完成
する。
８図（Ａ、）Ｘ−Ｘ線及びｘ’−ｘ’線の位置でスライ
シング加工を施し、第９図に示す複合磁気ヘッドを完成
する。
このようにして製造された複合磁気ヘッドは、薄膜磁気
ヘッドのトランクＴ、が消去ヘッドのトラックＴ、の中
央に位置した構造となる。実際、本実施例によれば、上
記トランクＴ、の中心と上記トラックＴ、の中心のずれ
は±１．５μｍ以下に抑えることができた。
ヘッドのトランクＴ、が消去ヘッドのトラックＴ、の中
央に位置した構造となる。実際、本実施例によれば、上
記トランクＴ、の中心と上記トラックＴ、の中心のずれ
は±１．５μｍ以下に抑えることができた。
なお、本実施例ではマーカー溝及びマーカー１１りを各
トラックの中央部を表す如く形成したが、各ｌ・ランク
の中央がわかるように形成されていれば如何なるところ
に形成しても良い。
トラックの中央部を表す如く形成したが、各ｌ・ランク
の中央がわかるように形成されていれば如何なるところ
に形成しても良い。
また本発明は上述の実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の製法が
取り得ることはいうまでもない。
本発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の製法が
取り得ることはいうまでもない。
このように、本発明によれば、予め消去ヘッドの磁気デ
ィスク対接面に対応する面にトラック中心を表すマーカ
ー溝を形成するとともに、薄膜磁気ヘッド（記録再生ヘ
ッド）のトラック対接面に対応する部近傍にトラック中
心を表すマーカー膜を形成し、これらマーカー溝とマー
カー膜でトラック位置合ねせを行っているので、精度良
くトラック合わせができる。したがって、本発明によれ
ば、消去残しや隣接トラック信号の不用意な消去等のな
い、良好な記録・再生が可能な複合磁気ヘッドが得られ
、加工歩留りも向上する。
ィスク対接面に対応する面にトラック中心を表すマーカ
ー溝を形成するとともに、薄膜磁気ヘッド（記録再生ヘ
ッド）のトラック対接面に対応する部近傍にトラック中
心を表すマーカー膜を形成し、これらマーカー溝とマー
カー膜でトラック位置合ねせを行っているので、精度良
くトラック合わせができる。したがって、本発明によれ
ば、消去残しや隣接トラック信号の不用意な消去等のな
い、良好な記録・再生が可能な複合磁気ヘッドが得られ
、加工歩留りも向上する。
４、凹面の節草な説明
第１図ないし第９図は本発明の複合磁気ヘッドの製造方
法をその工程順序に従って示すものである。
法をその工程順序に従って示すものである。
ここで、第１図ないし第４図は消去ブロックの製造工程
を示す概略的な斜視図であり、第１図は溝形成工程、第
２図はマーカー溝形成工程を示し、第３図はマーカー溝
近傍を拡大して示す。第４図は磁気コア半休対の接合工
程を示す。
を示す概略的な斜視図であり、第１図は溝形成工程、第
２図はマーカー溝形成工程を示し、第３図はマーカー溝
近傍を拡大して示す。第４図は磁気コア半休対の接合工
程を示す。
第５図及び第６図は薄膜ブロックの製造工程を示す概略
的な斜視図であり、第５図はマーカー膜の形成工程、第
６図は平坦化工程をそれぞれ示す。
的な斜視図であり、第５図はマーカー膜の形成工程、第
６図は平坦化工程をそれぞれ示す。
第７図（Ａ）は消去ブロックと薄膜ブロックとの一体化
工程を示す斜視図、第７図（Ｂ）は第７図（Ａ）ｃ−ｃ
線における断面図、第８図（Ａ）は磁気ディスク対接面
の研摩工程を示す斜視図、第８図（Ｂ）は第８図（Ａ）
ｄ−ｄ線における断面図、第９図は完成した複合磁気ヘ
ッドの磁気ディスク対接面を示す正面図である。
工程を示す斜視図、第７図（Ｂ）は第７図（Ａ）ｃ−ｃ
線における断面図、第８図（Ａ）は磁気ディスク対接面
の研摩工程を示す斜視図、第８図（Ｂ）は第８図（Ａ）
ｄ−ｄ線における断面図、第９図は完成した複合磁気ヘ
ッドの磁気ディスク対接面を示す正面図である。
第１０図は従来の複合磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための磁気ディスク対接面を示す正面図である。
ための磁気ディスク対接面を示す正面図である。
５．８・・磁気コア半休
６・・・・マーカー溝
ｌＯ・・・消去ブロック（消去ヘッド）２１・・・基板
２３・・・マーカー膜
２６・・・磁性ＷＪ’ｍ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 酸化物磁性材料よりなる消去ヘッドにトラック中心を表
すマーカー溝を形成し、 基板上に形成された磁性薄膜より記録再生が行われる薄
膜磁気ヘッドに、トラック中心を表すマーカー膜を形成
し、 前記マーカー溝と前記マーカー膜によりトラック位置合
わせして、前記消去ヘッドと前記薄膜磁気ヘッドとを一
体化することを特徴とする複合磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14608085A JPS628315A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14608085A JPS628315A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS628315A true JPS628315A (ja) | 1987-01-16 |
Family
ID=15399660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14608085A Pending JPS628315A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | 複合磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628315A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000041170A3 (en) * | 1999-01-06 | 2000-11-02 | Storage Technology Corp | Three-dimensional recording heads for control of debris and bidirectional written track width |
| WO2002013187A3 (en) * | 2000-08-03 | 2003-02-06 | Storage Technology Corp | Tape head modules having adjacent substrates each provided with write and/or read elements |
-
1985
- 1985-07-03 JP JP14608085A patent/JPS628315A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000041170A3 (en) * | 1999-01-06 | 2000-11-02 | Storage Technology Corp | Three-dimensional recording heads for control of debris and bidirectional written track width |
| US6191919B1 (en) | 1999-01-06 | 2001-02-20 | Storage Technology Corporation | Magnetic transducer with debris guiding channels having non-vertical sloping walls formed in a tape bearing surface |
| WO2002013187A3 (en) * | 2000-08-03 | 2003-02-06 | Storage Technology Corp | Tape head modules having adjacent substrates each provided with write and/or read elements |
| US6570738B1 (en) | 2000-08-03 | 2003-05-27 | Storage Technology Corporation | Tape head modules having adjacent substrates each provided with write and/or read elements |
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