JPS6284409A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6284409A JPS6284409A JP22379085A JP22379085A JPS6284409A JP S6284409 A JPS6284409 A JP S6284409A JP 22379085 A JP22379085 A JP 22379085A JP 22379085 A JP22379085 A JP 22379085A JP S6284409 A JPS6284409 A JP S6284409A
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- JP
- Japan
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- block
- magnetic
- bonding material
- groove
- gap
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビデオテープレコーダ(以下、VTRという
)あるいはフロッピーディスクドライブ(以下、FDD
という)など、高密度記録が要求 ′される磁気記録再
生装置に好適な磁気ヘッドの製造方法に関する。
)あるいはフロッピーディスクドライブ(以下、FDD
という)など、高密度記録が要求 ′される磁気記録再
生装置に好適な磁気ヘッドの製造方法に関する。
近年、VTR,FDDなとの磁気記録再生装置において
は、記録密度の高密度化が最も重要な技術的課題の1つ
になっている。かかる技術的課題を解決するための一手
段として、記録トラックを狭幅化し、単位面積当りの記
録トラック数を増加することによって、その分の記録密
度の向上を図ることが考えられる。記録トラックを狭幅
化するためには、磁気記録媒体に情報を書込み、磁気記
録媒体に記録された情報を読み出すための磁気ヘッドの
トラック幅を狭幅化する必要があり、かかる観点から、
トラック幅がコア幅よりも幅狭に形成された磁気ヘッド
が、従来より知られている。
は、記録密度の高密度化が最も重要な技術的課題の1つ
になっている。かかる技術的課題を解決するための一手
段として、記録トラックを狭幅化し、単位面積当りの記
録トラック数を増加することによって、その分の記録密
度の向上を図ることが考えられる。記録トラックを狭幅
化するためには、磁気記録媒体に情報を書込み、磁気記
録媒体に記録された情報を読み出すための磁気ヘッドの
トラック幅を狭幅化する必要があり、かかる観点から、
トラック幅がコア幅よりも幅狭に形成された磁気ヘッド
が、従来より知られている。
第1O図に、従来知られているこの種磁気ヘッドの一例
を示す。この図に示すように、この種磁気ヘッドは、M
n−Znフェライトなど透磁率および飽和磁束密度の高
い材料にて形成されたI形コア半体1(1,および、こ
れと同様の材料にて形成されたC形コア半体11のギャ
ップ形成側の面を幅狭に形成し、該■形コア半体10お
よびC形コア半体11のギャップ形成側の面に S i
02などの非磁性体からなる磁気ギャップ12を形成
し、−ヒll13I形コア半体10およびC形コア半体
11のギャップ形成側の側面に形成される凹陥部13に
接合材14を充填することによって、上記I形コア半体
10およびC形コア半体11が接合されている。尚、こ
の図において、15は巻線窓を示し、励磁コイルについ
ては図示を省略しである。
を示す。この図に示すように、この種磁気ヘッドは、M
n−Znフェライトなど透磁率および飽和磁束密度の高
い材料にて形成されたI形コア半体1(1,および、こ
れと同様の材料にて形成されたC形コア半体11のギャ
ップ形成側の面を幅狭に形成し、該■形コア半体10お
よびC形コア半体11のギャップ形成側の面に S i
02などの非磁性体からなる磁気ギャップ12を形成
し、−ヒll13I形コア半体10およびC形コア半体
11のギャップ形成側の側面に形成される凹陥部13に
接合材14を充填することによって、上記I形コア半体
10およびC形コア半体11が接合されている。尚、こ
の図において、15は巻線窓を示し、励磁コイルについ
ては図示を省略しである。
以下、かかる磁気ヘッドの製造方法の一例を第11図乃
至第17図によって概説する。
至第17図によって概説する。
まず、第11図に示すように、I形コア半体10および
C形コア半体11のもとになる磁性材料にて形成された
ブロック20の片面に、予じめ定められたトラック幅(
第10図の幅d)と鴫等しい間隔Wを隔てて複数の凹溝
21を平行に形成する。
C形コア半体11のもとになる磁性材料にて形成された
ブロック20の片面に、予じめ定められたトラック幅(
第10図の幅d)と鴫等しい間隔Wを隔てて複数の凹溝
21を平行に形成する。
次いで、第12図に示すように、上記凹溝21内および
−E記ジブロック0のギャップ形成側の面に、例えばP
bO2の如き非磁性の接合材22を比較的厚めに溶融充
填し、しかるのち同図に一点鎖線で示す位置まで研摩し
て、第13図に示す如き、前記■形コア半体10となる
I形コアブロック24を形成する。
−E記ジブロック0のギャップ形成側の面に、例えばP
bO2の如き非磁性の接合材22を比較的厚めに溶融充
填し、しかるのち同図に一点鎖線で示す位置まで研摩し
て、第13図に示す如き、前記■形コア半体10となる
I形コアブロック24を形成する。
また、第11図に示すブロック20のうちの一部に、上
記凹溝21と直交する方向に延びるコイル溝を切削形成
し、該コイル溝および上記凹溝21、それにギャップ形
成側の面に上記と同様の接合材22を比較的厚めに溶融
充填し、しかるのち不要な接合材22を除去することに
よって、第14に示すように、コイル1lt25が形成
されたC形コアブロック26を形成する。
記凹溝21と直交する方向に延びるコイル溝を切削形成
し、該コイル溝および上記凹溝21、それにギャップ形
成側の面に上記と同様の接合材22を比較的厚めに溶融
充填し、しかるのち不要な接合材22を除去することに
よって、第14に示すように、コイル1lt25が形成
されたC形コアブロック26を形成する。
次いで、第15図に示すように、このI形コアブロック
24とC形コアブロック26のうち、少なくともいずれ
か一方のコアブロック24.26のギャップ形成側の面
に、例えばスパッタリングあるいは真空蒸着などの薄膜
形成手段を用いて。
24とC形コアブロック26のうち、少なくともいずれ
か一方のコアブロック24.26のギャップ形成側の面
に、例えばスパッタリングあるいは真空蒸着などの薄膜
形成手段を用いて。
5iOz の如き非磁性のギャップ規制材からなる磁
気ギャップ27を被着する。
気ギャップ27を被着する。
次いで、第16図に示すように、磁気ギャップ27が被
着されたI形コアブロック24およびC形コアブロック
26の磁気ギャップ形成側の面を突き合わせ、予じめ設
定された加圧および加熱条件の下で両コアブロック24
.26を接合する。
着されたI形コアブロック24およびC形コアブロック
26の磁気ギャップ形成側の面を突き合わせ、予じめ設
定された加圧および加熱条件の下で両コアブロック24
.26を接合する。
最後に、第17図に示すように、前記のようにして一体
に接合されたコアブロック28を、同図に記した一点鎖
線に沿ってスライス加工することにより、第10図に示
す如き所定形状の磁気ヘッドを得る。
に接合されたコアブロック28を、同図に記した一点鎖
線に沿ってスライス加工することにより、第10図に示
す如き所定形状の磁気ヘッドを得る。
ところで、上記の如き方法によって磁気ヘッドを製造す
る場合、コアブロック28の、スライス加工後磁気ヘッ
ドとなる部分相互の間に、スライス加工のための加工し
ろとして0.5−m〜1■−程度の間隙を設定しておか
なくてはならない。加工しろ=4− を大きくする手段としては種々考えられるが、通常は加
工を容易にするため、第11図に示すように、コア幅T
よりも太幅の凹溝21を形成することが行われている。
る場合、コアブロック28の、スライス加工後磁気ヘッ
ドとなる部分相互の間に、スライス加工のための加工し
ろとして0.5−m〜1■−程度の間隙を設定しておか
なくてはならない。加工しろ=4− を大きくする手段としては種々考えられるが、通常は加
工を容易にするため、第11図に示すように、コア幅T
よりも太幅の凹溝21を形成することが行われている。
【従来技術の問題点)
しかしながら、従来のように凹溝21の幅を太幅に形成
すると、凹溝21内に充填される接合材22の総量が多
くなって、その分接合工程、特に加熱中に接合材42内
に気泡が発生し易くなったり、あるいは冷却過程におい
てコアブロック28と接合材22との体積収縮lの差が
大きくなって接合材22にクラックを生ずるといった問
題が生じ易くなる。
すると、凹溝21内に充填される接合材22の総量が多
くなって、その分接合工程、特に加熱中に接合材42内
に気泡が発生し易くなったり、あるいは冷却過程におい
てコアブロック28と接合材22との体積収縮lの差が
大きくなって接合材22にクラックを生ずるといった問
題が生じ易くなる。
このため、従来の磁気ヘッドにおいては、接合材22内
に発生した気泡が媒体摺動面側にまで露出して媒体摺動
面の平滑性を阻害したり、あるいはコアブロックの接合
強度が低下して、ギャップ長のばらつきが大きくなった
り、あるいは、取扱い中に■形コア半体10とC形コア
半体11とが接合面から剥離してしまうというといった
不具合を生ずることが多く1歩留りが悪いという問題が
あった。
に発生した気泡が媒体摺動面側にまで露出して媒体摺動
面の平滑性を阻害したり、あるいはコアブロックの接合
強度が低下して、ギャップ長のばらつきが大きくなった
り、あるいは、取扱い中に■形コア半体10とC形コア
半体11とが接合面から剥離してしまうというといった
不具合を生ずることが多く1歩留りが悪いという問題が
あった。
本発明は、接合しようとする2つのコアブロックの間に
充填される接合材の総社を減少することによって加熱、
冷却中に接合材中に発生する気泡やこれに起因するクラ
ックを減少し、もって歩留りが高く、かつ、磁気特性の
安定した磁気ヘッドを提供するため、コア半体のもとに
なる2つのブロックの片面に形成された凹溝内に予じめ
該凹溝の容積よりも小さい容積の非接合材を挿入してお
き、非接合材が挿入されたブロックの上記凹溝内に接合
材を充填するようにしたことを特徴とするものである。
充填される接合材の総社を減少することによって加熱、
冷却中に接合材中に発生する気泡やこれに起因するクラ
ックを減少し、もって歩留りが高く、かつ、磁気特性の
安定した磁気ヘッドを提供するため、コア半体のもとに
なる2つのブロックの片面に形成された凹溝内に予じめ
該凹溝の容積よりも小さい容積の非接合材を挿入してお
き、非接合材が挿入されたブロックの上記凹溝内に接合
材を充填するようにしたことを特徴とするものである。
以下1本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の一例を第
1図乃至第9図に基づいて説明する。
1図乃至第9図に基づいて説明する。
まず、第1図に示すように、例えば単結晶Mn−Zn
フェライトあるいはNi−Znフェライトなどの磁性材
料を用いて、I形コア半体およびC形コア半体のもとに
なるブロック1を形成する。
フェライトあるいはNi−Znフェライトなどの磁性材
料を用いて、I形コア半体およびC形コア半体のもとに
なるブロック1を形成する。
次いで、第2図に示すように、上記ブロックlの片面に
所要とするトラック幅と略等しい間隔Wを隔てて複数の
凹溝2を平行に形成する。
所要とするトラック幅と略等しい間隔Wを隔てて複数の
凹溝2を平行に形成する。
次いで、第3図に示すように、上記凹溝2内に例えばグ
ラファイト、MoSi2. h −B N などのセラ
ミックス、あるいはポリイミドなどの耐熱性高分子材料
、あるいは銅などの金属材料など、任意の材料によって
形成された棒状または線状の非接合材3を収納する。
ラファイト、MoSi2. h −B N などのセラ
ミックス、あるいはポリイミドなどの耐熱性高分子材料
、あるいは銅などの金属材料など、任意の材料によって
形成された棒状または線状の非接合材3を収納する。
次いで、第4図に示すように、上記のようにして非接合
材3が収納された凹溝2内およびブロック1のギャップ
形成側の面に、 Pb0zを主成分とする低融点ガラス
などの非磁性の接合材4を比較的厚めに溶融充填し、し
かるのち、同図に一点鎖線で示す位置まで研摩して、第
5図に示すような■形コアブロック5を形成する。
材3が収納された凹溝2内およびブロック1のギャップ
形成側の面に、 Pb0zを主成分とする低融点ガラス
などの非磁性の接合材4を比較的厚めに溶融充填し、し
かるのち、同図に一点鎖線で示す位置まで研摩して、第
5図に示すような■形コアブロック5を形成する。
次いで、上記のようにして形成された複数個のI形コア
ブロック5のうちの一部に、第6図に示すように、上記
凹溝2と直交する方向に延びるコニツー イル[6を切削形成し、C形コアブロック7を形成する
。
ブロック5のうちの一部に、第6図に示すように、上記
凹溝2と直交する方向に延びるコニツー イル[6を切削形成し、C形コアブロック7を形成する
。
次いで、第7図に示すように、これら■形コアブロック
5およびC形コアブロック7のうちいずれか一方のコア
ブロックの磁気ギャップ形成側の面に、例えば、スパッ
タリング、真空蒸着、化学蒸着、めっきなど、任意の薄
膜形成手段を用いて、例えば5iOz 、 1”i、C
u、Beの如き非磁性のギャップ規制材からなる磁気ギ
ャップ8を形成する。
5およびC形コアブロック7のうちいずれか一方のコア
ブロックの磁気ギャップ形成側の面に、例えば、スパッ
タリング、真空蒸着、化学蒸着、めっきなど、任意の薄
膜形成手段を用いて、例えば5iOz 、 1”i、C
u、Beの如き非磁性のギャップ規制材からなる磁気ギ
ャップ8を形成する。
次いで、第8図に示すように、磁気ギャップ8が被着さ
れたI形コアブロック5およびC形コアブロック7の磁
気ギャップ形成側の面を突き合わせ、予じめ設定された
加圧および加熱条件の下で、接合する。
れたI形コアブロック5およびC形コアブロック7の磁
気ギャップ形成側の面を突き合わせ、予じめ設定された
加圧および加熱条件の下で、接合する。
最後に、第9図に示すように、前記のようにして一体に
接合されたコアブロック9を、同図に起した一点鎖線に
沿ってスライスすることにより、上記非接合材を含まな
い所定形状の磁気ヘッドを得る。
接合されたコアブロック9を、同図に起した一点鎖線に
沿ってスライスすることにより、上記非接合材を含まな
い所定形状の磁気ヘッドを得る。
上記実施例の磁気ヘッドの製造方法は、凹WIt2内に
非接合材3を挿入してから接合材4を充填するようにし
たので、該凹[92内に充填される接合材4の総量が約
32%も減少され、その介接合材4の内部に発生する気
泡が減少される。従って、磁気ヘッドの媒体摺動面側に
気泡が霧出して平滑性が害されたり、あるいは接合強度
が低下してクラックを生ずるといった不具合を解消する
ことができる。
非接合材3を挿入してから接合材4を充填するようにし
たので、該凹[92内に充填される接合材4の総量が約
32%も減少され、その介接合材4の内部に発生する気
泡が減少される。従って、磁気ヘッドの媒体摺動面側に
気泡が霧出して平滑性が害されたり、あるいは接合強度
が低下してクラックを生ずるといった不具合を解消する
ことができる。
尚、本発明の要旨は、2つのコア半体を接合する接合材
の充填方法に存するのであって、磁気ヘッドを構成する
コア半体の構造については、上記実施例のものに限定さ
れるものではない。例えば、単結晶Mn−Znフェライ
トあるいは単結晶N i −Znフェライトなどの磁性
材料によって形成されたC形コア基体およびI形コア基
体のギャップ形成側の面に、例えば、Fe−8i合金、
Fe−Al−8i合金、Ni−Fe合金などの高透磁率
および高飽和磁性密度の結晶質磁性合金、あるいは非晶
質磁性合金からなる金属磁性層が被着された複合型の磁
気ヘッドについても全く同様に実施することができる。
の充填方法に存するのであって、磁気ヘッドを構成する
コア半体の構造については、上記実施例のものに限定さ
れるものではない。例えば、単結晶Mn−Znフェライ
トあるいは単結晶N i −Znフェライトなどの磁性
材料によって形成されたC形コア基体およびI形コア基
体のギャップ形成側の面に、例えば、Fe−8i合金、
Fe−Al−8i合金、Ni−Fe合金などの高透磁率
および高飽和磁性密度の結晶質磁性合金、あるいは非晶
質磁性合金からなる金属磁性層が被着された複合型の磁
気ヘッドについても全く同様に実施することができる。
また、上記実施例においては、棒状または線状に形成さ
れた非接合材を用いる場合について説明したが、本発明
の要旨がこれに限定されるものではなく、その他任意の
形状の非接合材を用いることができる。
れた非接合材を用いる場合について説明したが、本発明
の要旨がこれに限定されるものではなく、その他任意の
形状の非接合材を用いることができる。
さらに、上記実施例においては、接合材としてPbO2
を用いたが、本発明の要旨がこれに限定されるものでは
なく、その他任意の材質の接合材を用いることができる
ことは当然である。
を用いたが、本発明の要旨がこれに限定されるものでは
なく、その他任意の材質の接合材を用いることができる
ことは当然である。
以上説明したように、本発明の磁気ヘッドの製造方法は
、凹溝内に非接合材を挿入してから接合材を充填するよ
うにしたので、該凹溝内に充填される接合材の総量が減
少され、その介接合材の内部に発生する気泡が減少され
る。従って、磁気ヘッドの媒体摺動面側に気泡が館山し
て平滑性が害されたり、あるいは接合強度が低下してク
ラックを生ずるといった不具合を解消することができる
。
、凹溝内に非接合材を挿入してから接合材を充填するよ
うにしたので、該凹溝内に充填される接合材の総量が減
少され、その介接合材の内部に発生する気泡が減少され
る。従って、磁気ヘッドの媒体摺動面側に気泡が館山し
て平滑性が害されたり、あるいは接合強度が低下してク
ラックを生ずるといった不具合を解消することができる
。
第1図乃至第9図は本発明にかかる磁気ヘッドの製造方
法の一例を示す工程図であって、第1図はコア半体のも
とになるブロックの斜視図、第2図は凹溝が形成された
ブロックの斜視図、第3図は非接合材が挿入されたブロ
ックの正面図、第4図は接合材が充填されたブロックの
正面図、第5図はI形コアブロックの斜視図、第6図は
C形コアブロックの斜視図、第7図は磁気ギャップが形
成されたコアブロックの斜視図、第8図はコアブロック
の接合方法を示す正面図、第9図はコアブロックのスラ
イス位置を示す正面図、第10図は従来知られている磁
気ヘッドの一例を示す斜視図、第11図乃至第17図は
従来知られている磁気ヘッド製造方法の一例を示す工程
図であって、第11図は凹溝が形成されたブロックの斜
視図、第12図は接合材が充填されたブロックの正面図
、第13図は■形コアブロックの斜視図、第14図はC
形コアブロックの斜視図、第15図は磁気ギャップが形
成されたコアブロックの斜視図、第16図はコアブロッ
クの接合方法を示す正面図。 第17図はコアブロックのスライス位置を示す正面図で
ある。 1ニブロツク、2:凹溝、3:非接合材、4:接合材、
5:1形コアブロツク、6:コイル溝。 7:C形コアブロック、8:磁気ギャップ、9ニ一体化
されたコアブロック 第9図 第10図 第11図 第12図 第13図
法の一例を示す工程図であって、第1図はコア半体のも
とになるブロックの斜視図、第2図は凹溝が形成された
ブロックの斜視図、第3図は非接合材が挿入されたブロ
ックの正面図、第4図は接合材が充填されたブロックの
正面図、第5図はI形コアブロックの斜視図、第6図は
C形コアブロックの斜視図、第7図は磁気ギャップが形
成されたコアブロックの斜視図、第8図はコアブロック
の接合方法を示す正面図、第9図はコアブロックのスラ
イス位置を示す正面図、第10図は従来知られている磁
気ヘッドの一例を示す斜視図、第11図乃至第17図は
従来知られている磁気ヘッド製造方法の一例を示す工程
図であって、第11図は凹溝が形成されたブロックの斜
視図、第12図は接合材が充填されたブロックの正面図
、第13図は■形コアブロックの斜視図、第14図はC
形コアブロックの斜視図、第15図は磁気ギャップが形
成されたコアブロックの斜視図、第16図はコアブロッ
クの接合方法を示す正面図。 第17図はコアブロックのスライス位置を示す正面図で
ある。 1ニブロツク、2:凹溝、3:非接合材、4:接合材、
5:1形コアブロツク、6:コイル溝。 7:C形コアブロック、8:磁気ギャップ、9ニ一体化
されたコアブロック 第9図 第10図 第11図 第12図 第13図
Claims (1)
- コア半体のもとになる2つのブロックの片面にトラック
幅と略等しい間隔を隔てて複数の凹溝を平行に形成する
工程、該凹溝内に該凹溝の容積よりも小さい容積の非接
合材を挿入する工程、非接合材が挿入されたブロックの
上記凹溝内に接合材を充填する工程、上記ブロックのギ
ャップ形成側の面を研摩してギャップ突き合せ部を露出
する工程、ギャップ突き合せ部が露出された2つのブロ
ックのうち、少なくともいずれか一方のブロックのギャ
ップ形成側の面に非磁性の磁気ギャップを形成する工程
、磁気ギャップが形成された2つのブロックのギャップ
形成側の面を突き合わせ、両ブロックを一体に接合する
工程、一体に接合されたブロックをスライスし、上記非
接合材を含まない所定形状の磁気ヘッドを取り出す工程
を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22379085A JPS6284409A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22379085A JPS6284409A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6284409A true JPS6284409A (ja) | 1987-04-17 |
Family
ID=16803750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22379085A Pending JPS6284409A (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6284409A (ja) |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP22379085A patent/JPS6284409A/ja active Pending
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