JPS6283949A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体製造装置におけるウェハ搬送装置に
関するものである。

〔従来の技術〕

第３図は従来のウェハ搬送装置の構成図である。図にお
いて、（ｌ）はウェハ、（２）は支ニブロック、＋３１
ｉ／ｊ吸着パッド、１４１ｉエアーノズルである。

また、第４図は、第３図の側面からの断面図である。

次ＶＣ動作について説明する。搬送しようとするウェハ
の上方に（３）の吸着パッドを移動させ、次いで（４）
のエアーノズルよ、９、ｔ３１の吸着パッドの内側に沿
ってエアーを吹き出す。このとき生じる排圧によりＩｌ
＋のウェハが上方へ吹い上げられ、１２１の支エプロン
クでウェハの端を支えられて（３）の吸着パッドに吸着
固定される。この吸着固定した状態で１３１の吸着パッ
ドを目的の位置上方まで移鯖させ、次いで（４）のエア
ーノズルからのエアー吹き出しを停止する。排圧による
吸引力の無くなったウェハは、（３）の吸着パッドから
離れ自然落下音して目的の搬送位置へ置かれる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来のウェハ搬送装置は、以上のように構収されている
ので、１１１のウェハの吸引時及び自然落下時にｉｌ＋
のウェハの位置が一定せず、ウエハ搬送位置の精度を向
上させることが困雌であったＯ この発明に、かかる問題点全解決するためになされたも
ので、ウェハ搬送位置の精度を同上させることができる
とともに、吸着時にフェノ）ヘ無理な力を与えずに固定
できる装置を得ることを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係るウェハ搬送装置は、ウエハ表面外周部上
の８箇所以上に独立懸下式の吸盤を配設し、この吸盤を
下降させ、全ての吸盤をウェハ表面外周部に密着させた
状態で吸着する様にしたものである。

〔作用〕

この発明にお−ては、ウェハ表面外周部上に４個の独立
懸下式の吸盤を設け、ウエハ吸着時に他の吸盤のウェハ
への押付ける力が影響しないようにし、ウェハへの無理
な力を防止する。

この上で、吸盤ｔウェハ表面外周部に密着させた状態で
ウェハの着脱を行ない吸引時、落下時の位置の不安定さ
を無くし、ウエハ搬送位置の精度を向上させることがで
きる。

〔発明の実施例〕 第１図はこの発明の一実施例によるフェノ）搬送装置の
構成図であり、田はウエハ、（２）は吸凰１３１ハスプ
リングで、（２］の吸盤が（６）のアームに対して垂直
方向のみに伸縮ができるように収付けられている。（４
）は、１２）の吸盤に連結している真空供給口である。

また、第８図は、第１図の側面からの断面図である。

次に動作について説明する。搬送しようとするウェハの
外周部の上方に（２）の吸盤４個が位置するように（６
）のアームを移動させる。

次りで（５）のアームを下降させ、（２）の吸盤４個と
全て（２１のウェハの表面外周部に密着させる。この際
、＋２１の吸盤は（３）のスプリングで４個独立で（２
）のウェハに押付けられる。次いで、（４）の真空供給
口より真空を供給し、吸盤に（２）のウェハを吸着させ
る。この状態で＋５１のアームを上昇させ、目的の位置
上方まで移動させる。目的位置上方で＋［ｌのアームを
下降させ、目的位置ｒ（：１２＋のウェハを密着させ、
次いで１４＋の真空供給口よシの真空供給を停止する。

（５）のアームを上昇させウェハ搬送を終了する。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明した通り、独立懸下式の吸盤を便用
したためにウェハに無理な力を与えずに密着した状態で
吸着ができ、よってウエハの位置ズレが減少し精度の高
いウエハ搬送が可能となった。

【図面の簡単な説明】

ｉｔ図は、この発明の一実施例によるウエハ搬送装置の
構成図、第２図は、第１図の側面からの断面図、Ｈａ図
は従来のウエハ搬送装置の構成図、第会図は、第３図の
側面からの断面図である。図において、（１１はウエハ
、＋２１　／／ｉ吸盤、（３１はスプリング、（４１は
真空供給口、（５）はアームである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ウエハを搬送する工程におけるウエハを保持する装置に
   おいて、上記ウエハの外周部表面を吸着するために、独
   立懸下式の複数の吸盤を設け、上記ウエハに吸盤を接触
   させる上下動機構を備えたことを特徴とするウエハ搬送
   装置。