JPS6286822A - 半導体素子の製造装置 - Google Patents
半導体素子の製造装置Info
- Publication number
- JPS6286822A JPS6286822A JP60228099A JP22809985A JPS6286822A JP S6286822 A JPS6286822 A JP S6286822A JP 60228099 A JP60228099 A JP 60228099A JP 22809985 A JP22809985 A JP 22809985A JP S6286822 A JPS6286822 A JP S6286822A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- wafer
- coating liquid
- coating
- propeller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は塗布装置に関する。
従来、この種の塗布装置は円筒状のカップ内に、チャッ
クに吸着したウェハーを回転させて該ウェハーに塗布を
行っているが、カップ部に空気を送り込みカップ内で整
流効果を持たせる機構は使用されていなかった。
クに吸着したウェハーを回転させて該ウェハーに塗布を
行っているが、カップ部に空気を送り込みカップ内で整
流効果を持たせる機構は使用されていなかった。
上述した従来の塗布装置には、カップ内に空気を送り込
み、カップ内での整流効果を持たせる機構がなかったの
で、カップ内の排気圧のみにより、ウェハー上のパーテ
ィクル数が左右され、塗布により飛散させられた塗布液
の大きい粒径のものが再びウェハー上に舞い落ちてしま
うという欠点がある。
み、カップ内での整流効果を持たせる機構がなかったの
で、カップ内の排気圧のみにより、ウェハー上のパーテ
ィクル数が左右され、塗布により飛散させられた塗布液
の大きい粒径のものが再びウェハー上に舞い落ちてしま
うという欠点がある。
本発明は前記問題点を解消し、飛散塗布液が再びウェハ
ー上に付着するのを防止する塗布装置を提供するもので
ある。
ー上に付着するのを防止する塗布装置を提供するもので
ある。
本発明は上面周囲に排気孔を設けた円筒状の塗布用カッ
プと、カップ内でウェハーを支持するチャックと、チャ
ックを回転させる回転軸とを有する塗布装置において、
前記回転軸に、空気を前記カップ内に送り込むプロペラ
を設けたことを特徴とする半導体素子の塗布装置である
。
プと、カップ内でウェハーを支持するチャックと、チャ
ックを回転させる回転軸とを有する塗布装置において、
前記回転軸に、空気を前記カップ内に送り込むプロペラ
を設けたことを特徴とする半導体素子の塗布装置である
。
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。第1図は本発明の一実施例の塗布装置カップ部の縦
断・面図である。
る。第1図は本発明の一実施例の塗布装置カップ部の縦
断・面図である。
ウェハーを支持するチャック1は回転軸2に取り付けら
れて二重構造のカップ8内に設けられ、該回転軸2に送
気用のプロペラ3が取り付けられ、プロペラ3はカップ
8の底部側に設けられている。
れて二重構造のカップ8内に設けられ、該回転軸2に送
気用のプロペラ3が取り付けられ、プロペラ3はカップ
8の底部側に設けられている。
回転塗布によりウェハー8から飛散させられた塗布液の
一部はカップ8内の内壁にぶつかり、塗布液排出口6か
ら排出される。他の塗布液はカップ内の排気孔5へ吸い
込まれ、カップ8内の排気排出口6から排出される。ド
ーナツツ形カップフタ7はカップ内へのウェハー出し入
れと、ダウンスローによる無塵の空気の取り込みのため
、中央に穴があけられている・ 次に、本装置の動作について説明する。まず、ローダ−
によりドーナツツ形カップフタ7の上方にウェハー9が
ロードされる。チャックlの回転軸2が第1図上方向に
伸び、チャック1が真空チャックによりロードされたウ
エノ′S−9をチャックする。チャック後、回転軸2は
下方に戻り、それと同時に塗布液のノズルがドーナツツ
形カップフタ上部よりカップ内つエノ・−上に降りて来
る。この間、排気孔5による排気は、排気ダクトへつな
がっているカップ内排気排出口4により終始性われてい
る。塗布液ノズルからウエノ・−上に塗布液が滴下され
た直後、回転軸2が回転を始めウエノ・−9への回転塗
布が行われる。このとき第2図で示すように、回転軸2
に取っ付けられたプロペラ3も回転し、第2図に矢印で
示すように空気の流れがカップ8内に生ずる。プロペラ
30回転により空気はウェハー裏面の中央部からウエノ
1−の端へと流れ、その後ウエノ・−上方へ進み、排気
孔5から排気されてゆく。この流れにより回転塗布で飛
散された塗布液の、カップ内壁によるはねかえり及びウ
エノ・−上方からの舞い降りを排気孔5へ向かって押し
上げることができ、ウエノ・−上のコ゛ミや突起の発生
を低減させる。塗布終了後、ウェハー8は回転軸2がカ
ップ上方へ伸びカップの外へ出され、アンローダ−によ
りアンロードされる。
一部はカップ8内の内壁にぶつかり、塗布液排出口6か
ら排出される。他の塗布液はカップ内の排気孔5へ吸い
込まれ、カップ8内の排気排出口6から排出される。ド
ーナツツ形カップフタ7はカップ内へのウェハー出し入
れと、ダウンスローによる無塵の空気の取り込みのため
、中央に穴があけられている・ 次に、本装置の動作について説明する。まず、ローダ−
によりドーナツツ形カップフタ7の上方にウェハー9が
ロードされる。チャックlの回転軸2が第1図上方向に
伸び、チャック1が真空チャックによりロードされたウ
エノ′S−9をチャックする。チャック後、回転軸2は
下方に戻り、それと同時に塗布液のノズルがドーナツツ
形カップフタ上部よりカップ内つエノ・−上に降りて来
る。この間、排気孔5による排気は、排気ダクトへつな
がっているカップ内排気排出口4により終始性われてい
る。塗布液ノズルからウエノ・−上に塗布液が滴下され
た直後、回転軸2が回転を始めウエノ・−9への回転塗
布が行われる。このとき第2図で示すように、回転軸2
に取っ付けられたプロペラ3も回転し、第2図に矢印で
示すように空気の流れがカップ8内に生ずる。プロペラ
30回転により空気はウェハー裏面の中央部からウエノ
1−の端へと流れ、その後ウエノ・−上方へ進み、排気
孔5から排気されてゆく。この流れにより回転塗布で飛
散された塗布液の、カップ内壁によるはねかえり及びウ
エノ・−上方からの舞い降りを排気孔5へ向かって押し
上げることができ、ウエノ・−上のコ゛ミや突起の発生
を低減させる。塗布終了後、ウェハー8は回転軸2がカ
ップ上方へ伸びカップの外へ出され、アンローダ−によ
りアンロードされる。
以上説明したように本発明は回転塗布時の回転を利用し
、回転軸にプロペラを取り付はプロペラを回転させるこ
とにより、カップ内の空気を整流させ、ウェハー上にゴ
ミや突起物の付着を最大限押える効果がある。
、回転軸にプロペラを取り付はプロペラを回転させるこ
とにより、カップ内の空気を整流させ、ウェハー上にゴ
ミや突起物の付着を最大限押える効果がある。
第1図は本発明における塗布装置のカップ部を示す縦断
面図、第2図は動作を説明する縦断面図である。 1・・・チャック 2・・・回転軸3・・・プ
ロペラ 4・・・カップ内排気排出口5・
・・カップ内排気孔 6・・・塗布液排出ロア・・・
ドーナツツ形カップフタ 8・・・カップ9・・・ウェ
ハー 特許出願人 日本電気株式会社 第1図
面図、第2図は動作を説明する縦断面図である。 1・・・チャック 2・・・回転軸3・・・プ
ロペラ 4・・・カップ内排気排出口5・
・・カップ内排気孔 6・・・塗布液排出ロア・・・
ドーナツツ形カップフタ 8・・・カップ9・・・ウェ
ハー 特許出願人 日本電気株式会社 第1図
Claims (1)
- (1)上面周囲に排気孔を設けた円筒状の塗布用カップ
と、カップ内でウェハーを支持するチャックと、チャッ
クを回転させる回転軸とを有する塗布装置において、前
記回転軸に、空気を前記カップ内に送り込むプロペラを
設けたことを特徴とする半導体素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228099A JPS6286822A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 半導体素子の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228099A JPS6286822A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 半導体素子の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6286822A true JPS6286822A (ja) | 1987-04-21 |
Family
ID=16871175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60228099A Pending JPS6286822A (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 半導体素子の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6286822A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4903717A (en) * | 1987-11-09 | 1990-02-27 | Sez Semiconductor-Equipment Zubehoer Fuer die Halbleiterfertigung Gesellschaft m.b.H | Support for slice-shaped articles and device for etching silicon wafers with such a support |
| JP2011222685A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置およびこれを備える塗布現像システム |
-
1985
- 1985-10-14 JP JP60228099A patent/JPS6286822A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4903717A (en) * | 1987-11-09 | 1990-02-27 | Sez Semiconductor-Equipment Zubehoer Fuer die Halbleiterfertigung Gesellschaft m.b.H | Support for slice-shaped articles and device for etching silicon wafers with such a support |
| JP2011222685A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置およびこれを備える塗布現像システム |
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