JPS6285847A - レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置 - Google Patents
レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置Info
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- JPS6285847A JPS6285847A JP22626985A JP22626985A JPS6285847A JP S6285847 A JPS6285847 A JP S6285847A JP 22626985 A JP22626985 A JP 22626985A JP 22626985 A JP22626985 A JP 22626985A JP S6285847 A JPS6285847 A JP S6285847A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/718—Laser microanalysis, i.e. with formation of sample plasma
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ多段励起直接発光分析方法及び装置に
関する。
関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする問題点従来の発
光分光分析方法は、C,P、S、As。
光分光分析方法は、C,P、S、As。
Sn等の分析をする場合、真空分光器を用いて、波長が
200(nm)以下の真空紫外域の発光スはクトルを光
検出器でとらえていた。真空紫外域の光は空気等のガス
によって吸収される。
200(nm)以下の真空紫外域の発光スはクトルを光
検出器でとらえていた。真空紫外域の光は空気等のガス
によって吸収される。
それかため従来の発光分析装置では、励起発光装置と分
光分析装置とを一体化しなければならなかった。一般に
分光分析装置では、分析の精度を上昇させるために清浄
な室内に設置しなければならない。そのため励起発光装
置と分光分析装置とが一体となっている従来の発光分析
装置を作業現場等に設置してリアルタイムでその場分析
を行なうことはできなかった。
光分析装置とを一体化しなければならなかった。一般に
分光分析装置では、分析の精度を上昇させるために清浄
な室内に設置しなければならない。そのため励起発光装
置と分光分析装置とが一体となっている従来の発光分析
装置を作業現場等に設置してリアルタイムでその場分析
を行なうことはできなかった。
このため、本発明者は広範な研究をおこない、レーザパ
ルスの多段励起によって、被検試料を蒸発・励起すれば
、標的分析元素の発光線ス深りトル光のうち200nm
以上の長波長成分を特に強く発光させることができるこ
とを発見し、本発明に至った。
ルスの多段励起によって、被検試料を蒸発・励起すれば
、標的分析元素の発光線ス深りトル光のうち200nm
以上の長波長成分を特に強く発光させることができるこ
とを発見し、本発明に至った。
本発明の構成
本発明の第1番目の発明は、レーザ発振器からのレーザ
パルスをビームスプリッタ−で第1のレーザパルスおよ
び第2のレーザパルスの2つに分割し、第1のレーザパ
ルスを被検試料上に集光して被検試料を励起し、第2の
レーザパルスを光学的遅延装置で0.1ns〜1μ日遅
らせ、その第2のレーザパルスを第1のレーザパルスト
同一(7)光軸で被検試料の同一位置に集光するか又は
第1のレーザパルスの光軸と平行又はほぼ平行な光軸で
第1のレーザパルスの被検試料上への集光位置の極近傍
の位置に集光し、さらに被検試料を励起し、波長200
nm以上の発光線スペクトル光を反射鏡、レンズおよ
び/−1,たけ光ファイバー等の手段により分光分析器
に導き分光分析することからなるレーザ多段励起直接発
光分析方法に関する。
パルスをビームスプリッタ−で第1のレーザパルスおよ
び第2のレーザパルスの2つに分割し、第1のレーザパ
ルスを被検試料上に集光して被検試料を励起し、第2の
レーザパルスを光学的遅延装置で0.1ns〜1μ日遅
らせ、その第2のレーザパルスを第1のレーザパルスト
同一(7)光軸で被検試料の同一位置に集光するか又は
第1のレーザパルスの光軸と平行又はほぼ平行な光軸で
第1のレーザパルスの被検試料上への集光位置の極近傍
の位置に集光し、さらに被検試料を励起し、波長200
nm以上の発光線スペクトル光を反射鏡、レンズおよ
び/−1,たけ光ファイバー等の手段により分光分析器
に導き分光分析することからなるレーザ多段励起直接発
光分析方法に関する。
本発明の第1番目の発明は、分光分析器、レーザ発振器
、そのレーザ発振器からのレーザパルスを第ル−ザパル
スおよび第2レーサハルスの2つに分割するためのビー
ムスプリッター、第2のレーザパルスを光学的に遅延さ
せるための光学的遅延装置を固定し、2つのレーザビー
ムを1光軸上に重ねるため第1のレーザビーム上に波長
板および第2のレーザビームを曲げるための偏光ビーム
スプリッタ−を設けるか、又は2つのレーザビームを近
接して平行又はほぼ平行になるように第2のレーザ用の
反射鏡を設け、2つのレーザビーム中の集光レンズを固
定し、被検試料からの発光線スペクトルを分光分析器に
伝送するための反射鏡、レンズおよび/または光ファイ
バー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置
に関する。
、そのレーザ発振器からのレーザパルスを第ル−ザパル
スおよび第2レーサハルスの2つに分割するためのビー
ムスプリッター、第2のレーザパルスを光学的に遅延さ
せるための光学的遅延装置を固定し、2つのレーザビー
ムを1光軸上に重ねるため第1のレーザビーム上に波長
板および第2のレーザビームを曲げるための偏光ビーム
スプリッタ−を設けるか、又は2つのレーザビームを近
接して平行又はほぼ平行になるように第2のレーザ用の
反射鏡を設け、2つのレーザビーム中の集光レンズを固
定し、被検試料からの発光線スペクトルを分光分析器に
伝送するための反射鏡、レンズおよび/または光ファイ
バー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置
に関する。
本発明の第3番目の発明は、分光分析器、レーザ発振器
、そのレーザ発振器からのレーザパルスを第ル−ザパル
スおよび第2レーザパルスの2つに分割するためのビー
ムスプリッター、第2のレーザパルスを光学的に遅延さ
せるための光学的遅延装置を固定し、2つのレーザビー
ムを1光軸上に重ねるため第2のレーザビーム上に波長
板および第1のレーザビームを曲げるための偏光ビーム
スプリッタ−を設けるか、又は2つのレーザビームを近
接して平行又はほぼ平行になるように第1のレーザ用の
反射鏡を設け、2つのレーザビーム中の集光レンズを固
定し、被検試料からの発光線ス投りトルを分光分析器に
伝送するための反射鏡、レンズおよび/または光ファイ
バー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置
に関する。
、そのレーザ発振器からのレーザパルスを第ル−ザパル
スおよび第2レーザパルスの2つに分割するためのビー
ムスプリッター、第2のレーザパルスを光学的に遅延さ
せるための光学的遅延装置を固定し、2つのレーザビー
ムを1光軸上に重ねるため第2のレーザビーム上に波長
板および第1のレーザビームを曲げるための偏光ビーム
スプリッタ−を設けるか、又は2つのレーザビームを近
接して平行又はほぼ平行になるように第1のレーザ用の
反射鏡を設け、2つのレーザビーム中の集光レンズを固
定し、被検試料からの発光線ス投りトルを分光分析器に
伝送するための反射鏡、レンズおよび/または光ファイ
バー等の手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置
に関する。
本発明の第3番目の発明は第2番目の発明においてレー
ザ発振器と光学的遅延装置とを位置的に逆にした場合の
態様である。
ザ発振器と光学的遅延装置とを位置的に逆にした場合の
態様である。
本発明の発光装置の原理について説明する。
本発明のレーザ多段励起直接発光分析装置は、被検試料
にレーザ光パルスを二発集光し目的分析元素種類に対応
した200nm以上の長波長の固有線スペクトル光の光
強度を従来より強め、検出感度及び精度を向上させる方
法を用いている。
にレーザ光パルスを二発集光し目的分析元素種類に対応
した200nm以上の長波長の固有線スペクトル光の光
強度を従来より強め、検出感度及び精度を向上させる方
法を用いている。
被検試料を発光させるためて、まずレーザパルスを1発
、被検試料上に集光する。すると、被検試料上にプラズ
マができる。このプラズマは、レーザパルスのエネルギ
ーにより被検試料の含有元素の原子が励起されてできた
ものであり、レーザパルスが被検試料に集光されてから
数nBから数十nθの時間をおいて各々の元素固有の線
スはクトル光を発光する。その発光の時間的変化を第1
図に示す。第1図は、横軸に時間をとシ縦軸て発光強度
をとったものである。この図は、本発明にかかる研究過
程で得られたものであり、鉄(Fθ)の線スにクトル光
の位置である259.3nmの波長で100mJのQス
イッチRUBYレーザ光を焦点距離50朋の溶融石英製
のレンズにより低炭素鋼に集光してできたプラズマを分
光分析したものを模式的にあられしたものである。
、被検試料上に集光する。すると、被検試料上にプラズ
マができる。このプラズマは、レーザパルスのエネルギ
ーにより被検試料の含有元素の原子が励起されてできた
ものであり、レーザパルスが被検試料に集光されてから
数nBから数十nθの時間をおいて各々の元素固有の線
スはクトル光を発光する。その発光の時間的変化を第1
図に示す。第1図は、横軸に時間をとシ縦軸て発光強度
をとったものである。この図は、本発明にかかる研究過
程で得られたものであり、鉄(Fθ)の線スにクトル光
の位置である259.3nmの波長で100mJのQス
イッチRUBYレーザ光を焦点距離50朋の溶融石英製
のレンズにより低炭素鋼に集光してできたプラズマを分
光分析したものを模式的にあられしたものである。
発光の過程は、レーザ光パルスが被検試料にあたってか
ら、30 nsから4μ8程度の時間、連続スペクトル
光を放射する。固有線スはクトル光は、数十n6の時間
をおいてから放射される。固有線スはクトル光の発光時
間は、元素の種類及び元素の含有量および個々の固有線
メイクトル光によって異る。通常のレーザ励起の発光分
析では、測光装置、例えば光電子増倍管によりこの固有
線スペクトル光強度を測光し、元素の濃度を分析する。
ら、30 nsから4μ8程度の時間、連続スペクトル
光を放射する。固有線スはクトル光は、数十n6の時間
をおいてから放射される。固有線スはクトル光の発光時
間は、元素の種類及び元素の含有量および個々の固有線
メイクトル光によって異る。通常のレーザ励起の発光分
析では、測光装置、例えば光電子増倍管によりこの固有
線スペクトル光強度を測光し、元素の濃度を分析する。
この発光過程から本発明者らは、レーザ光が被検試料に
当ってから固有線スペクトル光が出てくるまでの時間に
原子がどのように励起されていくのか、広範な研究をお
こない、各々の元素の固有線スペクトル光のうち長波長
成分の強度を強める方法を発明した。
当ってから固有線スペクトル光が出てくるまでの時間に
原子がどのように励起されていくのか、広範な研究をお
こない、各々の元素の固有線スペクトル光のうち長波長
成分の強度を強める方法を発明した。
固有線スはクトル光の発光現象は、励起された原子のエ
ネルギー状態の変化によっておこり、電子の軌道間の遷
移の確率の高いものが、そのエネルギー準位間の差て和
尚する波長の光を放出する。
ネルギー状態の変化によっておこり、電子の軌道間の遷
移の確率の高いものが、そのエネルギー準位間の差て和
尚する波長の光を放出する。
また、固有線スはクトル光の強度は個々のエネルギー準
位間にある原子の数に比例し、当該準位により多くの原
子を励起できれば、発光強度は強くなる。
位間にある原子の数に比例し、当該準位により多くの原
子を励起できれば、発光強度は強くなる。
本発明は、この理論にのっとりレーザ光パルスを1発被
検試料に集光し、できた試料雲にもう一度レーザ光パル
スを集光し効率の良い励起を行ない長波長にある固有線
スペクトル光に対応する励起状態の原子の存在確率を増
加せしめより発光しやすい条件をつくり、また、より多
くの原子を励起し発光強度を強め、検出感度、精度を向
上させた。
検試料に集光し、できた試料雲にもう一度レーザ光パル
スを集光し効率の良い励起を行ない長波長にある固有線
スペクトル光に対応する励起状態の原子の存在確率を増
加せしめより発光しやすい条件をつくり、また、より多
くの原子を励起し発光強度を強め、検出感度、精度を向
上させた。
本発明のレーザ多段励起直接発光分析装置において、分
光分析器は従来公知のものを使用する。
光分析器は従来公知のものを使用する。
分光分析器は光検出器例えば光電子増倍管および/また
はホトダイオ−ビアレイなどの多チャンネル光検出器を
備えている分光器と例えば光検出器からの電気信号の増
幅器、電気信号処理装置、光検出器からのデータを計算
処理し、濃度値を出力するコンピュータを備えているも
のを含む。しかし分光分析器は200nm以上の波長の
発光スペクトルを分析するものであればどのようなもの
でも使用できる。本発明では200nm以上の長波長の
光を分析するため、分光器は、真空装置を備えていなく
てもよく、光検出器も従来より長波長に感度のあるもの
を使用できる。
はホトダイオ−ビアレイなどの多チャンネル光検出器を
備えている分光器と例えば光検出器からの電気信号の増
幅器、電気信号処理装置、光検出器からのデータを計算
処理し、濃度値を出力するコンピュータを備えているも
のを含む。しかし分光分析器は200nm以上の波長の
発光スペクトルを分析するものであればどのようなもの
でも使用できる。本発明では200nm以上の長波長の
光を分析するため、分光器は、真空装置を備えていなく
てもよく、光検出器も従来より長波長に感度のあるもの
を使用できる。
レーザ発振器は、レーザ光の発振部分であり、レーザに
電力を供給する電源部分は、外部に備えつけ、電気ケー
ブルによってレーザ発振器に供給してもよい。発振周期
は1発/分〜100 Kppsである。レーザ光・ξル
スは、半値半幅で1μθec以下、10 mJ/pul
sθ以上のエネルギーが必要であり、波長はなるべく固
有線スはクトル光の波長から離れているものを使用する
。2台のレーザ装置は、同じ波長のものでなくてもよい
。またレーザ光パルスのエネルギーもおなしでなくても
よい。
電力を供給する電源部分は、外部に備えつけ、電気ケー
ブルによってレーザ発振器に供給してもよい。発振周期
は1発/分〜100 Kppsである。レーザ光・ξル
スは、半値半幅で1μθec以下、10 mJ/pul
sθ以上のエネルギーが必要であり、波長はなるべく固
有線スはクトル光の波長から離れているものを使用する
。2台のレーザ装置は、同じ波長のものでなくてもよい
。またレーザ光パルスのエネルギーもおなしでなくても
よい。
電気的遅延回路は、0.1neから10μ8程度まで、
任意にレーザの発振を遅らせ、励起する効率を目的分析
元素によって変化させ、より効率を向上させる。
任意にレーザの発振を遅らせ、励起する効率を目的分析
元素によって変化させ、より効率を向上させる。
2発のレーザパルスを同一の被検試料の同−箇所又はほ
ぼ同一箇所に集光させるためには、どちらか一方のレー
ザ光光軸にもう一方のレーザ光パルスの光軸を合わせる
方法と2つの光軸を近接平行にし、被検試料に集光する
2方法がある。前者の方法の一例として、直線偏波のレ
ーザ光パルスを1/2波長板に入射さ″せ偏波方向を変
更し、2方向からの直線偏波のレーザ光パルスを同一光
軸上を通過するように、2方向からの光軸の交点に偏光
ビームスプリッタ−をおき、一方のレーザ光パルスを透
過し、もう一方のレーザ光パルスを反射させて光軸を合
わせる方法があり、後者の方法として、2つの光軸のレ
ーザ光パルスをレーザ反射鏡を用いて、殆ど同軸とみな
せるくらい近接、平行させ、被、倹試料上に集光する方
法がある。
ぼ同一箇所に集光させるためには、どちらか一方のレー
ザ光光軸にもう一方のレーザ光パルスの光軸を合わせる
方法と2つの光軸を近接平行にし、被検試料に集光する
2方法がある。前者の方法の一例として、直線偏波のレ
ーザ光パルスを1/2波長板に入射さ″せ偏波方向を変
更し、2方向からの直線偏波のレーザ光パルスを同一光
軸上を通過するように、2方向からの光軸の交点に偏光
ビームスプリッタ−をおき、一方のレーザ光パルスを透
過し、もう一方のレーザ光パルスを反射させて光軸を合
わせる方法があり、後者の方法として、2つの光軸のレ
ーザ光パルスをレーザ反射鏡を用いて、殆ど同軸とみな
せるくらい近接、平行させ、被、倹試料上に集光する方
法がある。
レーザ光パルスの反射鏡、およびレンズは、レーザ光パ
ルスの波長、単一パルスあだシの光エネルギー量を考え
、材質等を決めなくてはならない。
ルスの波長、単一パルスあだシの光エネルギー量を考え
、材質等を決めなくてはならない。
励起されてできたプラズマからの光を分光分析器まで導
くのは、紫外域に高い透過効率を有する光ファイバーを
用いてもよい。
くのは、紫外域に高い透過効率を有する光ファイバーを
用いてもよい。
このレーザ多段励起直接発光分析装置を例えば、鉄鋼精
練現場の工程管理分析に応用する場合、従来、溶融被検
試料をサンプリング・冷却固化し、分析室へ搬送し、ス
パーク放電励起により固有線スペクトル光を分析してい
た方法に代わり、鉄鋼精練現場にレーザ発振器を備え励
起・発光を鉄鋼精練現場でおこない得られるプラズマ光
を光ファイバーにより分析室に伝送し分析室で清浄状態
で保持されている分光分析器によって目的元素の濃度を
算出し現場の精練処理を行なうことができる。
練現場の工程管理分析に応用する場合、従来、溶融被検
試料をサンプリング・冷却固化し、分析室へ搬送し、ス
パーク放電励起により固有線スペクトル光を分析してい
た方法に代わり、鉄鋼精練現場にレーザ発振器を備え励
起・発光を鉄鋼精練現場でおこない得られるプラズマ光
を光ファイバーにより分析室に伝送し分析室で清浄状態
で保持されている分光分析器によって目的元素の濃度を
算出し現場の精練処理を行なうことができる。
連続分析の可能性も非常に高いと考えられる。
また、非接触で分析ができること、および遠距離から分
析をおこなえることが非常に重要なことである。又各現
場に励起発光装置を数台を設置し、その数台の励起発光
装置からの発光スはクトルを清浄な室内に設置し、1台
の分光分析器で分析できる。
析をおこなえることが非常に重要なことである。又各現
場に励起発光装置を数台を設置し、その数台の励起発光
装置からの発光スはクトルを清浄な室内に設置し、1台
の分光分析器で分析できる。
本発明ではさらに1台又は数台のレーザ発振器を設置し
て、第2のレーザパルスで集光後、0.1ns〜10μ
B 後にさらに1又は2以上のレーザパルスを被検試料
の同一位置に集光させてもよい。
て、第2のレーザパルスで集光後、0.1ns〜10μ
B 後にさらに1又は2以上のレーザパルスを被検試料
の同一位置に集光させてもよい。
本発明の装置を図面により説明する。
第1図は、レーザ多段励起直接発光分析装置のフローシ
ートである。
ートである。
1は、レーザ発振器、2は分光器、3は光検出器、4は
増幅器、5は電気信号処理装置、6は電子制御器、7は
レーザのコントローラ、9はプリズム、10は1/2波
長板、11は偏光ビームスプリッター、12は集光レン
ズ、13は被検試料、14は光ファイバー、15は光フ
アイバー集光レンズ、16ハレーザ電源、18は光学的
遅延装置、21はビームスプリッタ−でちる。
増幅器、5は電気信号処理装置、6は電子制御器、7は
レーザのコントローラ、9はプリズム、10は1/2波
長板、11は偏光ビームスプリッター、12は集光レン
ズ、13は被検試料、14は光ファイバー、15は光フ
アイバー集光レンズ、16ハレーザ電源、18は光学的
遅延装置、21はビームスプリッタ−でちる。
このうち、2の分光器、3の光検出器、4の増幅器、5
の電気信号処理装置、6の電子制御器が分光分析器30
を構成している。分光分析器としてこのような5つの部
分から構成されることは必要の要件ではなく、他の分光
分析器も使用できる。
の電気信号処理装置、6の電子制御器が分光分析器30
を構成している。分光分析器としてこのような5つの部
分から構成されることは必要の要件ではなく、他の分光
分析器も使用できる。
第2図においてレーザ発振器の位置に光学的遅延装置を
設け、光学的遅延装置の位置にレーザ発振器を設け、光
学的遅延装置からの第2のレーザパルスを′/2波長板
10全通し、レーザ発振器からの第1のレーザパルスを
偏光ビームスプリッター、1によシ屈曲させてもよい。
設け、光学的遅延装置の位置にレーザ発振器を設け、光
学的遅延装置からの第2のレーザパルスを′/2波長板
10全通し、レーザ発振器からの第1のレーザパルスを
偏光ビームスプリッター、1によシ屈曲させてもよい。
横型のレーザ発振器を図示したが縦型レーザ発振器を使
用できる。このような装置で発光分析を行なう場合、2
つのレーザパルスの焦点位置に被検試料13を置き、2
つのレーザ発振器からのレーザパルスを時間的間隔を置
いて被検試料13上に集光させ、その試料を励起させ、
その発光スはクトルを光ファイバー14で分光分析器に
導き、分析を行なう。
用できる。このような装置で発光分析を行なう場合、2
つのレーザパルスの焦点位置に被検試料13を置き、2
つのレーザ発振器からのレーザパルスを時間的間隔を置
いて被検試料13上に集光させ、その試料を励起させ、
その発光スはクトルを光ファイバー14で分光分析器に
導き、分析を行なう。
第3図は、レーザ多段励起直接発光分析装置の別の態様
例である。17はレーザ光反射鏡である。
例である。17はレーザ光反射鏡である。
この第3図に示す態様では2つのレーザ光の光軸を近接
して平行又はほぼ平行になるように第2のレーザ用のレ
ーザ光反射光を設けた例である。
して平行又はほぼ平行になるように第2のレーザ用のレ
ーザ光反射光を設けた例である。
第4図は、レーザ多段励起直接発光分析装置の別の態様
例である。19は現場、20は光学台、31は分析室で
ある。第4図において点線から左側の部分は現場に設置
し、点線から右側の部分は清浄な室に設置できる。
例である。19は現場、20は光学台、31は分析室で
ある。第4図において点線から左側の部分は現場に設置
し、点線から右側の部分は清浄な室に設置できる。
第2図において6のコンピューターからレーザ発振器の
コントローラーに発射の信号が伝送される。すると、l
のレーザ発振器からレーザ光パルスが発射される。この
レーザ光パルスは、21のビームスプリッタ−により、
2つのレーザ光パルスに分割され、さらにプリズム9に
より被検試料13方向に反射され、2つのレーザ光パル
スのうち一方のレーザ光パルスは、18の光学的遅延装
置に入射し、光路の長さを任意に変えることで所定の時
間遅延された後出射される。
コントローラーに発射の信号が伝送される。すると、l
のレーザ発振器からレーザ光パルスが発射される。この
レーザ光パルスは、21のビームスプリッタ−により、
2つのレーザ光パルスに分割され、さらにプリズム9に
より被検試料13方向に反射され、2つのレーザ光パル
スのうち一方のレーザ光パルスは、18の光学的遅延装
置に入射し、光路の長さを任意に変えることで所定の時
間遅延された後出射される。
他方のレーザ光パルスは、10の1/2波長板を通や偏
波方向を変更し、11の偏光ビームスプリッタ−を通過
し12の集光レンズによって13の被検試料に集光され
る。このレーザ光パルスによって13の被検試料は励起
されプラズマ状態となる。その瞬間、あるいは、蒸気状
態の瞬間、18の光学的遅延装置から、出射されたレー
ザ光・Qルスは、11の偏光ビームスプリッタ−により
被検試料方向に反射され蒸気状あるいはプラズマ状の被
検試料に集光され、より高密度なプラズマを被検試料上
に発生させる。プラズマから放射される光は、15の光
フアイバー集光レンズによって効率より14の光ファイ
バーに取り込まれ、2の分光器まで伝送される。
波方向を変更し、11の偏光ビームスプリッタ−を通過
し12の集光レンズによって13の被検試料に集光され
る。このレーザ光パルスによって13の被検試料は励起
されプラズマ状態となる。その瞬間、あるいは、蒸気状
態の瞬間、18の光学的遅延装置から、出射されたレー
ザ光・Qルスは、11の偏光ビームスプリッタ−により
被検試料方向に反射され蒸気状あるいはプラズマ状の被
検試料に集光され、より高密度なプラズマを被検試料上
に発生させる。プラズマから放射される光は、15の光
フアイバー集光レンズによって効率より14の光ファイ
バーに取り込まれ、2の分光器まで伝送される。
その後、2の分光器により波長別に分光され長波長の固
有線スペクトル光の位置に精密におかれた3の光検出器
により固有線スはクトル光が検出され、光電変換され4
の増幅器を経由し、5の電気信号処理装置によってサン
プルホールド9、アナログ−デジタル変換などをおこな
い、6のコンピュータとのデータ転送のための制御をお
こない、6のコンピュータに取り込まれる。6のコンピ
ュータでは、とりこまれたデータの演算処理が行なわれ
、濃度計算値が出力される。
有線スペクトル光の位置に精密におかれた3の光検出器
により固有線スはクトル光が検出され、光電変換され4
の増幅器を経由し、5の電気信号処理装置によってサン
プルホールド9、アナログ−デジタル変換などをおこな
い、6のコンピュータとのデータ転送のための制御をお
こない、6のコンピュータに取り込まれる。6のコンピ
ュータでは、とりこまれたデータの演算処理が行なわれ
、濃度計算値が出力される。
第3図の態様例では2発のレーザ光パルスを13の被検
試料上の同一箇所に集光させるために1のレーザ発振器
から発射されたレーザ光ノξルスは21のビームスプリ
ッタ−により2つに分配され、一方のレーザ光パルスを
18の光学的遅延装置に入射させ、18の光学的遅延装
置を出射したのち17のレーザ光反射鏡えよって13の
被検試料方向に反射し、他方のレーザ光パルスの光軸に
近接平行させて13の被検試料に集光させる構造である
。
試料上の同一箇所に集光させるために1のレーザ発振器
から発射されたレーザ光ノξルスは21のビームスプリ
ッタ−により2つに分配され、一方のレーザ光パルスを
18の光学的遅延装置に入射させ、18の光学的遅延装
置を出射したのち17のレーザ光反射鏡えよって13の
被検試料方向に反射し、他方のレーザ光パルスの光軸に
近接平行させて13の被検試料に集光させる構造である
。
第4図は、現場の工程管理分析にレーザ多段励起発光分
析装置を使用するときの態様例である。
析装置を使用するときの態様例である。
1のレーザ発振器、18の光学的遅延装置、9のプリズ
ム、10の1/2波長板、11の偏光ビームスプリッタ
−および12の集光レンズを、現場の環境に対応した構
造の20の光学台に固定し、従来の分析室には、7のレ
ーザのコントローラー、16のレーザ電源、2,3,4
.6.8からなる分光分析器を備え、13の被検試料お
よび20の光学台は、現場に備えつけておく。固有線ス
ペクトル光の2の分光器までの伝送は14の光ファイバ
ーによっておこない、分析時間の短縮を行なうものであ
る。
ム、10の1/2波長板、11の偏光ビームスプリッタ
−および12の集光レンズを、現場の環境に対応した構
造の20の光学台に固定し、従来の分析室には、7のレ
ーザのコントローラー、16のレーザ電源、2,3,4
.6.8からなる分光分析器を備え、13の被検試料お
よび20の光学台は、現場に備えつけておく。固有線ス
ペクトル光の2の分光器までの伝送は14の光ファイバ
ーによっておこない、分析時間の短縮を行なうものであ
る。
第5図は、光学的遅延装置の態様例である。
レーザ光パルスは、22の入射口から光学的遅延装置内
に入り、23および24のプリズムによって、25の誘
電体多層膜鏡にレーザ光パルスを精度よく尚て、26の
誘電体多層膜鏡と所定の回数反射を繰り返し、27およ
び28のプリズムによって29の出射口から外部に出射
する構造である。
に入り、23および24のプリズムによって、25の誘
電体多層膜鏡にレーザ光パルスを精度よく尚て、26の
誘電体多層膜鏡と所定の回数反射を繰り返し、27およ
び28のプリズムによって29の出射口から外部に出射
する構造である。
本発明における被検試料は固体、液体まだは気体の状態
であっても良い。又被検試料が溶融金属である場合第5
〜6図に示すような消耗型サンプリングプローブを用い
る。そのサンプリングプローブは、下端閉鎖型の筒状を
なしており、それの下端又は下端近くの壁面に溶融金属
取入口を設け、そのプローブが測定すべき溶融金属のス
ラグ層を通過する間、その溶融スラグが、その取入口か
らプローブの中に入らないような構成を有している。
であっても良い。又被検試料が溶融金属である場合第5
〜6図に示すような消耗型サンプリングプローブを用い
る。そのサンプリングプローブは、下端閉鎖型の筒状を
なしており、それの下端又は下端近くの壁面に溶融金属
取入口を設け、そのプローブが測定すべき溶融金属のス
ラグ層を通過する間、その溶融スラグが、その取入口か
らプローブの中に入らないような構成を有している。
第6図は消耗型サンプリングプローブの一態様例を示す
。
。
113は紙管、125は溶融金属取出口、131はその
取出口に取付けた溶融金属の温度で溶融又は燃焼する金
属板、130は鉄、セラミック又はシェルモールド製の
鋳型、128は溶融金属温度、測定センサー、溶融金属
中の含有酸素量測定センサー又は測温と酸素量測定を兼
ねるセンサー、129はリーヒ線、126はメス型のコ
ネクター、114はレベルセンサーである。
取出口に取付けた溶融金属の温度で溶融又は燃焼する金
属板、130は鉄、セラミック又はシェルモールド製の
鋳型、128は溶融金属温度、測定センサー、溶融金属
中の含有酸素量測定センサー又は測温と酸素量測定を兼
ねるセンサー、129はリーヒ線、126はメス型のコ
ネクター、114はレベルセンサーである。
第7図に、消耗型サンプリングプローブの構造の別の態
様例を示す。
様例を示す。
第7図は、外側に材質を紙製まだは鉄製の円筒管113
を配置し、その内部に砂あるいは鉄の型130を固定し
、型の表面の下部に、金属のコーティングをほどこし、
鋳型下部側面に、溶融金属取入口125を有し、スラク
遮蔽板131を取入口に取り付け、型上部に、メス型コ
ネクタを有し、その下部、壁面にガス排出口135を有
し、下端部は、耐火セメント136によって閉鎖してい
る。
を配置し、その内部に砂あるいは鉄の型130を固定し
、型の表面の下部に、金属のコーティングをほどこし、
鋳型下部側面に、溶融金属取入口125を有し、スラク
遮蔽板131を取入口に取り付け、型上部に、メス型コ
ネクタを有し、その下部、壁面にガス排出口135を有
し、下端部は、耐火セメント136によって閉鎖してい
る。
第1表にレーザ多段励起直接発光分析装置及び方法によ
る実験結果を記載する。この表は、固有線スペクトル元
(以下、Sとする)の時間積分強度を分子に、連続光成
分(以下、Bとする)の時間積分強度を分母にとり、レ
ーザ光パルス単発の場合とレーザ光パルスが二元の場合
について値S/Bにより波長300nmvTの線スペク
トルの検出感度の違いを比較したものである。値S/B
は、大きいほど検出感度が高いことになり、検出感度を
比較するときの目安となる。
る実験結果を記載する。この表は、固有線スペクトル元
(以下、Sとする)の時間積分強度を分子に、連続光成
分(以下、Bとする)の時間積分強度を分母にとり、レ
ーザ光パルス単発の場合とレーザ光パルスが二元の場合
について値S/Bにより波長300nmvTの線スペク
トルの検出感度の違いを比較したものである。値S/B
は、大きいほど検出感度が高いことになり、検出感度を
比較するときの目安となる。
第5図から、レーザ光パルス単発の時のS/Bとレーザ
光ノξルスが二元の時のS/Bを比較するとレーザ光パ
ルスが二元の時の方が3倍から10倍はどS/Bが大き
い。これは、すなわち、従来のレーザ光パルス単発の方
法よりレーザ光パルス二元の方法が分析感度の改善に効
果があることを表すものである。
光ノξルスが二元の時のS/Bを比較するとレーザ光パ
ルスが二元の時の方が3倍から10倍はどS/Bが大き
い。これは、すなわち、従来のレーザ光パルス単発の方
法よりレーザ光パルス二元の方法が分析感度の改善に効
果があることを表すものである。
このように、レーザ多段励起直接発光分析装置及び方法
を利用すれば、発光量の少なかった長波長の固有線スに
クトル光を強めて分析に供することができる。
を利用すれば、発光量の少なかった長波長の固有線スに
クトル光を強めて分析に供することができる。
第5図の実験結果は、波長1.06μm、パルス幅12
ns、パルスエネルギー850 m、Tの直線偏波のN
a:YAGレーザ発振器を第1段目のレーザ発振器とし
、波長1.06μIII、ハルス幅15ns、パルスエ
ネルギー500 mJの直線偏波のNd:YAGレーザ
発振器を第2段目のレーザ発振器とし、低炭素鋼、溶融
はんだ、ニッケル系ステンレス鋼を被検試料とし、第1
段目のレーザ光・ξルスを被検試料上に集光してから4
0n8 後に第2段目のレーザ光・ξルスを被検試料上
に集光し、集光してできたプラズマからの光を紫外光用
光ファイバーで、Czerny−Turner型の1m
常圧分光器に伝送、分光した後、光検出器である光電子
増倍管にて光電変換し、増幅し電気的処理装置にて積分
操作などをしたのち、コンeユータにより演算し出力し
たものである。
ns、パルスエネルギー850 m、Tの直線偏波のN
a:YAGレーザ発振器を第1段目のレーザ発振器とし
、波長1.06μIII、ハルス幅15ns、パルスエ
ネルギー500 mJの直線偏波のNd:YAGレーザ
発振器を第2段目のレーザ発振器とし、低炭素鋼、溶融
はんだ、ニッケル系ステンレス鋼を被検試料とし、第1
段目のレーザ光・ξルスを被検試料上に集光してから4
0n8 後に第2段目のレーザ光・ξルスを被検試料上
に集光し、集光してできたプラズマからの光を紫外光用
光ファイバーで、Czerny−Turner型の1m
常圧分光器に伝送、分光した後、光検出器である光電子
増倍管にて光電変換し、増幅し電気的処理装置にて積分
操作などをしたのち、コンeユータにより演算し出力し
たものである。
固有線スはクトル光の値Sは、固有線スペクトル光のあ
る波長の光の強度から、固有線スペクトル光のない波長
の光の強度を差し引いたものであり、連続光の値Bは、
固有線スペクトル光のない波長におけるの光の強度とし
て求めたものである。
る波長の光の強度から、固有線スペクトル光のない波長
の光の強度を差し引いたものであり、連続光の値Bは、
固有線スペクトル光のない波長におけるの光の強度とし
て求めたものである。
但、分光器の出射スリット幅を一定と考えている。
以上のことから、本発明のレーザ多段励起直接発光分析
装置により300 nm以上の長波長の固有線スペクト
ル元を強く発光させ、長波長の固有線スペクトル光によ
る分光分析を可能にした。これにより、分光分析器の光
学系装置の簡略化および、メンテナンスの簡略化をはか
り、分析時間をほとんど極限まで短くすることができた
。
装置により300 nm以上の長波長の固有線スペクト
ル元を強く発光させ、長波長の固有線スペクトル光によ
る分光分析を可能にした。これにより、分光分析器の光
学系装置の簡略化および、メンテナンスの簡略化をはか
り、分析時間をほとんど極限まで短くすることができた
。
第 1 表
第1図はレーザパルスが被検試料に集光された際のその
発光量の時間的変化を示すグラフである。 第2図乃至第4図は本発明の好ましい装置のフローシー
トである。 第5図は本発明の光学的遅延装置の概略図である。 第6図と第7図はサンプリングプローブの概略図である
。 特許出願人 大阪酸素工業株式会社 (外5名) 時間 [μS] 第2図 第3図 第4図 第5図 手続補正書 昭和60年11月−L2日 昭和60年特許願第 226269号 6、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 名称 大阪酸素工業株式会社 4、代理人 5、補正の対象 (別紙) (1)特許請求の範囲を次のように訂正する。 「(1) レーザ発振器からのレーザパルスをビームス
プリッタ−で第1のレーザパルスおよび第2のレーザパ
ルスの2つに分割し、第1のレーザパルスを被検試料上
に集光して被検試料を励起し、第2のレーザパルスを光
学的遅延装置で0 、1 ns〜1μs遅らせ、そのf
IS2のレーザパルスをPISlのレーザパルスと同一
の光軸で被検試料の同一位置に集光するか又は第1のレ
ーザパルスの光軸と平行又はほぼ平行な光軸で第1のレ
ーザパルスの被検試料上への集光位置の極近傍の位置に
集光し、さらに被検試料を励起し、波長200nm以上
の発光線スペクトル光を反射鏡、レンズおよび/または
光ファイバー等の手段により分光分析器に導き分光分析
することからなるレーザ多段励起直接発光分析方法。 (2) 分光分析器、レーザ発振器、そのレーザ発振器
からのレーザパルスを第2レーザパルスおよび第2レー
ザパルスの2つに分割するためのビームスプリンター、
第2のレーザパルスを光学的に遅延させるための光学的
遅延装置を固定し、2つのレーザビームを1光軸上に重
ねるため第1のレーザビーム上に波長板および第2のレ
ーザビームを曲げるための偏光ビームスプリッタ−を設
けるか、又は2つのレーザビームを近接して平行又はほ
ぼ平行になるように第2のレーザ用の反射鏡を設け、2
つのレーザビームも駆集光レンズを固定し、被検試料か
らの発光線スペクトルを分光分析器に伝送するための反
射鏡、レンズおよび/または光ファイバー等の手段を設
けたレーザ多段励起直接発光分析装置。 (3)分光分析器、レーザ発振器、そのレーザ発振器か
らのレーザパルスを第2レーザパルスおよび第2レーザ
パルスの2つに分割するためのビームスプリッター、m
2のレーザパルスを光学的に遅延させるための光学的遅
延装置を固定し、2つのレーザビームを1光軸上に重ね
るため第2のレーザビーム上の波長板およびfpJlの
レーザビームか、又は2つのレーザビームを近接して平
行又はほぼ平行になるように第1のレーザ用の反射鏡を
設け、2つのレーザビーム態位集光レンズを固定し、被
検試料からの発光線スペクトルを分光分析器に伝送する
ための反射鏡、レンズおよび/または光7アイバー等の
手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置、」 (2) 明細書を次のように訂正する。 頁 行 訂正前 訂正後6 2 中
の集光 中に集光 6 17 レーザ用 レーザパルス用8
3 259.3 259.9411 3
電気的遅延回路 電気的遅延装置11 3 10
μs1μs 13 3 設置し、 設置した1:11
7 ioμs1μ5 1310 第1図 第2図1310
レーザ レーザパルス15 10
コントローラー コントローラー717139のプ
19のビームスプリッター、9のプ 17 18 6.8 5.618125
〜6図 6〜7図19 1 取出口
取入口 19 2 〃 19 6 センサー センサーであってもか
まわない 1913 表面の下部 表面 1914 イング イング127191
5 取入口 取入口1251916
コネクタ コネクタ1262010 第
5図 @1表21 1 〃tt 22 下4 溶融はんだ中の ステンレスill中
Ni のNi 22 下2 ステンレス鋼中 溶融はんだ中ののS
n 5n (3)図面PIS4図、第6図および第7図を添付のよ
うに訂正する。 以 上 第4図 第6図
発光量の時間的変化を示すグラフである。 第2図乃至第4図は本発明の好ましい装置のフローシー
トである。 第5図は本発明の光学的遅延装置の概略図である。 第6図と第7図はサンプリングプローブの概略図である
。 特許出願人 大阪酸素工業株式会社 (外5名) 時間 [μS] 第2図 第3図 第4図 第5図 手続補正書 昭和60年11月−L2日 昭和60年特許願第 226269号 6、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 名称 大阪酸素工業株式会社 4、代理人 5、補正の対象 (別紙) (1)特許請求の範囲を次のように訂正する。 「(1) レーザ発振器からのレーザパルスをビームス
プリッタ−で第1のレーザパルスおよび第2のレーザパ
ルスの2つに分割し、第1のレーザパルスを被検試料上
に集光して被検試料を励起し、第2のレーザパルスを光
学的遅延装置で0 、1 ns〜1μs遅らせ、そのf
IS2のレーザパルスをPISlのレーザパルスと同一
の光軸で被検試料の同一位置に集光するか又は第1のレ
ーザパルスの光軸と平行又はほぼ平行な光軸で第1のレ
ーザパルスの被検試料上への集光位置の極近傍の位置に
集光し、さらに被検試料を励起し、波長200nm以上
の発光線スペクトル光を反射鏡、レンズおよび/または
光ファイバー等の手段により分光分析器に導き分光分析
することからなるレーザ多段励起直接発光分析方法。 (2) 分光分析器、レーザ発振器、そのレーザ発振器
からのレーザパルスを第2レーザパルスおよび第2レー
ザパルスの2つに分割するためのビームスプリンター、
第2のレーザパルスを光学的に遅延させるための光学的
遅延装置を固定し、2つのレーザビームを1光軸上に重
ねるため第1のレーザビーム上に波長板および第2のレ
ーザビームを曲げるための偏光ビームスプリッタ−を設
けるか、又は2つのレーザビームを近接して平行又はほ
ぼ平行になるように第2のレーザ用の反射鏡を設け、2
つのレーザビームも駆集光レンズを固定し、被検試料か
らの発光線スペクトルを分光分析器に伝送するための反
射鏡、レンズおよび/または光ファイバー等の手段を設
けたレーザ多段励起直接発光分析装置。 (3)分光分析器、レーザ発振器、そのレーザ発振器か
らのレーザパルスを第2レーザパルスおよび第2レーザ
パルスの2つに分割するためのビームスプリッター、m
2のレーザパルスを光学的に遅延させるための光学的遅
延装置を固定し、2つのレーザビームを1光軸上に重ね
るため第2のレーザビーム上の波長板およびfpJlの
レーザビームか、又は2つのレーザビームを近接して平
行又はほぼ平行になるように第1のレーザ用の反射鏡を
設け、2つのレーザビーム態位集光レンズを固定し、被
検試料からの発光線スペクトルを分光分析器に伝送する
ための反射鏡、レンズおよび/または光7アイバー等の
手段を設けたレーザ多段励起直接発光分析装置、」 (2) 明細書を次のように訂正する。 頁 行 訂正前 訂正後6 2 中
の集光 中に集光 6 17 レーザ用 レーザパルス用8
3 259.3 259.9411 3
電気的遅延回路 電気的遅延装置11 3 10
μs1μs 13 3 設置し、 設置した1:11
7 ioμs1μ5 1310 第1図 第2図1310
レーザ レーザパルス15 10
コントローラー コントローラー717139のプ
19のビームスプリッター、9のプ 17 18 6.8 5.618125
〜6図 6〜7図19 1 取出口
取入口 19 2 〃 19 6 センサー センサーであってもか
まわない 1913 表面の下部 表面 1914 イング イング127191
5 取入口 取入口1251916
コネクタ コネクタ1262010 第
5図 @1表21 1 〃tt 22 下4 溶融はんだ中の ステンレスill中
Ni のNi 22 下2 ステンレス鋼中 溶融はんだ中ののS
n 5n (3)図面PIS4図、第6図および第7図を添付のよ
うに訂正する。 以 上 第4図 第6図
Claims (3)
- (1)レーザ発振器からのレーザパルスをビームスプリ
ッターで第1のレーザパルスおよび第2のレーザパルス
の2つに分割し、第1のレーザパルスを被検試料上に集
光して被検試料を励起し、第2のレーザパルスを光学的
遅延装置で0.1ns〜1μs遅らせ、その第2のレー
ザパルスを第1のレーザパルスと同一の光軸で被検試料
の同一位置に集光するか又は第1のレーザパルスの光軸
と平行又はほぼ平行な光軸で第1のレーザパルスの被検
試料上への集光位置の極近傍の位置に集光し、さらに被
検試料を励起し、波長200nm以上の発光線スペクト
ル光を反射鏡、レンズおよび/または光ファイバー等の
手段により分光分析器に導き分光分析することからなる
レーザ多段励起直接発光分析方法。 - (2)分光分析器、レーザ発振器、そのレーザ発振器か
らのレーザパルスを第1レーザパルスおよび第2レーザ
パルスの2つに分割するためのビームスプリッター、第
2のレーザパルスを光学的に遅延させるための光学的遅
延装置を固定し、2つのレーザビームを1光軸上に重ね
るため第1のレーザビーム上に波長板および第2のレー
ザビームを曲げるための偏光ビームスプリッターを設け
るか、又は2つのレーザビームを近接して平行又はほぼ
平行になるように第2のレーザ用の反射鏡を設け、2つ
のレーザビーム中の集光レンズを固定し、被検試料から
の発光線スペクトルを分光分析器に伝送するための反射
鏡、レンズおよび/または光ファイバー等の手段を設け
たレーザ多段励起直接発光分析装置。 - (3)分光分析器、レーザ発振器、そのレーザ発振器か
らのレーザパルスを第1レーザパルスおよび第2レーザ
パルスの2つに分割するためのビームスプリッター、第
2のレーザパルスを光学的に遅延させるための光学的遅
延装置を固定し、2つのレーザビームを1光軸上に重ね
るため第2のレーザビーム上に波長板および第1のレー
ザビームを曲げるための偏光ビームスプリッターを設け
るか、又は2つのレーザビームを近接して平行又はほぼ
平行になるように第1のレーザ用の反射鏡を設け、2つ
のレーザビーム中の集光レンズを固定し、被検試料から
の発光線スペクトルを分光分析器に伝送するための反射
鏡、レンズおよび/または光ファイバー等の手段を設け
たレーザ多段励起直接発光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22626985A JPS6285847A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22626985A JPS6285847A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6285847A true JPS6285847A (ja) | 1987-04-20 |
Family
ID=16842554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22626985A Pending JPS6285847A (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | レ−ザ多段励起直接発光分析方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6285847A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6008897A (en) * | 1999-01-19 | 1999-12-28 | National Research Council Of Canada | Method and apparatus for materials analysis by enhanced laser induced plasma spectroscopy |
| US6661511B2 (en) | 2001-01-16 | 2003-12-09 | National Research Council Of Canada | Method and apparatus for enhanced laser-induced plasma spectroscopy using mixed-wavelength laser pulses |
| CN105259161A (zh) * | 2015-11-06 | 2016-01-20 | 西北师范大学 | 一种智能控制的激光等离子体测量装置及测量方法 |
| CN105973871A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-09-28 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种光谱检测元素分布的微区扫描装置及其微区扫描方法 |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP22626985A patent/JPS6285847A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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