JPS628393Y2 - - Google Patents
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- JPS628393Y2 JPS628393Y2 JP5244181U JP5244181U JPS628393Y2 JP S628393 Y2 JPS628393 Y2 JP S628393Y2 JP 5244181 U JP5244181 U JP 5244181U JP 5244181 U JP5244181 U JP 5244181U JP S628393 Y2 JPS628393 Y2 JP S628393Y2
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- Japan
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- pump
- exhaust pipe
- vacuum
- sublimation
- valve
- Prior art date
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は高真空且つ高清浄な真空を必要とする
電子顕微鏡等の排気に使用されるサブリメーシヨ
ンポンプのベーキング装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a baking device for a sublimation pump used for evacuation of an electron microscope, etc., which requires a high vacuum and a highly clean vacuum.
斯かるサブリメーシヨンポンプはチタニウムフ
イラメントを高温に加熱して昇華させることによ
りポンプ内壁にチタニウムの膜(ゲツター面)を
形成し、化学反応によりポンプ容器内のガス分子
をゲツター面に吸着させてポンプ作用を行うもの
である。そこでポンプ稼動前にはポンプ内壁をベ
ーキングしてゲツター面に吸着したガス分子を放
出させながら油回転ポンプでこのガス分子を排気
するいわゆるベーキングを行わなければならな
い。このベーキングに際しては取り扱い者が経険
的に把握した一定時間(例えば1H程度)行うの
が普通である。 In such a sublimation pump, a titanium filament is heated to high temperature and sublimated to form a titanium film (getter surface) on the inner wall of the pump, and gas molecules in the pump container are adsorbed to the getter surface through a chemical reaction, and the pump is activated. It is something that performs an action. Therefore, before operating the pump, it is necessary to perform so-called baking, in which the inner wall of the pump is baked to release the gas molecules adsorbed on the getter surface, and the oil rotary pump is used to exhaust the gas molecules. This baking is usually done for a certain period of time (for example, about 1 hour) determined by the handler based on economic considerations.
ところがゲツター面に吸着するガス分子の量は
その都度異なつているため、ガス分子の量が少な
いときにはサブリメーシヨンポンプと油回転ポン
プとを接続する排気管内の真空が良くなり、粘性
流領域から中間領域及び分子流領域に入り、蒸気
圧の高い油回転ポンプの油蒸気がサブリメーシヨ
ンポンプ内に逆流してポンプ内壁に付着する。こ
の油蒸気が付着するとチタニウムフイラメントを
昇華させてポンプ内壁に付着(蒸着)するとき、
チタニウム膜がはがれてしまうため、排気速度が
落ちる不都合が生ずる。 However, since the amount of gas molecules adsorbed on the getter surface varies each time, when the amount of gas molecules is small, the vacuum in the exhaust pipe connecting the sublimation pump and the oil rotary pump improves, and the flow changes from the viscous flow region to the intermediate flow region. The oil vapor from the oil rotary pump, which has a high vapor pressure, flows back into the sublimation pump and adheres to the inner wall of the pump. When this oil vapor adheres, it sublimates the titanium filament and adheres (evaporates) to the inner wall of the pump.
Since the titanium film is peeled off, there is an inconvenience that the pumping speed is reduced.
本考案は斯様な不都合を解決することを目的と
するものであり、本考案の構成はサブリメーシヨ
ンポンプと、該サブリメーシヨンポンプ内を排気
管を介して粗引する油回転ポンプと、前記サブリ
メーシヨンポンプと油回転ポンプとの間を遮断す
るためのバルブと、前記排気管内の真空度に応じ
た信号を発生する真空計と、前記サブリメーシヨ
ンポンプをベーキングする手段と、前記サブリメ
ーシヨンポンプのベーキング中前記真空計からの
信号をモニターして前記排気管内の真空度が中間
流領域の真空度以上に達したとき前記バルブを閉
鎖するための手段とを設けることにより油回転ポ
ンプの油蒸気がサブリメーシヨンポンプ内に逆流
するのを阻止することを特徴とするものである。
以下本考案を図面に示した一実施例に基づき詳説
する。 The purpose of the present invention is to solve such inconveniences, and the present invention has a configuration including a sublimation pump, an oil rotary pump that roughly pumps the inside of the sublimation pump via an exhaust pipe, A valve for shutting off between the sublimation pump and the oil rotary pump, a vacuum gauge for generating a signal according to the degree of vacuum in the exhaust pipe, a means for baking the sublimation pump, and the sublimation pump. and means for monitoring the signal from the vacuum gauge during baking of the pump and closing the valve when the degree of vacuum in the exhaust pipe reaches the degree of vacuum in the intermediate flow region or higher. This is characterized by preventing oil vapor from flowing back into the sublimation pump.
The present invention will be explained in detail below based on an embodiment shown in the drawings.
添付図面は本考案の一実施例を示す構成略図で
あり、1はチタニウムフイラメント2を使用した
サブリメーシヨンポンプである。該ポンプ1は主
排気管3を介して電子顕微鏡等の被排気室4に接
続されており、又該ポンプ1は副排気管5を介し
て油回転ポンプ6に接続されている。前記主排気
管3及び副排気管5にはバルブ7,8が夫々設け
てある。9は前記チタニウムフイラメント2にベ
ーキング電流を供給するためのベーキング用電源
で、10はチタニウムフイラメント2に昇華電流
を供給するための昇華用電源で、これら電源は切
換スイツチ11によりチタニウムフイラメント2
に接続される。 The attached drawings are schematic diagrams showing an embodiment of the present invention, and 1 is a sublimation pump using a titanium filament 2. The pump 1 is connected to an evacuated chamber 4 of an electron microscope or the like via a main exhaust pipe 3, and is connected to an oil rotary pump 6 via a sub-exhaust pipe 5. The main exhaust pipe 3 and the sub-exhaust pipe 5 are provided with valves 7 and 8, respectively. 9 is a baking power supply for supplying a baking current to the titanium filament 2; 10 is a sublimation power supply for supplying a sublimation current to the titanium filament 2;
connected to.
12は前記副排気管5内の真空度に応じた信号
を発生する真空計で、出力信号は比較回路13に
送られて基準電源14の基準信号と比較される。
該比較回路13は両信号が一致したとき出力信号
をバルブ8の駆動部に送り、このバルブ8を閉鎖
する。尚チタニウムフイラメント2は実際には数
本設置してある。 Reference numeral 12 denotes a vacuum gauge that generates a signal corresponding to the degree of vacuum in the sub-exhaust pipe 5, and the output signal is sent to a comparison circuit 13 and compared with a reference signal from a reference power supply 14.
The comparator circuit 13 sends an output signal to the driver of the valve 8 to close the valve 8 when the two signals match. Note that several titanium filaments 2 are actually installed.
今、サブリメーシヨンポンプ1をベーキングす
るには先ずバルブ7を閉じ、バルブ8を開放して
サブリメーシヨンポンプ内を油回転ポンプ6によ
り排気する。この状態において切換スイツチ11
を図面に示す様にベーキング用電源9に接続して
チタニウムフイラメント2にベーキング電流を供
給することにより加熱する。このフイラメント2
の加熱によりサブリメーシヨンポンプ内壁が輻射
によつて加熱されるため、脱ガスが行われる。し
かしてベーキングが進行するにつれて副排気管5
内の真空が粘性流領域から中間領域に入ると真空
計12からの出力信号の値が基準電源14からの
基準信号の値よりも大きくなるため、比較回路1
3は出力信号をバルブ8の駆動部に送り、バルブ
8を閉鎖する。これにより油回転ポンプ6の油蒸
気がサブリメーシヨンポンプ1内に進入するのが
防止できる。又チタニウムフイラメント2の加熱
による脱ガスにより副排気管5内の真空が再び悪
くなつて粘性流領域に入ると比較回路13からの
出力信号が停止されるため、バルブ8は再び開放
し、サブリメーシヨンポンプ内のガス分子が排気
される。以下この動作が繰り返されて、ベーキン
グが完了する。 To bake the sublimation pump 1, first, the valve 7 is closed, the valve 8 is opened, and the inside of the sublimation pump is evacuated by the oil rotary pump 6. In this state, the changeover switch 11
is connected to a baking power source 9 as shown in the drawing, and the titanium filament 2 is heated by supplying a baking current. This filament 2
As the inner wall of the sublimation pump is heated by radiation, degassing takes place. However, as baking progresses, the auxiliary exhaust pipe 5
When the vacuum inside moves from the viscous flow region to the intermediate region, the value of the output signal from the vacuum gauge 12 becomes larger than the value of the reference signal from the reference power source 14.
3 sends an output signal to the driver of valve 8 to close valve 8. This prevents oil vapor from the oil rotary pump 6 from entering the sublimation pump 1. Furthermore, when the vacuum in the sub-exhaust pipe 5 deteriorates again due to degassing due to heating of the titanium filament 2 and enters the viscous flow region, the output signal from the comparator circuit 13 is stopped, so the valve 8 is opened again and the sub-exhaust pipe 5 is discharged. The gas molecules inside the pump are evacuated. This operation is repeated thereafter to complete baking.
ところで、以下の関係がクヌーセン
(Knndsen)により導かれている。 By the way, the following relationship is derived by Knudsen.
即ち、管の内径をD、長さをL、管内の圧力を
Pとすると、この管の排気コンダンクタンスC
(l/s)は
C=12.1(D3/L)J …(1)
で与えられる。 That is, if the inner diameter of the tube is D, the length is L, and the pressure inside the tube is P, then the exhaust conductance of this tube is C.
(l/s) is given by C=12.1(D 3 /L)J (1).
但し、上式中におけるフアクターJは下式
J=1+271DP+4790(DP)2/1+31
6DP
で与えられ、DP(Torr・cm)の関数として第2
図に示す値となる。 However, the factor J in the above formula is the following formula: J=1+271DP+4790(DP) 2 /1+31
6DP, and the second as a function of DP (Torr cm)
The values are shown in the figure.
さて、管内の流れは分子流、中間流、粘性流に
分類できるが、分子流、中間流、粘性流の夫々が
支配的となる領域は、DPの値に応じて第2図に
示すようになる。 Now, the flow in a pipe can be classified into molecular flow, intermediate flow, and viscous flow.The regions where each of molecular flow, intermediate flow, and viscous flow are dominant depend on the value of DP as shown in Figure 2. Become.
以上のクヌーセンにより導かれた結果から、中
間流領域の代表値として、例えば
DP=2×10-1(Torr・cm)
を選んだとし、これを実施例における副排気管に
当てはめれば、この副排気管が中間流領域となる
圧力P0は
P0=2×10-1/D0
と表わされる。ここで、D0は副排気管の内径で
ある。いま、内径D0が8mmの副排気管を使用し
た場合には、この圧力P0は、
P0=2.5×10-1(Torr)
となる。そこで副排気管内の真空度が2.5×
10-1Torrに達したときバルブ8を閉鎖する様に
基準電源の基準値を設定すればよい。 Based on the results derived by Knudsen above, if we choose, for example, DP = 2 × 10 -1 (Torr cm) as the representative value of the intermediate flow region, and apply this to the sub-exhaust pipe in the example, we can obtain this value. The pressure P 0 at which the sub-exhaust pipe becomes an intermediate flow region is expressed as P 0 =2×10 −1 /D 0 . Here, D 0 is the inner diameter of the sub-exhaust pipe. Now, when a sub-exhaust pipe with an inner diameter D 0 of 8 mm is used, this pressure P 0 becomes P 0 =2.5×10 -1 (Torr). Therefore, the degree of vacuum in the sub-exhaust pipe is 2.5×
The reference value of the reference power source may be set so that valve 8 is closed when the value reaches 10 -1 Torr.
以上の様に本考案においては副排気管内の真空
が油回転ポンプの油蒸気が逆流する真空度(中間
領域真空度)に達すると自動的にバルブが閉じて
サブリメーシヨンポンプと油回転ポンプとの間が
遮断されるため、サブリメーシヨンポンプ内壁に
油蒸気が付着することによりチタニウム膜がはく
離されることを阻止することができ、排気速度の
低下を防止することができる。 As described above, in this invention, when the vacuum in the sub-exhaust pipe reaches a degree of vacuum at which oil vapor from the oil rotary pump flows backward (intermediate vacuum degree), the valve automatically closes and the sublimation pump and oil rotary pump Since the gap is blocked between the two, it is possible to prevent the titanium film from being peeled off due to oil vapor adhering to the inner wall of the sublimation pump, and it is possible to prevent a decrease in the pumping speed.
尚前述の説明ではチタニウムフイラメントにベ
ーキング電流を流してサブリメーシヨンポンプ内
壁を加熱する場合について述べたが、これに代え
てサブリメーシヨンポンプ壁に加熱コイルを巻装
してもよい。 In the above description, a case has been described in which the inner wall of the sublimation pump is heated by passing a baking current through the titanium filament, but instead of this, a heating coil may be wound around the wall of the sublimation pump.
第1図は本考案の一実施例を示す構成略図、第
2図は分子流、中間流、粘性流の各領域とDPの
値との関係を示すための図である。
1:サブリメーシヨンポンプ、2:チタニウム
フイラメント、3:主排気管、4:被排気室、
5:副排気管、6:油回転ポンプ、7,8:バル
ブ、9:ベーキング用電源、10:昇華用電源、
11:切換スイツチ、12:真空計、13:比較
回路、14:基準電源。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the relationship between each region of molecular flow, intermediate flow, and viscous flow and the value of DP. 1: Sublimation pump, 2: Titanium filament, 3: Main exhaust pipe, 4: Exhaust chamber,
5: Sub-exhaust pipe, 6: Oil rotary pump, 7, 8: Valve, 9: Baking power supply, 10: Sublimation power supply,
11: Selector switch, 12: Vacuum gauge, 13: Comparison circuit, 14: Reference power supply.
Claims (1)
ンポンプ内を排気管を介して粗引する油回転ポン
プと、前記サブリメーシヨンポンプと油回転ポン
プとの間を遮断するためのバルブと、前記排気管
内の真空度に応じた信号を発生する真空計と、前
記サブリメーシヨンポンプをベーキングする手段
と、前記サブリメーシヨンポンプのベーキング中
前記真空計からの信号をモニターして前記排気管
内の真空度が中間流領域の真空度以上に達したと
き前記バルブを閉鎖するための手段とからなるサ
ブリメーシヨンポンプのベーキング装置。 a sublimation pump, an oil rotary pump that roughly pumps the inside of the sublimation pump through an exhaust pipe, a valve for isolating between the sublimation pump and the oil rotary pump, and a valve inside the exhaust pipe. a vacuum gauge that generates a signal according to the degree of vacuum; a means for baking the sublimation pump; and a means for monitoring the signal from the vacuum gauge while baking the sublimation pump to determine whether the degree of vacuum in the exhaust pipe is intermediate and means for closing the valve when a vacuum level in the flow region is reached.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5244181U JPS628393Y2 (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5244181U JPS628393Y2 (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57164270U JPS57164270U (en) | 1982-10-16 |
| JPS628393Y2 true JPS628393Y2 (en) | 1987-02-26 |
Family
ID=29849126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5244181U Expired JPS628393Y2 (en) | 1981-04-10 | 1981-04-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628393Y2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5016988B2 (en) * | 2007-06-19 | 2012-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Charged particle beam apparatus and vacuum startup method thereof |
| JP6201729B2 (en) * | 2013-12-20 | 2017-09-27 | 株式会社豊田中央研究所 | Thermal transition flow pump system and vacuum chamber vacuum maintenance method using thermal transition flow pump |
-
1981
- 1981-04-10 JP JP5244181U patent/JPS628393Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57164270U (en) | 1982-10-16 |
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