JPS6283499A - テインフリ−スチ−ルの製造方法 - Google Patents

テインフリ−スチ−ルの製造方法

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JPS6283499A
JPS6283499A JP22155685A JP22155685A JPS6283499A JP S6283499 A JPS6283499 A JP S6283499A JP 22155685 A JP22155685 A JP 22155685A JP 22155685 A JP22155685 A JP 22155685A JP S6283499 A JPS6283499 A JP S6283499A
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JP
Japan
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chromium
treatment
hydrated oxide
subjected
layer
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Pending
Application number
JP22155685A
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English (en)
Inventor
Kousuke Kashiwada
柏田 耿介
Shigeru Naito
茂 内藤
Toshio Matsushita
松下 登志雄
Mitsuo Yoshida
光男 吉田
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は接着缶に加工され、ホラ) z4ツクやレトル
ト処理によって殺菌処理を施される場合に接着力の低下
を起こさないティンフリースチールを製造する方法を提
供するものである。
〔従来の技術〕
金属クロム−クロム水和酸化物により皮膜構成されるテ
ィンフリースチール(以下TFSと略称)は、高価な錫
を使用しない缶用素材として種々の用途に使用されてお
り、その製造方法として、金属クロム層とクロム水和酸
化物層を陰極電解処理で同時に析出させる方法(以下1
−ステップ法と略称)と、主として金属クロム層を析出
させる工程と、主としてクロム水和酸化物をその上に陰
極電解処理によって析出させる工程を別箇に処理する方
法(以下2−ステップ法と略称)があるのけ周知のとお
りである。これらのいずれの方法で製造されたTFSも
塗装後にナイロン樹脂を接着剤として缶体成形されたの
ちに食品や清涼飲料水を充填されるに当り、高温充填(
以後ホット・平ツクと呼ぶ)や充填後の高温加圧殺菌処
理(以後レトルト処理と呼ぶ)を施される場合にTFS
表面と塗膜の界面が内容物及び/またはレトルト釜の水
分の浸透によって接着力の低下をおこし、缶胴接合部の
剥離に至る場合がある。
この様な剥離を防止するために、クロム水和酸化物層の
厚みを特定範囲に限定したシ、皮膜中の不純物を減少さ
せるために処理液の成分や濃度を限定したり、或いは更
に高温の水または水溶液超音波、電解処理によって皮膜
中に析出した不純物を除去する方法が種々提案されてい
る。これらの提案の狙いとするところは、例えば特開昭
59−76895号公報に紹介されているようにクロム
水和酸化物層中に硫酸イオンやフッ素イオンが多く存在
すると、ホットハックやレトルト処理時の接着部の剥離
が起り易いためにこれらの不純物を減らそうとするもの
である事は明白である。これらの方法の中で2−ステッ
プ法の第2工程に於ける処理液の成分や濃度を限定する
方法においては硫酸イオンやフッ化物等のハロゲン化合
物の濃度を一定量以下望ましくは不可避的に混入する不
純物としての量に限定した処理液中でクロム水和酸化物
層を析出させることが望ましいが特開昭57−1779
98号公報に開示されるとおり常法ではクロム水和酸化
物層に不均一析出が起こるため、該提案の如くクロムメ
ッキ工程ののちに陽極電解処理を必要としたり、更には
陽極電解処理を施しても、その後の陰極電解処理におけ
るクロム水和酸化物の析出効率が悪いという欠点を有し
ている。
このため、硫酸イオン濃度を不可避的に混入する不純物
としての量に限定し、微量のハロゲン化合物を添加した
浴を使用する方法を採用するのが工業的には有利である
が、陰極電解処理で処理液中のハロゲン化合物からハロ
ゲン元素がクロム水和酸化物中に析出するのを効果的に
防止することは出来ない。
〔発明の目的〕
本発明はこれらの問題を解消し、ハロゲン化合物を添加
した処理浴中からハロゲン元素の析出の少ないクロム水
和酸化物層を陰極電解処理によって析出させる方法を提
供することを目的とするものである。
〔発明の構成・作用〕
本発明によるTFSの製造法の特徴およびその作用効果
は以下のとおシである。
TFSの素材とする鋼板の製造およびメツキラインでの
脱脂、酸洗処理は通常の方法で行なわれる。
またメツキラインでの脱脂、酸洗処理に続いていわゆる
2−ステップ法によって金属クロム層とクロム水和酸化
物層が形成される。
金属クロムの量は30〜3001R9//rn2が一般
的であり、本発明はその量を規定するものではない。
また、主として金属クロムを析出せしめるための第1工
程に於いてもクロム水和酸化物層が同時に不可避的に析
出するが、金属クロムの析出のだめには処理液中には硫
酸イオンおよび/またはフッ化物等の7・ロダン化合物
が添加されているためにこのクロム水和酸化物層は硫酸
イオンやノ・ロダン元素を含んでいる。
いわゆる2−ステップ法においてはこのクロム水和酸化
物層の上に新だなりロム水和酸化物層を形成させるため
、金属クロムの析出時に同時析出したクロム水和酸化物
中の硫酸イオンやノ・ロダン元素の影響は比較的少ない
が、公知の方法によって不純物全可能な限り除去してお
いた方が望ましいことは言うまでもない。すなわち本発
明は従来提案されて来た公知の方法すなわち高温の水や
水溶液、または超音波、または電解処理等の方法で第1
工程で生成したクロム水和酸化物層中の不純物全除去す
ることの併用を否定するものではない。
続いて第2工程でクロム水和酸化物層を新たに析出させ
るが、処理液の無水クロム酸濃度は30〜20011/
13の範囲が望ましい。すなわち30 g/l以下では
クロム水和酸化物層の析出効率が低い上に液の電気伝導
度が低いために陰極電解処理で消費される電力が多くな
って経済的に不利であり、一方2.OOE/13以上で
は液の持ち出しによる無水クロム酸の損失が多く、経済
的でない。
また、処理液中にはハロゲン化合物を添加する場合を対
象とする。処理液中に硫酸イオンとノ・ロダン化合物の
いずれ全も添加しない場合は第1工程ののちに陽極電解
処理全必要とし、陽極電解処理を施した場合でも第2工
程でのクロム水和酸化物の析出効率が低く工業的生産に
不向きであるという欠点を有しておシ、硫酸イオンのみ
を添加した場合にはクロム水和酸化物中への硫酸イオン
の析出が多く充分な接着性能が得られないためである。
処理液中にハロゲン化合物を添加する事によって硫酸イ
オンを添加する必要はなく々るので、本発明は処理液中
の硫酸イオン濃度を規制するものではないが周知の如く
その濃度は低い方が望ましく、0、1 g/l以下の場
合に良い結果が得られる。
ハロゲン化合物としては、フッ酸又は塩酸のほかフッ素
または塩素のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、または
ケイフッ酸、ホウフッ酸又はその塩類のうち1種類以上
を選択すれば良く、その濃度は2gカ以下が一般的であ
るが、本発明は濃度にかかわらず効果があるので特に濃
度を規定しない。
本発明の特徴は第2工程における陰極電解処理の陰極電
流密度を30A//dm2以上、望ましくは50 A7
dm 以上に限定することにある。
従来、2−ステップ法の第2工程で採用されている陰極
電流密度は10〜30 A/dm2が一般的であったが
本発明者らはクロム水和酸化物中に析出するハロrン元
素の量が陰極電流密度によって支配されることを見出し
、併せて効果的な陰極電流密度の範囲をも見出した。
第1図はその1例として0.111/IIと1.0数の
フッ化カリウムを添加した100g力の無水クロム酸水
溶液から鋼板上に直接析出させたクロム水和酸化物皮膜
に含まれるフッ素の量(オージェ分光による最表層のF
10ピーク比)と陰極電解処理の陰極電流密度の関係を
示したものである。この場合の陰極電解処理の電気量は
20ク一ロン/dm2の一定とした結果、クロム水和酸
化物皮膜量は、クロムとして13〜16 mEl/m2
の範囲でほぼ一定であった。
TFS ’i接着缶に成形してホットパックやレトルト
処理を施す場合にクロム水和酸化物層中の不純物が少な
い方が接着力の低下が少ないことは既に特開昭51−7
6895号公報?引用したように公知であシ高い陰極電
流密度で処理したときに生成されたクロム水和酸化物の
方がフッ素の含有量が少なく従って接着力もすぐれてい
るであろう事は容易に類推できる。また、第1図から処
理液中のフッ素化合物の量が少い方がクロム水和酸化物
中へのフッ素の析出も少ないことがわかるが、陰極電流
密度の効果は処理液中のフッ素化合物の量にかかわらず
現われるものであシ、本発明は処理浴中のへロダン化合
物の濃度範囲に拘らず同様の作用効果が得られる。
陰極電流密度については第1図に見られるように30 
A/dm2以下ではクロム水和酸化物中へのノ・ロrン
元素の析出量に殆ど差がなく、30 A/dm2から5
0 A/dm2の範囲で徐々に効果があられれ、50 
A/dm2以上になるとほぼ一定した量になることから
、30A/dm2以上が必要であり、50A/dm2以
上であることが更に望ましい。
〔実施例〕
次に実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。
常法で製造された板厚0.20 mのブリキ用原板をN
aOH40gAの水溶液中で15 A/dm2X 2秒
間陽極電解処理後水洗し、引続いてH2So430 g
illの水溶液中で20A/dm2×2秒間陰極電解処
理してから水洗し電気クロムメッキを施した。
電気クロムメッキはCr03150〜2001//l。
H2so40.75〜1 gill、 Na2SiF6
4.5〜6 y/l!浴温48〜52℃で陰極電流密度
60〜90IV/dm265〜70クーロン/dm2の
範囲で行ない、金属クロムの量はおよそ90〜120 
mFl/m2の範囲であった。電気クロムメッキに引続
いて、実施例1〜4及び比較例1〜2は常温の水道水で
、実施例5〜8及び比較例3〜4は95℃の高温水道水
で水洗し、実施例9〜12及び比較例5〜6はメッキ液
中で5 A/dm2X 0.2秒の陽極電解処理を行な
ったのちに常温の水道水で水洗した。これらの処理を終
えたのちに実施例1〜4および比較例1〜2は無水クロ
ム酸50 g/l硫酸イオン0.051!/l 。
フッ化ナトリウム1. Oi/l k含む42℃の水溶
液で、実施例5〜8および比較例3〜4は無水クロム酸
s o g/l、硫酸イオン0.10 gA、フッ化ア
ンモニウム0.15 gA 、塩酸0.05 g、/l
を含む40℃の水溶液で、実施例9〜12および比較例
5〜6では無水クロム酸100 g/l、硫酸イオン0
、039/l 、ケイフッ化ナトリウム2.0 gil
l *含む45℃の水溶液で陰極電解処理を施した。各
々の例における陰極電流密度と電解時間は第1表に示し
たとおシとした。
これらの方法で製造したTFSは水洗、乾燥、塗油を行
なったのち、エポキシフェノール系塗装と焼付を行ない
、ナイロン樹脂を接着剤として缶体成形しだのち0.4
%クエン酸水溶液を充填して各々の例とも20缶づつ’
に130℃のレトル)!中に12時間保持し、接着部の
剥離した伝教を引数して接着性能を評価した。
第2表には各々の例についてのクロム水和酸化物の量と
不純成分の量、レトルト試験の結果全示した。
第2表中のクロム水和酸化物量は、クロムについては螢
光X線法によって求め、その他の元素についてはオージ
ェ分光による皮膜最表層のピーク強度比から原子%を求
め、さらにクロムとの原子量比で換算したものである。
クロム水和酸化物皮膜を陰極電解処理によって析出せし
める工程の陰極電流密度が30A//dm2の範囲で皮
膜中の7・ロダン元素の含有量゛が低下しており、それ
に伴ってレトルト処理での接着剥離を起す伝教も減少し
、特に50 A/dm2以上で、その効果の著しbこと
がわかる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、接着部のレトルト処理等において剥離
が著しく減少し接着部としての機能を十分発揮すること
ができる。
又構成としては電流密度の制御により確実にでき、工業
的(て安定した操業ができる等の優れた効果が得られる
膜中のフッ素量:との関係を示す説明図表である。
11・、: 岸 1)正 行 しj−jl 第1図 隋梧電ヨを巴庭A/dyyt’

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 主として金属クロム層を析出させる工程と、その上層に
    主としてクロム水和酸化物層を析出させる工程の二工程
    からなり、 主としてクロム水和酸化物層を析出させる工程が無水ク
    ロム酸を主成分としてハロゲン化合物を添加した処理液
    中での陰極電解処理の陰極電流密度を30A/dm^2
    以上で処理することを特徴とする、ティンフリースチー
    ルの製造方法。
JP22155685A 1985-10-04 1985-10-04 テインフリ−スチ−ルの製造方法 Pending JPS6283499A (ja)

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