JPS6287542A - イソジグリセリルエ−テルの製造法 - Google Patents
イソジグリセリルエ−テルの製造法Info
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- JPS6287542A JPS6287542A JP60226534A JP22653485A JPS6287542A JP S6287542 A JPS6287542 A JP S6287542A JP 60226534 A JP60226534 A JP 60226534A JP 22653485 A JP22653485 A JP 22653485A JP S6287542 A JPS6287542 A JP S6287542A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔陀朶上の利用分野〕
本発明はインジグリセリルエーテルの型ユ青、去ンこ関
する。
する。
グリセリンのモノアルキルエーテル（以下グリセリルエ
ーテルと称する）は〜Ｖ１０埠１４１Ｌ化特性の他に骨
髄における血球生成促進効果、抗炎症作Ｍｌ、抗腫瘍作
用等の４埋作用をも有する何州な化合物であり（特公昭
４９−１０７２４号、特公昭５２−１８１７１号）、特
にＷ／Ｃ型乳型性化特性用して化粧品基材等への幅広い
応用がなされている（特開昭４９−８７６１２号、特開
昭４９−９２２３９号、特開昭５２−１２１０９号、特
公昭５７−３６２６０号など）。
ーテルと称する）は〜Ｖ１０埠１４１Ｌ化特性の他に骨
髄における血球生成促進効果、抗炎症作Ｍｌ、抗腫瘍作
用等の４埋作用をも有する何州な化合物であり（特公昭
４９−１０７２４号、特公昭５２−１８１７１号）、特
にＷ／Ｃ型乳型性化特性用して化粧品基材等への幅広い
応用がなされている（特開昭４９−８７６１２号、特開
昭４９−９２２３９号、特開昭５２−１２１０９号、特
公昭５７−３６２６０号など）。
そしてクリセリルエーテルがこのような舷多くの特性を
有するユニークな界面活性剤であることに着目して、グ
リセリルエーテルと類似の分子構造を有するイｆ々の化
合物、すなわちエーテル結合と印、水性のＯＨ基を分子
内に包含してなるポリオールエーテル化合物を多価アル
コールより誘導する試みがなされている（米国ｔｆｆＰ
ｉ＋第２．２５８．８９２号、特公昭５２−１８１７０
号、特開昭５３−１３７９０５号、特開昭５４−１４５
２２４号な他の有用な性質を有し、化粧品基材（西ドイ
ツ公開時ｄｆ第２．４５５．２８７号）、防菌時カビ剤
等として利用されている。
有するユニークな界面活性剤であることに着目して、グ
リセリルエーテルと類似の分子構造を有するイｆ々の化
合物、すなわちエーテル結合と印、水性のＯＨ基を分子
内に包含してなるポリオールエーテル化合物を多価アル
コールより誘導する試みがなされている（米国ｔｆｆＰ
ｉ＋第２．２５８．８９２号、特公昭５２−１８１７０
号、特開昭５３−１３７９０５号、特開昭５４−１４５
２２４号な他の有用な性質を有し、化粧品基材（西ドイ
ツ公開時ｄｆ第２．４５５．２８７号）、防菌時カビ剤
等として利用されている。
本発明者らは、ポリオールエーテル化合物の斯かる有用
性に清目し、先に次の一般式（■）、Ｒ’ ０ＣＲ２ 書 Ｒ’０ＣＨｚ ＣＨＯＨ ＣＨ！ＯＨ １式中、Ｒ４は炭素数８−２４の１脂肪族炭化水素基を
、Ｒ５は水素原子又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示
す） で表わされるインジグリセリルエーテルを＋ｊ’Ａ 発
し、これをアルコールより容易に製造できるアルキルグ
リシジルエーテル（Ｖ）を原料として用い、次の反応式
に従って製造する方法を提供した（１′子開昭５９−９
３０２２号、同５９−１７５４４５号）。
性に清目し、先に次の一般式（■）、Ｒ’ ０ＣＲ２ 書 Ｒ’０ＣＨｚ ＣＨＯＨ ＣＨ！ＯＨ １式中、Ｒ４は炭素数８−２４の１脂肪族炭化水素基を
、Ｒ５は水素原子又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示
す） で表わされるインジグリセリルエーテルを＋ｊ’Ａ 発
し、これをアルコールより容易に製造できるアルキルグ
リシジルエーテル（Ｖ）を原料として用い、次の反応式
に従って製造する方法を提供した（１′子開昭５９−９
３０２２号、同５９−１７５４４５号）。
尚、反応式中、Ｒ６は炭素数１−′５の炭化水素基を、
Ｒ７は水素原子又は炭化水素基を、Ｒ８は炭化水素基を
、Ｘは・・ロゲン原子を示し、Ｒ４及びＲ５は前記と同
じ意味を有する７、 以下余白 〔発明が解決しようとする問題〕 しかしながら、これらの製造法は工業的に実施する上で
以下に示すような種々の問題点を有している。
Ｒ７は水素原子又は炭化水素基を、Ｒ８は炭化水素基を
、Ｘは・・ロゲン原子を示し、Ｒ４及びＲ５は前記と同
じ意味を有する７、 以下余白 〔発明が解決しようとする問題〕 しかしながら、これらの製造法は工業的に実施する上で
以下に示すような種々の問題点を有している。
■ 化合物（■）から化合物Ｃ■）又は化合物（ＸＩ）
から化合物（店）を得る反応においては、反応生成物が
７８色しやすいため、厳密な中和操作、高真空度での蒸
留等の繁雑なＭ製操作を必要とする。
から化合物（店）を得る反応においては、反応生成物が
７８色しやすいため、厳密な中和操作、高真空度での蒸
留等の繁雑なＭ製操作を必要とする。
■ 化合物（■）から化合物（ｆＶ）又は化合物（Ｘｌ
［）から化合＊（■）を得る反応においては、含水溶媒
中での反応であるため多波のエーテルでの抽出操作、反
応生成物が着色するためカラムクロマトグラフィーによ
る精、４１操作を必要とする。
［）から化合＊（■）を得る反応においては、含水溶媒
中での反応であるため多波のエーテルでの抽出操作、反
応生成物が着色するためカラムクロマトグラフィーによ
る精、４１操作を必要とする。
■ 化合物（■）から化合物（■）を得る反応において
は、厳密な温度コントロールを必要とするうえ収率が低
く、多量のエーテルでの抽出操作を必要とし、史に反応
生成物が着色しゃすい。
は、厳密な温度コントロールを必要とするうえ収率が低
く、多量のエーテルでの抽出操作を必要とし、史に反応
生成物が着色しゃすい。
■ 化合物（ＩＸ）から化合物（ＩＶ）を得る反応にお
いては、含水溶媒中での反応であるため多量のエーテル
での抽出操作を必要とする。
いては、含水溶媒中での反応であるため多量のエーテル
での抽出操作を必要とする。
■ 化合物（ＸＩＩＪ）から化合物（ＩＶ）を得る反応
においては、高価なパラジウム−炭素を大針に必要とす
る上、反応の進行が遅いために反応生成物が着色する。
においては、高価なパラジウム−炭素を大針に必要とす
る上、反応の進行が遅いために反応生成物が着色する。
本発明者らは、従来法のもつ種々の欠点を克服し、高収
率、高純度かつ簡便にインジグリセリルエーテルを製造
する方法について鋭意研究を進めたところ、グリシジル
エーテル訪導体を原料として用い、塩基存在下にベンジ
ルアルコールを反応させることＫよってエポキサイドの
開環反応において副反応が生起せず、かつ脱ベンジル化
も水素化分解反応を用いることによって高収率で進行す
ることを見い出し、本発明を完成した。
率、高純度かつ簡便にインジグリセリルエーテルを製造
する方法について鋭意研究を進めたところ、グリシジル
エーテル訪導体を原料として用い、塩基存在下にベンジ
ルアルコールを反応させることＫよってエポキサイドの
開環反応において副反応が生起せず、かつ脱ベンジル化
も水素化分解反応を用いることによって高収率で進行す
ることを見い出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、一般式（ＩＩ）
１０ＣＨ２
（式中、Ｒ１は炭素数１〜２６の直鎖若しくは分岐アル
キル基又はアリール基を Ｒ３は炭素数１〜８の直鎖若
しくは分岐アルキル基、アリール４号又はベンジルｈ（
を示す。） で表わされるグリシジルエーテルｆｒ１４ 尋体に、塩
基の存在下ベンジルアルコールを反応させ、次いで得ら
れる成楓体を金属触媒存在下に水素化分解反応に付すこ
とを特徴とする、一般式（１）％式％ （式中、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜８の頁釦若しくけ
分岐のアルキル基又はアリール橋を Ｒ１は前記と同じ
。） で表わされるインジグリセリルエーテルの製造法を提供
するものである。
キル基又はアリール基を Ｒ３は炭素数１〜８の直鎖若
しくは分岐アルキル基、アリール４号又はベンジルｈ（
を示す。） で表わされるグリシジルエーテルｆｒ１４ 尋体に、塩
基の存在下ベンジルアルコールを反応させ、次いで得ら
れる成楓体を金属触媒存在下に水素化分解反応に付すこ
とを特徴とする、一般式（１）％式％ （式中、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜８の頁釦若しくけ
分岐のアルキル基又はアリール橋を Ｒ１は前記と同じ
。） で表わされるインジグリセリルエーテルの製造法を提供
するものである。
本発明方法を反応式で示せば次の通りである。
（［［Ｉ） （１）（式中、Ｒ１
、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ）本発明の化合物（１）、
（！Ｉ）及び（ＩＩＩ）において、Ｉζ１の炭素数１〜
２６の直鎖若しくは分岐アルキル基としては、メチル、
エチル、ロープロピル％ｎ−フチル、ローペンチル、ｎ
−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル
、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−ト
リデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ロー
ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル％ｎ−オククデシル、
ｎ−／ｆテシル、ｎ−エイコシル、ローヘンエイコシル
、ｎ−トコシル、ｎ−トリコシル、ｎ−テトラデシル、
ｎ−ベンタコシル％ｎ−ヘキサコシルなどの直＠１級飽
和アルキル基；２−エテルヘキシル、２−ブチルデシル
、２−エチルドデシル、２−ブチルドデシル、２−エチ
ルテトラデシル、２−へキシルデシル、２−ブチルテト
ラデシル、２−エチルヘキサデシル、２−へキシルドデ
シル、２−ブチルヘキサデシル、２−エチルオクタデシ
ル、２−へキシルテトラデシル、２−オクチルドデシル
、２−ブチルオクタデシル、２−エチルエイコシル、２
−へキシルヘキサデシル、２−オクチルテトラデシル、
２−ブチルエイコシル、２−エチルドコシル、２−へキ
シルオクタデシル、２−オクチルヘキサデシル、２−ブ
チルトコシル、２−エチルエイコシル、２−へキシルエ
イコシル、２−オクチルオクタデシル、２−へブチルウ
ンデシル、２−（１，３，３−）リメチルブチル）オク
チル、２−デシルテトラデシル、２−ドデシルヘキサデ
シル、２−テトラデシルオクタデシル、５．７．７−ド
リメチルー２−（１，３，３−トリメチルブチル）オク
チル、及び次の式％式％） Ｃ式中、ｍは４〜１０の整数を、ｎは５〜１１の整数を
示し、ｒｎ ＋ ｎは１１〜１７を示し、かつ１ｎ＝７
、ｎ ＝ ３を頂点とする分布を有する）で示されるメ
チル分岐インステアリル等の分岐鎖１級飽和アルキル基
；２−プロピル、 ５ｅｃ−ブチル、５ｅｅ−ペンチ
ル、５ｅｃ−ヘキシル、５ｅＣ−ヘプチル、５ｅｃ−オ
クチル、 ５ｅｃ−ノニル、５ｅｃ−デシル、５ｅｃ−
ウンデシル、 ５ｅＣ−ドデシル等の２級飽和アルキ
ル基が挙げられる。アリール基としては、フェニル、２
−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフ
ェニル、ｚ、３−ジメチルフェニル、ｚ、４−ジメチル
フェニル、２，５−シメチル７工二ル、２．６−’）メ
チルフェニル、３．４−ジメチルフェニル、３．５−ジ
メチルフェニル等が挙けられる。
、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ）本発明の化合物（１）、
（！Ｉ）及び（ＩＩＩ）において、Ｉζ１の炭素数１〜
２６の直鎖若しくは分岐アルキル基としては、メチル、
エチル、ロープロピル％ｎ−フチル、ローペンチル、ｎ
−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル
、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−ト
リデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ロー
ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル％ｎ−オククデシル、
ｎ−／ｆテシル、ｎ−エイコシル、ローヘンエイコシル
、ｎ−トコシル、ｎ−トリコシル、ｎ−テトラデシル、
ｎ−ベンタコシル％ｎ−ヘキサコシルなどの直＠１級飽
和アルキル基；２−エテルヘキシル、２−ブチルデシル
、２−エチルドデシル、２−ブチルドデシル、２−エチ
ルテトラデシル、２−へキシルデシル、２−ブチルテト
ラデシル、２−エチルヘキサデシル、２−へキシルドデ
シル、２−ブチルヘキサデシル、２−エチルオクタデシ
ル、２−へキシルテトラデシル、２−オクチルドデシル
、２−ブチルオクタデシル、２−エチルエイコシル、２
−へキシルヘキサデシル、２−オクチルテトラデシル、
２−ブチルエイコシル、２−エチルドコシル、２−へキ
シルオクタデシル、２−オクチルヘキサデシル、２−ブ
チルトコシル、２−エチルエイコシル、２−へキシルエ
イコシル、２−オクチルオクタデシル、２−へブチルウ
ンデシル、２−（１，３，３−）リメチルブチル）オク
チル、２−デシルテトラデシル、２−ドデシルヘキサデ
シル、２−テトラデシルオクタデシル、５．７．７−ド
リメチルー２−（１，３，３−トリメチルブチル）オク
チル、及び次の式％式％） Ｃ式中、ｍは４〜１０の整数を、ｎは５〜１１の整数を
示し、ｒｎ ＋ ｎは１１〜１７を示し、かつ１ｎ＝７
、ｎ ＝ ３を頂点とする分布を有する）で示されるメ
チル分岐インステアリル等の分岐鎖１級飽和アルキル基
；２−プロピル、 ５ｅｃ−ブチル、５ｅｅ−ペンチ
ル、５ｅｃ−ヘキシル、５ｅＣ−ヘプチル、５ｅｃ−オ
クチル、 ５ｅｃ−ノニル、５ｅｃ−デシル、５ｅｃ−
ウンデシル、 ５ｅＣ−ドデシル等の２級飽和アルキ
ル基が挙げられる。アリール基としては、フェニル、２
−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフ
ェニル、ｚ、３−ジメチルフェニル、ｚ、４−ジメチル
フェニル、２，５−シメチル７工二ル、２．６−’）メ
チルフェニル、３．４−ジメチルフェニル、３．５−ジ
メチルフェニル等が挙けられる。
Ｒ３の炭素数１〜８の直翔若しくは分岐アルキル基とし
ては、メチル、エチル、ロープロピル、ｎ−エチル、ロ
ーペンチル、ローヘキシル、ｎ−へブチル、ｎ−オクチ
ル等の直鎖１級協和アルキル基；２−エチルヘキシルな
どの分岐鎖１級アルキル基；２−プロピル、５ｅｃ−ブ
チル、５ｅｃ−ペンチル、５ｅｃ−ヘキシル、５ｅＣ−
ヘプチル、ｓｅｃ −オクチル等の２級飽和アルキル基
が子けられる。
ては、メチル、エチル、ロープロピル、ｎ−エチル、ロ
ーペンチル、ローヘキシル、ｎ−へブチル、ｎ−オクチ
ル等の直鎖１級協和アルキル基；２−エチルヘキシルな
どの分岐鎖１級アルキル基；２−プロピル、５ｅｃ−ブ
チル、５ｅｃ−ペンチル、５ｅｃ−ヘキシル、５ｅＣ−
ヘプチル、ｓｅｃ −オクチル等の２級飽和アルキル基
が子けられる。
アリール基としては、前記限の場合と同様のものが挙げ
られる。
られる。
グリンジルエーテル誘導体（Ｉｌ）にベンジルアルコー
ルを反応させてベンジルエーテル誘導体（ＩＩＩ）を得
る反応は、末端オレフィン由来のエポキサイドへのアル
コール付加反応である。酸触媒を使用した場合、エポキ
サイドがプロトン化され、それによって生じたカルボニ
ウムイオンにアルコールが攻撃するため副反応を起し易
い。しかし本発明の如く塩基存在下で行った場合、反応
がＳＮ２で進行するため、生成した２級アルコールの立
体障害が大きく副反応を起さないので、その収率は填め
て高い。
ルを反応させてベンジルエーテル誘導体（ＩＩＩ）を得
る反応は、末端オレフィン由来のエポキサイドへのアル
コール付加反応である。酸触媒を使用した場合、エポキ
サイドがプロトン化され、それによって生じたカルボニ
ウムイオンにアルコールが攻撃するため副反応を起し易
い。しかし本発明の如く塩基存在下で行った場合、反応
がＳＮ２で進行するため、生成した２級アルコールの立
体障害が大きく副反応を起さないので、その収率は填め
て高い。
この反応で用いられる塩基としては、アルカリ金属（Ｌ
ｔ％Ｎａ、になど）、アルカリ金、ｔ４水素化物（Ｌｉ
Ｈ％ＮａＨ，ＫＨなど）、アルカリ金部水酸化物（Ｌｉ
ＯＨ，ＮａＯＨ，ＫＯＨなど）、アルカリ金属アルコラ
−） （ＮａＯＭｅ ％Ｎａ０Ｅｔ 、 ＫＯｔＢｕな
ど）あるいは３級アミン類（トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、テトラメチルエチレン゛ジアミン、テトラ
メチル−１，３−ジアミノプロパン、テトラメチル−１
，６−ジアミツヘキサン、トリエチレンジアミン、ピリ
ジン、ジメチルアニリン、キノリンなど）等が挙げられ
る。
ｔ％Ｎａ、になど）、アルカリ金、ｔ４水素化物（Ｌｉ
Ｈ％ＮａＨ，ＫＨなど）、アルカリ金部水酸化物（Ｌｉ
ＯＨ，ＮａＯＨ，ＫＯＨなど）、アルカリ金属アルコラ
−） （ＮａＯＭｅ ％Ｎａ０Ｅｔ 、 ＫＯｔＢｕな
ど）あるいは３級アミン類（トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、テトラメチルエチレン゛ジアミン、テトラ
メチル−１，３−ジアミノプロパン、テトラメチル−１
，６−ジアミツヘキサン、トリエチレンジアミン、ピリ
ジン、ジメチルアニリン、キノリンなど）等が挙げられ
る。
上記反応は、一般にグリシジルエーテルｆｒＡ導体（Ｉ
Ｉ）ｔモルに対し、ベンジルアルコールを１〜２０モル
、好ましくは２〜１０モル使用し、塩基を０．００１〜
０．５モル、好ましくは０．０１〜０．２５モル添加し
、２０〜１５０℃、好ましくは４０〜１００℃の温度条
件下に反応させることによって進行する。このようにし
て得られたペンジルエ−チル誘導体（ＩＩＩ）は、余剰
のベンジルアルコール留去後、蒸留などの手段で簡単に
精製でさ、その収率は常ｖｃ ｓ ｓチ以上、はとんど
の場合定届：的である。
Ｉ）ｔモルに対し、ベンジルアルコールを１〜２０モル
、好ましくは２〜１０モル使用し、塩基を０．００１〜
０．５モル、好ましくは０．０１〜０．２５モル添加し
、２０〜１５０℃、好ましくは４０〜１００℃の温度条
件下に反応させることによって進行する。このようにし
て得られたペンジルエ−チル誘導体（ＩＩＩ）は、余剰
のベンジルアルコール留去後、蒸留などの手段で簡単に
精製でさ、その収率は常ｖｃ ｓ ｓチ以上、はとんど
の場合定届：的である。
ベンジルエーテル続導体（ｉｌｌ） ｋ水素化分解して
ジグリセリルエーテル４４体（１）を得る反応は、ベン
ジルエーテル誘導体（Ｉｌｌ）を無市媒若しくは浴液中
で（ＩＩＩ）ＩＣ対し０．０００１〜１０’ｔｉｔ％、
好ましくは０．００１〜５重ｔ％の金属触媒を加え、水
素圧１〜１５０気圧、好ブしくは５０〜１２０気圧、反
応温度２０〜２００℃、好−ましくは８０〜１２０℃で
２〜２４時間、好ましくは５〜１５時間反応させること
によって行なわれる。この反応で目的物（１）は定着的
に得られるが、ベンジルエーテル誘導体（Ｉｌｌ）に゛
；ｔｔ、ｏ、ｏｘ〜１車ｔｋチ、好ましくは０．１〜０
．′、−市量チの鉱酸を添加することで一層反応が容易
になる。
ジグリセリルエーテル４４体（１）を得る反応は、ベン
ジルエーテル誘導体（Ｉｌｌ）を無市媒若しくは浴液中
で（ＩＩＩ）ＩＣ対し０．０００１〜１０’ｔｉｔ％、
好ましくは０．００１〜５重ｔ％の金属触媒を加え、水
素圧１〜１５０気圧、好ブしくは５０〜１２０気圧、反
応温度２０〜２００℃、好−ましくは８０〜１２０℃で
２〜２４時間、好ましくは５〜１５時間反応させること
によって行なわれる。この反応で目的物（１）は定着的
に得られるが、ベンジルエーテル誘導体（Ｉｌｌ）に゛
；ｔｔ、ｏ、ｏｘ〜１車ｔｋチ、好ましくは０．１〜０
．′、−市量チの鉱酸を添加することで一層反応が容易
になる。
この反応で用いられる溶媒としては、ベンジルエーテル
訪り体（ｉｌｌ）を溶解するすべての溶剤が挙げられる
が、好ましくはメタノール、エタノール、インプロパツ
ールなどのアルコール系溶剤である。
訪り体（ｉｌｌ）を溶解するすべての溶剤が挙げられる
が、好ましくはメタノール、エタノール、インプロパツ
ールなどのアルコール系溶剤である。
金属触媒とし゛〔は、パラジウム−炭素、パラジウム黒
、ラネイニッケル、ロジウム−炭素、ルテニウム−炭素
、レニウム−炭素などが使用できるが、５チパラジウム
炭素、１０％パラジウム炭素、パラジウム黒が好ましい
。添加する鉱・夜としては塩酸、硫酸、過塩木酸などが
挙げられるが、就中塩酸が好ましい。
、ラネイニッケル、ロジウム−炭素、ルテニウム−炭素
、レニウム−炭素などが使用できるが、５チパラジウム
炭素、１０％パラジウム炭素、パラジウム黒が好ましい
。添加する鉱・夜としては塩酸、硫酸、過塩木酸などが
挙げられるが、就中塩酸が好ましい。
以上の反応の結果得られた生成物は、はとんどの場合、
金喘触媒を濾別後浴媒留去するだけで目的とするインジ
グリセリルエーテル（１）全純品の状態で得ることがで
きる。また酸を添加した場合はスチーミング、活性炭処
理等の簡単な精製で純品の口）を得ることができる。濾
別した金属触媒は再使用可能である。
金喘触媒を濾別後浴媒留去するだけで目的とするインジ
グリセリルエーテル（１）全純品の状態で得ることがで
きる。また酸を添加した場合はスチーミング、活性炭処
理等の簡単な精製で純品の口）を得ることができる。濾
別した金属触媒は再使用可能である。
本反応は、従来の脱ベンジル化反応が１）高価な金属触
媒を多量に使用しなければならないため製品価格の上昇
が避けられないこと、２）一般に水素圧１気圧で反応を
行なっているため反応の進行が遅い場合があること、３
）副生成物の少ない反応でらるにもかかわらず脱ベンジ
ル体の単離精製が必・妥となる等の欠点を有しているの
に対し、１）金属触媒を極めて歩積しか用いないこと２
反応時間２〜２４時間で確実に反応が完結すること３）
文字通り定量的反応で脱ベンジル体の単離精製は多くの
場合不安であり、もし必要な場合でもスチーミング、活
性炭処理などの簡便な手段で充分なこと、などの諸点に
おいて纜れ、工栗的製造が可能である等の利点をもつも
のでおる。
媒を多量に使用しなければならないため製品価格の上昇
が避けられないこと、２）一般に水素圧１気圧で反応を
行なっているため反応の進行が遅い場合があること、３
）副生成物の少ない反応でらるにもかかわらず脱ベンジ
ル体の単離精製が必・妥となる等の欠点を有しているの
に対し、１）金属触媒を極めて歩積しか用いないこと２
反応時間２〜２４時間で確実に反応が完結すること３）
文字通り定量的反応で脱ベンジル体の単離精製は多くの
場合不安であり、もし必要な場合でもスチーミング、活
性炭処理などの簡便な手段で充分なこと、などの諸点に
おいて纜れ、工栗的製造が可能である等の利点をもつも
のでおる。
叙上の如く、本発明は、インジグリセリルエーテル（＋
）を高収率、高純度かつ簡便に得ることができる極めて
優れた方法である。
）を高収率、高純度かつ簡便に得ることができる極めて
優れた方法である。
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例１
（１）１−０−テトラデシル−３−〇−メチルー２−
Ｏ−２’ 、 ３’−エポキシプロピルグリセリン（ｆ
ｆ）（Ｒ’ ＝ Ｃ，４Ｈ２，、Ｒ３＝ ＣＨ，）の合
成：還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び攪拌装置を備え
た２１４ツロフラスコに１−ｏ−テトラデシル−３−〇
−メチルグリセリン３０２．５９（０，９５６モル）、
ｊｌ −ヘキサ／２０３Ｆ、５０％硫酸水素テトラブチ
ルアンモニウム水溶ｆｅ１．３２．５Ｆ（０，０４７８
モル）、エビクロロヒドリン１７６．９Ｆ（１，９１２
６モル）をこの順に加える。フラスコ内を４０℃に加熱
せしめ、攪拌速度４００ ｒｐｍでて）きまぜる。ここ
に４８チ水酸化ナトリウム水溶液２４３．８ ？ （２
，８６９モル）を反応温度を５５℃以下に保ちつつ０．
５時間かけて滴下し、滴下終了後５０〜５５℃で５時間
攪拌する。放冷後、水層を除去し、ｎ−ヘキサン層は水
洗したのち５０％硫酸水素テトラブチルアンモニウム水
Ｍ１６．５ Ｆ （９，５６ミリモル）、エビクロロヒ
ドリン３５．４ Ｆ （０，３８３モル）を加え前と同
様に４０℃で加熱攪拌し、ここに４８チ水酸化ナトリウ
ム水溶液２４３．８ｆ（２，８６９モル）を反応温度を
５５℃以下に保ちつつ２０分かけて滴下する。滴下終了
後５０〜５５℃で４．５時間攪拌し、常法通り後処埋後
減圧蒸留して、１−０−テトラデシル−３−〇−メチル
ー２−０−２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリセリ
ン２９０．８ Ｆ （収率８４．８％）を得た。
Ｏ−２’ 、 ３’−エポキシプロピルグリセリン（ｆ
ｆ）（Ｒ’ ＝ Ｃ，４Ｈ２，、Ｒ３＝ ＣＨ，）の合
成：還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び攪拌装置を備え
た２１４ツロフラスコに１−ｏ−テトラデシル−３−〇
−メチルグリセリン３０２．５９（０，９５６モル）、
ｊｌ −ヘキサ／２０３Ｆ、５０％硫酸水素テトラブチ
ルアンモニウム水溶ｆｅ１．３２．５Ｆ（０，０４７８
モル）、エビクロロヒドリン１７６．９Ｆ（１，９１２
６モル）をこの順に加える。フラスコ内を４０℃に加熱
せしめ、攪拌速度４００ ｒｐｍでて）きまぜる。ここ
に４８チ水酸化ナトリウム水溶液２４３．８ ？ （２
，８６９モル）を反応温度を５５℃以下に保ちつつ０．
５時間かけて滴下し、滴下終了後５０〜５５℃で５時間
攪拌する。放冷後、水層を除去し、ｎ−ヘキサン層は水
洗したのち５０％硫酸水素テトラブチルアンモニウム水
Ｍ１６．５ Ｆ （９，５６ミリモル）、エビクロロヒ
ドリン３５．４ Ｆ （０，３８３モル）を加え前と同
様に４０℃で加熱攪拌し、ここに４８チ水酸化ナトリウ
ム水溶液２４３．８ｆ（２，８６９モル）を反応温度を
５５℃以下に保ちつつ２０分かけて滴下する。滴下終了
後５０〜５５℃で４．５時間攪拌し、常法通り後処埋後
減圧蒸留して、１−０−テトラデシル−３−〇−メチル
ー２−０−２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリセリ
ン２９０．８ Ｆ （収率８４．８％）を得た。
沸点：１７５〜ｂ
ＩＲ（液膜、 ｔｙｐｔ−” ） ： ３０５０ｓｈ
、２９２５．２８５５゜１４６０．１１１Ｏ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｔ３．ａ） ： ０８７１３Ｈ、ｔ
、Ｊ＝＝５．６Ｈｚ ） 。
、２９２５．２８５５゜１４６０．１１１Ｏ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｔ３．ａ） ： ０８７１３Ｈ、ｔ
、Ｊ＝＝５．６Ｈｚ ） 。
１．２８（２４Ｈ，ｂｒｓ ）、２．４〜２．８（２Ｈ
，ｍ） 、３．：３３（３Ｈ。
，ｍ） 、３．：３３（３Ｈ。
Ｓ ） 、 ３．０〜４．０ （１０Ｈ、ｍ ）（１）
１−０−テトラデシル−３−〇−メチルー２−０−３’
−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン
（ＩＩＩ） （Ｒ” ＝＝ Ｃｌ４Ｈ２９、Ｒ” ＝
ＣＨ３）の合成： 蒸留ヘッド、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２１４ツロフラスコにベンジルアルコール８７５
．９ ？ （８，１０モル）、２８％ＮａＯＭｅメタノ
ール溶液１５．６３Ｆ（０，０８１モル）を加えＮ２吹
き込み下１５０〜１８０℃で５時間加熱し、留出するメ
タノールを除去する。
１−０−テトラデシル−３−〇−メチルー２−０−３’
−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン
（ＩＩＩ） （Ｒ” ＝＝ Ｃｌ４Ｈ２９、Ｒ” ＝
ＣＨ３）の合成： 蒸留ヘッド、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２１４ツロフラスコにベンジルアルコール８７５
．９ ？ （８，１０モル）、２８％ＮａＯＭｅメタノ
ール溶液１５．６３Ｆ（０，０８１モル）を加えＮ２吹
き込み下１５０〜１８０℃で５時間加熱し、留出するメ
タノールを除去する。
蒸留ヘッド金還流冷却器と交押し、６０℃まで冷却する
。ここに参考例１中で得た１−０−テトラデシル−３−
〇−メチルー２−０−２’ 、 ３’−エポキシプロビ
ルグリセリン２９０．５ ｒ（０，８１モル）を１時間
かけて滴下する。滴下終了後６０℃で７時間攪拌し、ガ
スクロマトグラフィーで原料消失を確認する。放冷後６
規定塩唆で中和し、水流ポンプを用いて、減圧下にベン
ジルアルコールを留去する。残７査を減圧蒸留すると無
色液体の１−０−テトラデシル−３−〇−メチルー２−
０−３’−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグ
リセリン３４３．７ ｙ（収率９０．９％）を得た。
。ここに参考例１中で得た１−０−テトラデシル−３−
〇−メチルー２−０−２’ 、 ３’−エポキシプロビ
ルグリセリン２９０．５ ｒ（０，８１モル）を１時間
かけて滴下する。滴下終了後６０℃で７時間攪拌し、ガ
スクロマトグラフィーで原料消失を確認する。放冷後６
規定塩唆で中和し、水流ポンプを用いて、減圧下にベン
ジルアルコールを留去する。残７査を減圧蒸留すると無
色液体の１−０−テトラデシル−３−〇−メチルー２−
０−３’−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグ
リセリン３４３．７ ｙ（収率９０．９％）を得た。
沸点：２３０〜ｂ
ＩＲ（液膜＋ 儒） ： ３４３０ｂｒ １２Ｑ２］２
８５ｏ。
８５ｏ。
１４５０ 、１１００ 、７３０ 、６９５ 、６８５
ＮＭＩζ（ＣＤＣｌ３ 、δ） ： ０．８７（３Ｈ
，ｔ、Ｊ＝５．８Ｈ２）１１．２８（２４Ｈ，ｂｒｓ
）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．４〜４．２（１３Ｈ＊
ｒｎ ） ｖ ４−５２ （２Ｈ＊ Ｓ） ＊ ７．
２９（５Ｈ，５）（ＩｉＤｌ−０−テトラデシル−３−
〇−メチルー２−０−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプ
ロピルグリセリン（１） （Ｒ’： Ｃ１４Ｈ２１、Ｒ
”＝ ＣＨ３） ノ合ｅ、 ：１ｔのオートクレーブに
実施例１ （ＩＩ１で得られた１−０−テトラデシル−
３−０−メチル−２−〇 −３’−ベンジロキシ−２′
−ヒドロキシプロピルグリセリン１００． Ｏ？ （０
，２１４モル）、メタノール２００ｙ、５％パラジウム
−炭素５．０？、濃塩酸０．５１を仕込み、水素圧１０
０気圧をかけて封じたのち１００℃で１０時間加熱攪拌
する。放冷後５チパラジウムー炭素を濾別し、溶媒を留
去する。残は全２５係スチーミング後メタノール８０ｍ
／、活性炭８２を加え室温下１時間猾拌する１、活性炭
を４＄別し、メタノールを留去すると無色透明油状物の
１−ｏ−テトラデシル−３−０−メチル−２−０−２’
、 ３’−ジヒドロキシプロビルグリセリン７６．７
ｒ（収率９５．０％）を得た。
ＮＭＩζ（ＣＤＣｌ３ 、δ） ： ０．８７（３Ｈ
，ｔ、Ｊ＝５．８Ｈ２）１１．２８（２４Ｈ，ｂｒｓ
）、３．３３（３Ｈ，ｓ）、３．４〜４．２（１３Ｈ＊
ｒｎ ） ｖ ４−５２ （２Ｈ＊ Ｓ） ＊ ７．
２９（５Ｈ，５）（ＩｉＤｌ−０−テトラデシル−３−
〇−メチルー２−０−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプ
ロピルグリセリン（１） （Ｒ’： Ｃ１４Ｈ２１、Ｒ
”＝ ＣＨ３） ノ合ｅ、 ：１ｔのオートクレーブに
実施例１ （ＩＩ１で得られた１−０−テトラデシル−
３−０−メチル−２−〇 −３’−ベンジロキシ−２′
−ヒドロキシプロピルグリセリン１００． Ｏ？ （０
，２１４モル）、メタノール２００ｙ、５％パラジウム
−炭素５．０？、濃塩酸０．５１を仕込み、水素圧１０
０気圧をかけて封じたのち１００℃で１０時間加熱攪拌
する。放冷後５チパラジウムー炭素を濾別し、溶媒を留
去する。残は全２５係スチーミング後メタノール８０ｍ
／、活性炭８２を加え室温下１時間猾拌する１、活性炭
を４＄別し、メタノールを留去すると無色透明油状物の
１−ｏ−テトラデシル−３−０−メチル−２−０−２’
、 ３’−ジヒドロキシプロビルグリセリン７６．７
ｒ（収率９５．０％）を得た。
元素分析Ｃｈｉ Ｈ４４ｏｓとして（計算値）Ｃ：６７
．０５（６６，９８）、Ｈ：１１．６２（１１，７８） ＩＲ（液膜、 ｃｍ ） ＊ ３４１０ｂｒ、２９２
５，２８５５゜１４６０．１１０８ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｌ５ ＊ δ ） ： ０．８
７ （３Ｈ、ｔ 、 Ｊ＝６．０Ｈ２） 。
．０５（６６，９８）、Ｈ：１１．６２（１１，７８） ＩＲ（液膜、 ｃｍ ） ＊ ３４１０ｂｒ、２９２
５，２８５５゜１４６０．１１０８ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｌ５ ＊ δ ） ： ０．８
７ （３Ｈ、ｔ 、 Ｊ＝６．０Ｈ２） 。
１．２５（２４Ｈ，ｂｒｓ）、２．７＝３．０（２Ｈ，
ｍ）、３．３３（３Ｈ。
ｍ）、３．３３（３Ｈ。
Ｓ）、３４〜３．９（１２Ｈ，ｒｎ）
実施例２
（１）１−０−テトラデシル−３−０−ベンジル−２−
０−２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリセリン（Ｉ
Ｉ） （Ｒ１＝ Ｃ１４Ｈ２，、Ｒ” ： ＰｈＣＨ２
）の合成：還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置
を備えた２１４ツロフラスコに１−０−テトラデシル−
３−０＋、ベンジルクリセリン３５９０Ｆ（０，９４８
モル）、ｎ−ヘキサン２５０１．５０％Ｎｆ酸水素テト
ラブチルアンモニウム水蘭液３２．０８？（０，０４７
４モル）、エピクロロヒドリン１７５．４３Ｆ（１，８
９６モル）を仕込み５０℃にて加熱位拌する。ここに５
０％水酸化ナトリウム水浴液２２７．６１ （２，８４
５モル）をフラスコ内が５０〜５５℃を保つようにして
０、５時間かけて滴下する。滴下終了後５０℃で４．５
時間攪拌する。放冷後、水ｔ−ｉを除去し、反応液に５
０チ硫酸水素テトラブチルアンモニウム水沼！６．４４
９ （９，５ミリ氏ル）、エビクロロヒドリン３５．１
ノ（０，３７９モル）を加え４５〜５０℃に加熱攪拌す
る。ここに５０％水酸化ナトリウム水沼液２２７．６Ｓ
’（２，８４５モル）を２０分かけて滴下する。滴下終
了後５０Ｃで４時間反応させる３、放冷後宮法に従って
後処坤したのち減圧蒸留すると１−０−テトラデシル−
３−〇−ベンジルー２−０−２’ 、 ３’−エポキシ
プロビルグリセリン３３６．２２（収率８１．６％）を
得た。
０−２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリセリン（Ｉ
Ｉ） （Ｒ１＝ Ｃ１４Ｈ２，、Ｒ” ： ＰｈＣＨ２
）の合成：還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び撹拌装置
を備えた２１４ツロフラスコに１−０−テトラデシル−
３−０＋、ベンジルクリセリン３５９０Ｆ（０，９４８
モル）、ｎ−ヘキサン２５０１．５０％Ｎｆ酸水素テト
ラブチルアンモニウム水蘭液３２．０８？（０，０４７
４モル）、エピクロロヒドリン１７５．４３Ｆ（１，８
９６モル）を仕込み５０℃にて加熱位拌する。ここに５
０％水酸化ナトリウム水浴液２２７．６１ （２，８４
５モル）をフラスコ内が５０〜５５℃を保つようにして
０、５時間かけて滴下する。滴下終了後５０℃で４．５
時間攪拌する。放冷後、水ｔ−ｉを除去し、反応液に５
０チ硫酸水素テトラブチルアンモニウム水沼！６．４４
９ （９，５ミリ氏ル）、エビクロロヒドリン３５．１
ノ（０，３７９モル）を加え４５〜５０℃に加熱攪拌す
る。ここに５０％水酸化ナトリウム水沼液２２７．６Ｓ
’（２，８４５モル）を２０分かけて滴下する。滴下終
了後５０Ｃで４時間反応させる３、放冷後宮法に従って
後処坤したのち減圧蒸留すると１−０−テトラデシル−
３−〇−ベンジルー２−０−２’ 、 ３’−エポキシ
プロビルグリセリン３３６．２２（収率８１．６％）を
得た。
沸点：２１１℃、’ｏ、ｏ ６Ｔｏｒｒ 〜２１５℃１
０．０５ Ｔｏｒｒ ＩＲ（液膜、 ｆｆｉ ） ： ３０２５，２９２０
，２８５０，１４６０Ｓｈ、１４５０，１１００，７３
０，６９５，６８５ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｔｓ 、δ） ：
０．９０（３Ｈ，ｔ）、１．３０（２４Ｈ。
０．０５ Ｔｏｒｒ ＩＲ（液膜、 ｆｆｉ ） ： ３０２５，２９２０
，２８５０，１４６０Ｓｈ、１４５０，１１００，７３
０，６９５，６８５ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｔｓ 、δ） ：
０．９０（３Ｈ，ｔ）、１．３０（２４Ｈ。
ｂｒｓ ）、２．６０〜２．９０（２Ｈ，ｍ） 、３．
００〜３．３０（ＩＨ，ｍ）。
００〜３．３０（ＩＨ，ｍ）。
３．４０〜４．１０（９Ｈ，Ｉｎ） 、４．５３（２Ｈ
，ｓ ）、７゜３０（５Ｈ，５）（１）１−０−テトラ
デシル−３−０−ベンジル−２−０−３’−ベンジロキ
シ−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン（１） （Ｒ
６五＝ Ｃ１４Ｈ！Ｉ 、 （（３＝ＰｈＣＨｚ ）の
合成： 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２１４ツロフラスコにベンジルアルコール８３５
．９ ｔ （７，７３モル）を仕込み、窒素を吹き込み
ながらナトリウム１．７８ ｒ（０，０７７３モル）を
加え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで攪拌す
る。ここに実施例２（１）で得られた１−０−テトラデ
シル−３−０−ベンジル−２−０−’ ２’ ｔ ３’
−エポキシプロビルグリセリン３３６．０ｒ（０，７７
３モル）を０．５時間かけて滴下する。滴下終了後７５
〜８５℃で５時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルア
ルコールを留去し、残渣をシリカゲルショートカラムに
かける。ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１で溶出し、
溶媒を留去すると１′−〇−テトラデシルー３−０−ベ
ンジル−２−〇−３′−ベンジロキシー２′−ヒドロキ
シプロピルグリセリン４０２．（１（収率９５．８％）
を得た。
，ｓ ）、７゜３０（５Ｈ，５）（１）１−０−テトラ
デシル−３−０−ベンジル−２−０−３’−ベンジロキ
シ−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン（１） （Ｒ
６五＝ Ｃ１４Ｈ！Ｉ 、 （（３＝ＰｈＣＨｚ ）の
合成： 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２１４ツロフラスコにベンジルアルコール８３５
．９ ｔ （７，７３モル）を仕込み、窒素を吹き込み
ながらナトリウム１．７８ ｒ（０，０７７３モル）を
加え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで攪拌す
る。ここに実施例２（１）で得られた１−０−テトラデ
シル−３−０−ベンジル−２−０−’ ２’ ｔ ３’
−エポキシプロビルグリセリン３３６．０ｒ（０，７７
３モル）を０．５時間かけて滴下する。滴下終了後７５
〜８５℃で５時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルア
ルコールを留去し、残渣をシリカゲルショートカラムに
かける。ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１で溶出し、
溶媒を留去すると１′−〇−テトラデシルー３−０−ベ
ンジル−２−〇−３′−ベンジロキシー２′−ヒドロキ
シプロピルグリセリン４０２．（１（収率９５．８％）
を得た。
ＩＲ（ｉ膜、ｃ！ｎ） ： ３４３０，２９２５＋２８
５０−１４６０Ｓｈ、１４５０，１１００，７３０，６
９５，６８５Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｌ３＊δ）： ０．８
７（３Ｈ，ｔ ）、１．２３（２４Ｈ。
５０−１４６０Ｓｈ、１４５０，１１００，７３０，６
９５，６８５Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｌ３＊δ）： ０．８
７（３Ｈ，ｔ ）、１．２３（２４Ｈ。
ｂｒｓ）、３．３”３．９（１３Ｈ，ｍ）、４．４７（
４ｔ（，５）（ｉｉｉ）１−０−テトラデシル−２−０
−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセリン（
１） （［（１＝ＣｔｉＨｚｓ 、 Ｒ２＝ Ｈ）の合
成：１ｔのオートクレーブに実施例２ （ｌｉ）で得ら
れた１−０−テトラデシル−３−０−ベンジル−２−０
−３’−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン１００．０ ｆ ｔ ０．１８４モル）、メタノ
ール１００２、パラジウム黒０．５ ｔ ｋ仕込み、水
素１Ｅ１００気圧をかけて封じたのち１００℃で１０時
間加熱攪拌する。放冷後パラジウム黒を濾別し、溶媒を
留去すると、無色ロウ状固体の１−〇−テトラデシルー
２−０−２’。
４ｔ（，５）（ｉｉｉ）１−０−テトラデシル−２−０
−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセリン（
１） （［（１＝ＣｔｉＨｚｓ 、 Ｒ２＝ Ｈ）の合
成：１ｔのオートクレーブに実施例２ （ｌｉ）で得ら
れた１−０−テトラデシル−３−０−ベンジル−２−０
−３’−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン１００．０ ｆ ｔ ０．１８４モル）、メタノ
ール１００２、パラジウム黒０．５ ｔ ｋ仕込み、水
素１Ｅ１００気圧をかけて封じたのち１００℃で１０時
間加熱攪拌する。放冷後パラジウム黒を濾別し、溶媒を
留去すると、無色ロウ状固体の１−〇−テトラデシルー
２−０−２’。
３′−ジヒドロキシプロピルグリセリン６６． ’８
Ｐ（収率１００％）を得た。
Ｐ（収率１００％）を得た。
元素分析Ｃ２０Ｈ４１０Ｂとして（計量ｉｔ＋ｊ）Ｃ：
６６．２５ （６６，２６） ；Ｈ： １ １．
６４（１１，６８）：０：２２．３２（２２，０６）Ｉ
Ｒ（Ｑ膜、ｃｍ ）： ３３８０ｂｒ、２９２５，２
８５５，１４６０゜１！１０，１０４０ｂｒ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｔｓ ｔδ） ： Ｏ−８９（３Ｈ
、ｔ 、Ｊ 〜５．６Ｈｚ ） ＋ １．２５（２４Ｈ
，ｂｒｓ）、３．３−３．９（１４Ｈ，ｂｒｒｎ）、４
．３０（ＩＨ。
６６．２５ （６６，２６） ；Ｈ： １ １．
６４（１１，６８）：０：２２．３２（２２，０６）Ｉ
Ｒ（Ｑ膜、ｃｍ ）： ３３８０ｂｒ、２９２５，２
８５５，１４６０゜１！１０，１０４０ｂｒ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣｔｓ ｔδ） ： Ｏ−８９（３Ｈ
、ｔ 、Ｊ 〜５．６Ｈｚ ） ＋ １．２５（２４Ｈ
，ｂｒｓ）、３．３−３．９（１４Ｈ，ｂｒｒｎ）、４
．３０（ＩＨ。
ｂｒ）
実施例３
（１）１−０−ドブ：／ＭＬ／ −３−０−ヘンシル−
２−〇 −２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリセリ
ン（■）（Ｒ’ ＝ Ｃ，ｚＨ２，、Ｒ” ＝ ＰｈＣ
Ｈ，）の合成：還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び攪拌
装置を備えた２１４ツロフラスコに１−０−ドデシル−
３−０−ベンジルグリセリン３１７．８ｒ（０，９０７
モル）、ローヘキサン２２２ Ｆ 、５０％硫【設水素
テトラブチルアンモニウム水浴液３０、８ Ｆ （０，
０４５３モル）、エピクロロヒドリン１６７．７Ｆ（１
，８１３モル）を仕込み４５℃にて加熱攪拌する。ここ
ＶＣ４８チ水酸化ナトリウム水浴液２２６．６ｆ（２，
７２モル）をフラスコ内が４５〜５５℃を保つようにし
て０．５時間かけて滴下する。滴下終了後５０℃で５時
間攪拌する。放冷後、水ノーを除去し、反応液に父％硫
戚水素テト２ブチルアンモニウム水溶液６．２１＜９．
１ｖリモル）、エビクロロヒドリン３３、５ ｔ （０
，３６３七ルンを加え、４０℃にて加熱攪拌する。ここ
に５０チ水酸化ナトリウム水浴液２２６．６ ｆ （２
，７２モル）を１５分かけて滴下する。滴下終了後４５
℃で５時間反応させる。放冷後宮法に従って後処理した
のち減圧蒸留すると、１−０−ドデシル−３−〇−ベン
ジルー２−０−２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリ
セリン３１７．１ ’？ （収率８６゜０％）を得た。
２−〇 −２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリセリ
ン（■）（Ｒ’ ＝ Ｃ，ｚＨ２，、Ｒ” ＝ ＰｈＣ
Ｈ，）の合成：還流冷却器、温度計、滴下漏斗及び攪拌
装置を備えた２１４ツロフラスコに１−０−ドデシル−
３−０−ベンジルグリセリン３１７．８ｒ（０，９０７
モル）、ローヘキサン２２２ Ｆ 、５０％硫【設水素
テトラブチルアンモニウム水浴液３０、８ Ｆ （０，
０４５３モル）、エピクロロヒドリン１６７．７Ｆ（１
，８１３モル）を仕込み４５℃にて加熱攪拌する。ここ
ＶＣ４８チ水酸化ナトリウム水浴液２２６．６ｆ（２，
７２モル）をフラスコ内が４５〜５５℃を保つようにし
て０．５時間かけて滴下する。滴下終了後５０℃で５時
間攪拌する。放冷後、水ノーを除去し、反応液に父％硫
戚水素テト２ブチルアンモニウム水溶液６．２１＜９．
１ｖリモル）、エビクロロヒドリン３３、５ ｔ （０
，３６３七ルンを加え、４０℃にて加熱攪拌する。ここ
に５０チ水酸化ナトリウム水浴液２２６．６ ｆ （２
，７２モル）を１５分かけて滴下する。滴下終了後４５
℃で５時間反応させる。放冷後宮法に従って後処理した
のち減圧蒸留すると、１−０−ドデシル−３−〇−ベン
ジルー２−０−２’ 、 ３’−エポキシプロビルグリ
セリン３１７．１ ’？ （収率８６゜０％）を得た。
沸点：２０７〜ｂ
ＩＲ（液膜、備 ）： ３０２５，２９２０，２８５０
，１４６０Ｓｈ。
，１４６０Ｓｈ。
１４５０．１１００，７３０，６９５，６８５ＮＭ＆（
ＣＤＣ４３，δ）： ０．８７（３Ｈ，ｔ）、１．２５
（２０Ｈ。
ＣＤＣ４３，δ）： ０．８７（３Ｈ，ｔ）、１．２５
（２０Ｈ。
ｂｒｓ）、２．５＝２．８（２Ｈ，ｍ） 、３．０＝３
．３（ＩＨ，Ｉｎ） ？３−３−４．０（９Ｊｍ） 、
４．５０（２）ｆ、Ｓ）、７．２５（５Ｈ，５）（１）
１−０−ドデシル−３−０−へフジルー２−０−３′−
ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリセ’）
ン（ＩＩＩ） （Ｒ’＝ＣｕｚＨｚｓ 、 Ｒ”＝ Ｐ
ｈＣＨｘ ）の合成： 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２１４ツロフラスコにベンジルアルコール８４２
．５１（７，７９モル）を仕込み、窒素を吹き込みなか
らす） ｌ）ラム１．７９ ｒ（０，０７７９七ルンを
加え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで攪拌す
る。ここＶζ実施％Ｊ ３ （１）で得られた１−０−
ドデシル−３−０−ヘ：ｙ シＩＬｓ −２−０−２’
、 ３’−エポキシプロビルグリセリン３１６．８
Ｆ （０，７７９モ／’ ）を５５℃で１時間かけて滴
下する。滴下終了Ｖｉ６（３℃で８時間加熱する。放冷
後中和し、ベンジルアルコールを留去し、残渣をシリカ
ゲルショートカラムにかける。ｎ−ヘキサン／酢＾ｙエ
チル＝５７１で沼出し、溶媒を留去すると１−０−ドデ
シル−３−〇−ベンジルー２−０−３’−ベンジロキシ
−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン３２４．５Ｆ（
収率８５，４％）を得た。
．３（ＩＨ，Ｉｎ） ？３−３−４．０（９Ｊｍ） 、
４．５０（２）ｆ、Ｓ）、７．２５（５Ｈ，５）（１）
１−０−ドデシル−３−０−へフジルー２−０−３′−
ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリセ’）
ン（ＩＩＩ） （Ｒ’＝ＣｕｚＨｚｓ 、 Ｒ”＝ Ｐ
ｈＣＨｘ ）の合成： 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２１４ツロフラスコにベンジルアルコール８４２
．５１（７，７９モル）を仕込み、窒素を吹き込みなか
らす） ｌ）ラム１．７９ ｒ（０，０７７９七ルンを
加え、室温下にナトリウムが完全に溶解するまで攪拌す
る。ここＶζ実施％Ｊ ３ （１）で得られた１−０−
ドデシル−３−０−ヘ：ｙ シＩＬｓ −２−０−２’
、 ３’−エポキシプロビルグリセリン３１６．８
Ｆ （０，７７９モ／’ ）を５５℃で１時間かけて滴
下する。滴下終了Ｖｉ６（３℃で８時間加熱する。放冷
後中和し、ベンジルアルコールを留去し、残渣をシリカ
ゲルショートカラムにかける。ｎ−ヘキサン／酢＾ｙエ
チル＝５７１で沼出し、溶媒を留去すると１−０−ドデ
シル−３−〇−ベンジルー２−０−３’−ベンジロキシ
−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン３２４．５Ｆ（
収率８５，４％）を得た。
ＩＲ（ｉ膜、ｃｍ ） ： ３４６０ｂｒ 、３０８
０，３０４５゜２９３０．２８６０，１４６０ｓｂ、１
４５２，１１００，７３０゜７００．６９Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ）： ０．８６（３Ｈ，ｔ 、
Ｊ＝５．２Ｈｚ ） 、 １．２５（２０Ｈ，ｂｒｓ）
、３．３＝４．１（１３Ｈ，ｍ）、４．４８（４１（、
ｓ）。
０，３０４５゜２９３０．２８６０，１４６０ｓｂ、１
４５２，１１００，７３０゜７００．６９Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３．δ）： ０．８６（３Ｈ，ｔ 、
Ｊ＝５．２Ｈｚ ） 、 １．２５（２０Ｈ，ｂｒｓ）
、３．３＝４．１（１３Ｈ，ｍ）、４．４８（４１（、
ｓ）。
７．２５（１０）ｉ、５）
ＯｉＤｌ−０−ドデシル−２−０−２’ 、 ３’−ジ
ヒドロキシプロピルグリセリン（１） （Ｒ”＝Ｃｘ鵞
Ｈｚｓ ｖＲ”＝、＝）ｔ） １ｔのオートクレーブに実施例３ （ＩＩ）で得られた
１−０−ドデシル−３−０−ベンジル−２−〇−３′−
ベンジルー２′−ヒドロキシプロピルグリセリン１００
．０ ？ （０，１９４モル）、メタノール２０（１，
パラジウム黒５．０ｖを仕込み水素圧１００気圧をかけ
て封じたのち１００℃で１２時間加熱攪拌する。放冷後
パラジウム黒を濾別し、溶媒を留去すると無色ロウ状固
体の１−〇−ドデシルー２−０−２’ 、 ３’−ジヒ
ドロキシプロピルグリセリン６４．Ｏｆ（収率９８．５
％）を得た。
ヒドロキシプロピルグリセリン（１） （Ｒ”＝Ｃｘ鵞
Ｈｚｓ ｖＲ”＝、＝）ｔ） １ｔのオートクレーブに実施例３ （ＩＩ）で得られた
１−０−ドデシル−３−０−ベンジル−２−〇−３′−
ベンジルー２′−ヒドロキシプロピルグリセリン１００
．０ ？ （０，１９４モル）、メタノール２０（１，
パラジウム黒５．０ｖを仕込み水素圧１００気圧をかけ
て封じたのち１００℃で１２時間加熱攪拌する。放冷後
パラジウム黒を濾別し、溶媒を留去すると無色ロウ状固
体の１−〇−ドデシルー２−０−２’ 、 ３’−ジヒ
ドロキシプロピルグリセリン６４．Ｏｆ（収率９８．５
％）を得た。
元素分析Ｃｌ８Ｈ３ｓ０５として（計算値）Ｃ： ６４
．３０（６４，６３）；Ｈ：１１．７１（１１，４５） ＩＦＬ（ｉ膜ｔｅＭ ）、３３６０ｂｒ 、２９２０．
２８５５＋１４６０．１１１０，１０４０ｂｒ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣ４？δ） ： ０．８７（３Ｈ，ｔ
、Ｊ ＝５．０Ｈｚ ）、 １．２５（２０Ｈ，ｂｒ
ｓ）、３゜３−４．２（１４Ｈ，ｂｒ＋ｎ）、４．６２
（ＩＨ。
．３０（６４，６３）；Ｈ：１１．７１（１１，４５） ＩＦＬ（ｉ膜ｔｅＭ ）、３３６０ｂｒ 、２９２０．
２８５５＋１４６０．１１１０，１０４０ｂｒ Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣ４？δ） ： ０．８７（３Ｈ，ｔ
、Ｊ ＝５．０Ｈｚ ）、 １．２５（２０Ｈ，ｂｒ
ｓ）、３゜３−４．２（１４Ｈ，ｂｒ＋ｎ）、４．６２
（ＩＨ。
ｂｒ）
実施例４
（＋）１−０−テトラデシル−３−０−ブチル−２−０
−３’−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン（ｌｉｔ） （Ｒ’ ＝ Ｃ１４Ｈ２９、Ｒ’
＝ Ｃ４Ｈ９）の合成： 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２ ００ ｍｅ ４ツロフラスコにベンジルアル
コール８１．１ Ｆ （０，７５モル）を仕込み、窒素
ヲ吹き込みながら６ナトリウム１７２ｙｌ？（７，５ミ
リモル）を加え、室温下にナトリウムを溶解させる。こ
こに実施例１〜３にならって合成した１−０−テトラデ
シル−３−０−ブチル−２−０−２’ 、 ３’−エボ
キシプロピルグリセリンｆＩｌ） （ＦＬ’＝ Ｃ１４
Ｈ２９１Ｒ”： Ｃ４Ｈ９） ３０． Ｏ？（０，０７
５モル）を５５℃で０．５時間カニけて滴下する。滴下
終了後６０℃で８時間加熱する。
−３’−ベンジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリ
セリン（ｌｉｔ） （Ｒ’ ＝ Ｃ１４Ｈ２９、Ｒ’
＝ Ｃ４Ｈ９）の合成： 還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌装置を
備えた２ ００ ｍｅ ４ツロフラスコにベンジルアル
コール８１．１ Ｆ （０，７５モル）を仕込み、窒素
ヲ吹き込みながら６ナトリウム１７２ｙｌ？（７，５ミ
リモル）を加え、室温下にナトリウムを溶解させる。こ
こに実施例１〜３にならって合成した１−０−テトラデ
シル−３−０−ブチル−２−０−２’ 、 ３’−エボ
キシプロピルグリセリンｆＩｌ） （ＦＬ’＝ Ｃ１４
Ｈ２９１Ｒ”： Ｃ４Ｈ９） ３０． Ｏ？（０，０７
５モル）を５５℃で０．５時間カニけて滴下する。滴下
終了後６０℃で８時間加熱する。
放冷後中和し、ベンジルアルコール
残ｍをシリカゲルショートカラムに力）ける。ｎ＋ ヘ
キサ７ ／ 酢酸エチル＝５７１で溶出し、溶媒を留去
すると１−ｏ−テトラデシル−３−。
キサ７ ／ 酢酸エチル＝５７１で溶出し、溶媒を留去
すると１−ｏ−テトラデシル−３−。
−ブチル−２ − ０ − ３’−ベンジロキシ−２′
−ヒドロキシグリ七リン３５．２Ｆ（収率９２．４％）
を得た。
−ヒドロキシグリ七リン３５．２Ｆ（収率９２．４％）
を得た。
ＩＲ（Ｑ膜， ｃｒｎ−’ ） ＊ ３４３０’） ｒ
ｙ ２９２０ 、２８５０ ｇ １４５０ｅ１１００
、７３０，６９５，６８５ ＮＭ Ｒ （ ＣＤＣｌ２，δ）：０．８７（３Ｈ，ｔ
）、０．９０（３Ｈ，ｔ）１１、２５（２８Ｈ，ｂｒｓ
）、３．４〜４．２（１５ｆ（、ｍ） 、４．５２（２
Ｈ。
ｙ ２９２０ 、２８５０ ｇ １４５０ｅ１１００
、７３０，６９５，６８５ ＮＭ Ｒ （ ＣＤＣｌ２，δ）：０．８７（３Ｈ，ｔ
）、０．９０（３Ｈ，ｔ）１１、２５（２８Ｈ，ｂｒｓ
）、３．４〜４．２（１５ｆ（、ｍ） 、４．５２（２
Ｈ。
ｓ）、７．２７（５Ｈ，Ｓ）
（ＩＩ） １−゛Ｏーテトラデシルー３ー〇ーブチル
−２− ｏ − ２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピ
ルりｌ）セＩＪン（１） （ Ｒ１＝ ＣＨＨｚｓ，
Ｒ”＝ Ｃｄ（ｓ）の合成：１ ０ ０ ｍｌのオート
クレーブに実施例４（１）で得られた１−０−テトラデ
シル−３−〇ーブチル− ２ − ０ − ３’−ベン
ジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン３ ０
． Ｏ ｆ （ ０． ０ ５ ９モル）、メタノール
３０１．５９６パラジウム炭ｓｔｓｒ、濃塩酸０． １
５ ９を仕込み、水素圧１００気圧をかけて封じたの
ち、１００℃で１０時間加熱攪拌する。放冷後５％パラ
ジウム炭素を濾別し。
−２− ｏ − ２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピ
ルりｌ）セＩＪン（１） （ Ｒ１＝ ＣＨＨｚｓ，
Ｒ”＝ Ｃｄ（ｓ）の合成：１ ０ ０ ｍｌのオート
クレーブに実施例４（１）で得られた１−０−テトラデ
シル−３−〇ーブチル− ２ − ０ − ３’−ベン
ジロキシ−２′−ヒドロキシプロピルグリセリン３ ０
． Ｏ ｆ （ ０． ０ ５ ９モル）、メタノール
３０１．５９６パラジウム炭ｓｔｓｒ、濃塩酸０． １
５ ９を仕込み、水素圧１００気圧をかけて封じたの
ち、１００℃で１０時間加熱攪拌する。放冷後５％パラ
ジウム炭素を濾別し。
溶媒を留去する。残渣を２５％スチーミング後メタノー
ル２５ゴ活性炭２．５２を加え室温下１時間攪拌する。
ル２５ゴ活性炭２．５２を加え室温下１時間攪拌する。
活性炭を濾別し、メタノールを留去すると無色透明油状
物の１−〇ーテトラデシルー３−〇−ブチル−２ −
０ − ２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセ
リン（１） （ Ｒ”＝Ｃｘ４ＨｚｔｖＲ”＝ Ｃ４Ｈ
９ ） ２ ４． Ｏ ？ （収率９７．２チ）を得た
。
物の１−〇ーテトラデシルー３−〇−ブチル−２ −
０ − ２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセ
リン（１） （ Ｒ”＝Ｃｘ４ＨｚｔｖＲ”＝ Ｃ４Ｈ
９ ） ２ ４． Ｏ ？ （収率９７．２チ）を得た
。
元素分析ＣｕＨＨＯｓとして（計算値）Ｃ：６８．９２
（６８．８５）、Ｈ：１１．８９（１２．０４） ＩＲ（液膜，ｃｍ ）：３４３０ｂｒ，２９３０，２
８７０，１４７０。
（６８．８５）、Ｈ：１１．８９（１２．０４） ＩＲ（液膜，ｃｍ ）：３４３０ｂｒ，２９３０，２
８７０，１４７０。
１３８５、１１１Ｏ
Ｎ Ｍ Ｒ （ ＣＤＣｔｓ ＊δ）、：ｏ．ｓｓ（ａ
Ｈ，ｔ）、ｏ．ｓｓＨＨ，ｔＬｌ、２５（２８Ｈ，ｂｒ
ｓ）、２．７＝３．０（２Ｈ，ｒｎ） 、３．３〜３．
９ｆ１４Ｈ，ｍ） ＩＲ，ＮＭＲは標品と完全に一致した。
Ｈ，ｔ）、ｏ．ｓｓＨＨ，ｔＬｌ、２５（２８Ｈ，ｂｒ
ｓ）、２．７＝３．０（２Ｈ，ｒｎ） 、３．３〜３．
９ｆ１４Ｈ，ｍ） ＩＲ，ＮＭＲは標品と完全に一致した。
実施例５
（１）１−０−メチル分岐インステアｌＪルー３−〇ー
ーチルー２ − ０ − ３’−ベンジロキシ−２′−
ヒドロキシプロピルグリセリン（Ｉｎ） （ Ｒ”＝
ｉｓｏ −Ｃ１８Ｈ３？ ＋ ＥＣ３＝ ＣＨｓ ）の
合成：還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌
装置を備えた２ ０ ０ｄ４ツロフラスコにベンジルア
ルコール５ ４． ０ ７ ｆ （ ０． ５ ０モル
）を仕込み、窒素を吹き込みながらナトＩ）ラム１１５
■（５．ｏミリモル）を加え、室温下にナト１ノウムを
溶解させる。ここに実施例１〜３にならって合成した１
−０−メチル分岐インステアＩＪ Ｊレー３−〇ーメチ
ルー２ − ０ ２’ ＋ ３’−エポキシプロビル
グリセリン（■） （ Ｒ’ ＝ ｉｓｏ − ＣｕＨ
ｓｔ ｔＲ３＝ＣＨ．） ２ ０． ７ ３
？ （ ０． ０ ５ モ ル ） を
５ ０ ℃で０． ５時間かけて滴下する。滴下終了後
６０℃で７時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルアル
コールを頼去し、残渣をシリカケルショートカラムにか
ける，、ｎ−へキサン／酢酸エチル＝５／１で溶出し、
溶媒を留去すると１−〇ーメチル分岐インステアリＪレ
ー３−〇ーメチＪレー２− Ｏ − ３’−へンジロキ
シー２′ーヒドロキシグＩＪセリン２４、８６ｆ（収率
９５．１％）を得た。
ーチルー２ − ０ − ３’−ベンジロキシ−２′−
ヒドロキシプロピルグリセリン（Ｉｎ） （ Ｒ”＝
ｉｓｏ −Ｃ１８Ｈ３？ ＋ ＥＣ３＝ ＣＨｓ ）の
合成：還流冷却器、温度計、導入管、滴下漏斗及び攪拌
装置を備えた２ ０ ０ｄ４ツロフラスコにベンジルア
ルコール５ ４． ０ ７ ｆ （ ０． ５ ０モル
）を仕込み、窒素を吹き込みながらナトＩ）ラム１１５
■（５．ｏミリモル）を加え、室温下にナト１ノウムを
溶解させる。ここに実施例１〜３にならって合成した１
−０−メチル分岐インステアＩＪ Ｊレー３−〇ーメチ
ルー２ − ０ ２’ ＋ ３’−エポキシプロビル
グリセリン（■） （ Ｒ’ ＝ ｉｓｏ − ＣｕＨ
ｓｔ ｔＲ３＝ＣＨ．） ２ ０． ７ ３
？ （ ０． ０ ５ モ ル ） を
５ ０ ℃で０． ５時間かけて滴下する。滴下終了後
６０℃で７時間加熱する。放冷後中和し、ベンジルアル
コールを頼去し、残渣をシリカケルショートカラムにか
ける，、ｎ−へキサン／酢酸エチル＝５／１で溶出し、
溶媒を留去すると１−〇ーメチル分岐インステアリＪレ
ー３−〇ーメチＪレー２− Ｏ − ３’−へンジロキ
シー２′ーヒドロキシグＩＪセリン２４、８６ｆ（収率
９５．１％）を得た。
ＩＲ（ｄ膜− ）： ３４４０ｂｒ，２９２０，２８５
５。
５。
１４５０、１３６０，１１００，７２５，６９５，６８
３ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２ 、 ｌ） ） ： ０．８〜２
．０（３５１（）、３．３２（３１（。
３ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２ 、 ｌ） ） ： ０．８〜２
．０（３５１（）、３．３２（３１（。
ｓ ） 、 ３．４〜４．２（１３Ｈ，ｍ） 、４．５
２（２Ｈ，ｓ ）、７．２６（５Ｈ，８） （ＩＩ）１−０−メチル分岐インステア１ツルー３−〇
ーメチルー２ − ｏ − ２’ 、 ３’−ジヒドロ
キシプロピルグリセリン（１） （ Ｒ”＝ ｔｓｏ
− ＣｌｓＨｓｙ， Ｒ”＝ＣＨ３ ）の合成： １ ０ ０ ｍｌのオートクレーブに実施例５（１）で
得られた１−０−メチル分岐インステアＩＪ ）レー３
−〇−メチル−２ − ０ − ３’−ベンジロキシ−
２′−ヒドロキシプロピルグリセ１ノン２ ０． Ｏ
ｆ（ ０． ０ ３ ８モル）、メタノール２０２、ノ
くラジウム黒５０”Ｖを仕込み、水＃ｌＥｔｏｏ気圧を
妙為けて到じたのち、１００℃で１０時間加熱攪拌する
。放冷後パラジウム黒を濾別し消媒を留去すると無色透
明油状物の１−０−メチル分岐インステアリル−３−０
−メチル−２−０−２’ 。
２（２Ｈ，ｓ ）、７．２６（５Ｈ，８） （ＩＩ）１−０−メチル分岐インステア１ツルー３−〇
ーメチルー２ − ｏ − ２’ 、 ３’−ジヒドロ
キシプロピルグリセリン（１） （ Ｒ”＝ ｔｓｏ
− ＣｌｓＨｓｙ， Ｒ”＝ＣＨ３ ）の合成： １ ０ ０ ｍｌのオートクレーブに実施例５（１）で
得られた１−０−メチル分岐インステアＩＪ ）レー３
−〇−メチル−２ − ０ − ３’−ベンジロキシ−
２′−ヒドロキシプロピルグリセ１ノン２ ０． Ｏ
ｆ（ ０． ０ ３ ８モル）、メタノール２０２、ノ
くラジウム黒５０”Ｖを仕込み、水＃ｌＥｔｏｏ気圧を
妙為けて到じたのち、１００℃で１０時間加熱攪拌する
。放冷後パラジウム黒を濾別し消媒を留去すると無色透
明油状物の１−０−メチル分岐インステアリル−３−０
−メチル−２−０−２’ 。
３′−ジヒドロキシプロピルグリセリンｌ ６．４５Ｖ
（収率１００％）を得た。
（収率１００％）を得た。
元素分析（４ｓ ）（ｓｉ ｏｓとして（肘社１直）Ｃ
：６９．５３（６９，４０）；Ｈ：１１．９７（１２，
１１） ＩＲ（Ｑ膜、ｃｍ ）：３４２０ｔ）ｒ、２９２５，
２８６５゜１４７０．１３８０，１１１Ｏ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ３．δ）：Ｏ，Ｓ〜２．０ （３５
）１ ） 、 ２．７〜３．０（２Ｌｆ、ｍ）、３．３
５ｆ３Ｈ，Ｓ）、３．４〜３．９（１２Ｈ，ｒｎ）ＩＲ
，ＮＭＲは標品と完全に一致した。
：６９．５３（６９，４０）；Ｈ：１１．９７（１２，
１１） ＩＲ（Ｑ膜、ｃｍ ）：３４２０ｔ）ｒ、２９２５，
２８６５゜１４７０．１３８０，１１１Ｏ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ３．δ）：Ｏ，Ｓ〜２．０ （３５
）１ ） 、 ２．７〜３．０（２Ｌｆ、ｍ）、３．３
５ｆ３Ｈ，Ｓ）、３．４〜３．９（１２Ｈ，ｒｎ）ＩＲ
，ＮＭＲは標品と完全に一致した。
実施例６
実施例′１〜５と同様にして以下に示す化合物を得た。
＊ ｌ −Ｑ −ｎ−オクチル−３−０−メチル−２
−Ｏ−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセリ
ン（Ｒ”＝ ｎ −Ｃ６Ｈｔｙｅ ［（”＝＝ ＣＨｓ
）−１−０−メチル分岐インステアリル−３−〇−ｎ
−オクチルー２−０−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプ
ロピルグリセリン（Ｒ’ ＝ ｉｓｏ −ＣＨｌｌら７
．Ｒ２＝ローＣ５Ｈｘｙ） −１−〇−ヘキサデシルー２−０−２’ 、 ３’−ジ
ヒドロキシプロピルグリセリン（Ｒ１＝ ｎ−Ｃｌ８Ｈ
３７、Ｒ” ： Ｈ） −１−０−メチル分岐インステアリル−２−０−２’
、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセリン（Ｒ’ ＝
ｉｓｏ −Ｃｌ８Ｈ３７、Ｒ２＝ Ｈ）以上
−Ｏ−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセリ
ン（Ｒ”＝ ｎ −Ｃ６Ｈｔｙｅ ［（”＝＝ ＣＨｓ
）−１−０−メチル分岐インステアリル−３−〇−ｎ
−オクチルー２−０−２’ 、 ３’−ジヒドロキシプ
ロピルグリセリン（Ｒ’ ＝ ｉｓｏ −ＣＨｌｌら７
．Ｒ２＝ローＣ５Ｈｘｙ） −１−〇−ヘキサデシルー２−０−２’ 、 ３’−ジ
ヒドロキシプロピルグリセリン（Ｒ１＝ ｎ−Ｃｌ８Ｈ
３７、Ｒ” ： Ｈ） −１−０−メチル分岐インステアリル−２−０−２’
、 ３’−ジヒドロキシプロピルグリセリン（Ｒ’ ＝
ｉｓｏ −Ｃｌ８Ｈ３７、Ｒ２＝ Ｈ）以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１は炭素数１〜２６の直鎖若しくは分岐ア
ルキル基又はアリール基を、Ｒ＾３は炭素数１〜８の直
鎖若しくは分岐アルキル基、アリール基又はベンジル基
を示す。） で表されるグリシジルエーテル誘導体に、塩基の存在下
ベンジルアルコールを反応させ、次いで得られる成績体
を金属触媒存在下に水素化分解反応に付すことを特徴と
する、一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があります
▼（ I ） （式中、Ｒ＾２は水素原子、炭素数１〜８の直鎖若しく
は分岐のアルキル基又はアリール基を、Ｒ＾１は前記と
同じ。） で表わされるイソジグリセリルエーテルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60226534A JPH0621088B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | イソジグリセリルエ−テルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60226534A JPH0621088B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | イソジグリセリルエ−テルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6287542A true JPS6287542A (ja) | 1987-04-22 |
| JPH0621088B2 JPH0621088B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=16846645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60226534A Expired - Lifetime JPH0621088B2 (ja) | 1985-10-11 | 1985-10-11 | イソジグリセリルエ−テルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621088B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6624112B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-09-23 | N.E. Chemcat Corporation | Hydrogenolysis catalyst |
-
1985
- 1985-10-11 JP JP60226534A patent/JPH0621088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6624112B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-09-23 | N.E. Chemcat Corporation | Hydrogenolysis catalyst |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0621088B2 (ja) | 1994-03-23 |
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