JPS6289210A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6289210A JPS6289210A JP23032485A JP23032485A JPS6289210A JP S6289210 A JPS6289210 A JP S6289210A JP 23032485 A JP23032485 A JP 23032485A JP 23032485 A JP23032485 A JP 23032485A JP S6289210 A JPS6289210 A JP S6289210A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- magnetic
- magnetic pole
- thin film
- ionization tendency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/40—Protective measures on heads, e.g. against excessive temperature
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
薄膜磁気ヘッドの記録媒体に対向する磁性層の面が研磨
されたままであるため、接面に生成される局部電池によ
り、接面が腐食されないように、磁性層の材料よりイオ
ン化傾向の大きい金属を磁性層に接続し、該金属を腐食
させるようにして、前記局部電池の生成を阻止する。
されたままであるため、接面に生成される局部電池によ
り、接面が腐食されないように、磁性層の材料よりイオ
ン化傾向の大きい金属を磁性層に接続し、該金属を腐食
させるようにして、前記局部電池の生成を阻止する。
本発明は磁気記録再生装置に使用される磁気ヘッドに係
り、特に記録媒体に対向する磁極の面の腐食を防止する
ことが可能な薄膜磁気ヘッドに関する。
り、特に記録媒体に対向する磁極の面の腐食を防止する
ことが可能な薄膜磁気ヘッドに関する。
磁気記録再生装置は記録密度の向上が要求され、磁化反
転間隔とトラック間隔が小さくなるように、薄膜プロセ
ス技術を用いて製作される薄膜磁気ヘッドが使用されて
いる。この薄膜磁気ヘッドの記録媒体に対向する磁極は
、その先端部分が所定の長さとなるように研磨され、所
望の特性を得るように製作される。
転間隔とトラック間隔が小さくなるように、薄膜プロセ
ス技術を用いて製作される薄膜磁気ヘッドが使用されて
いる。この薄膜磁気ヘッドの記録媒体に対向する磁極は
、その先端部分が所定の長さとなるように研磨され、所
望の特性を得るように製作される。
薄膜磁気ヘッドでは研磨された磁極の先端部分は露出し
ており、空気中にその面をさらしているため、酸化し易
い状態にあるが、錆等の発生は防止されることが必要で
ある。
ており、空気中にその面をさらしているため、酸化し易
い状態にあるが、錆等の発生は防止されることが必要で
ある。
第２図は薄膜磁気ヘッドの一例を説明する図である。
第２図（ａｌは上面図で、Ｇ −Ｈ線断面図を第２図ｔ
ｂ）に示す。磁性層１は第２図（ｂｌに示す如く磁性層
７と８により構成され、この磁性層７と８の記録媒体に
対向する部分が磁極２を形成すると共に、書込み／読取
し用のギャップ９を形成する。そして磁性層７と８は磁
極２の反対側で密着してギヤツブ９を介する磁路を形成
し、磁極２は面１０により記録媒体と対向する。
ｂ）に示す。磁性層１は第２図（ｂｌに示す如く磁性層
７と８により構成され、この磁性層７と８の記録媒体に
対向する部分が磁極２を形成すると共に、書込み／読取
し用のギャップ９を形成する。そして磁性層７と８は磁
極２の反対側で密着してギヤツブ９を介する磁路を形成
し、磁極２は面１０により記録媒体と対向する。
絶縁層４の中には捲線３が形成され、端子５は捲線３を
経て端子６に接続される。従って端子５と６の間に印加
され、捲線３に流れる電流により発生する磁束は磁性層
７と８により導かれ、ギヤツブ９により記録媒体に書込
まれる。
経て端子６に接続される。従って端子５と６の間に印加
され、捲線３に流れる電流により発生する磁束は磁性層
７と８により導かれ、ギヤツブ９により記録媒体に書込
まれる。
又記録媒体からギャップ９により読取られた磁束は磁性
層７と８を経て捲線３に電流を誘起し、端子５と６から
送出される。
層７と８を経て捲線３に電流を誘起し、端子５と６から
送出される。
この薄膜磁気ヘッドは薄膜プロセス技術により製作され
、面１０は磁極２が所定の長さになるまで研磨される。
、面１０は磁極２が所定の長さになるまで研磨される。
磁極２の面１０は研磨された後空中にさらされているた
め、腐食し易い状況に置かれており、特に加工歪や研磨
に使用する薬品等の影響があると、錆が発生することが
あるという問題がある。
め、腐食し易い状況に置かれており、特に加工歪や研磨
に使用する薬品等の影響があると、錆が発生することが
あるという問題がある。
本発明はこのような問題点に鑑み、磁極２の材質よりイ
オン化傾向が大きい金属を磁性層１に接続し、この金属
を磁極２から離れた位置で、例えば記録媒体に対向する
ように配置することで、面１０の腐食を防止するもので
ある。
オン化傾向が大きい金属を磁性層１に接続し、この金属
を磁極２から離れた位置で、例えば記録媒体に対向する
ように配置することで、面１０の腐食を防止するもので
ある。
第１図は本発明の一実施例を説明する図である。
２は磁極、４は絶縁層、７．８は磁性層、１０は磁極２
の面、１１は磁極２の材質よりイオン化傾向が大きい金
属、工２は金属１１と磁性層８又は７とを接続する金属
１１と同一材質の導線又は良導体の導線、１３は金属１
１の記録媒体に対向する面である。
の面、１１は磁極２の材質よりイオン化傾向が大きい金
属、工２は金属１１と磁性層８又は７とを接続する金属
１１と同一材質の導線又は良導体の導線、１３は金属１
１の記録媒体に対向する面である。
金属１１は磁極２との間に電池を形成し、金属１］のイ
オン化傾向が大きいことで、金属１１が腐食し、磁極２
の面１０の腐食を防止する構成とする。
オン化傾向が大きいことで、金属１１が腐食し、磁極２
の面１０の腐食を防止する構成とする。
上記構成とすることにより、面１０に局部的に形成され
る電池による面１０の腐食を、金属１１の腐食に置き換
えることが出来る。
る電池による面１０の腐食を、金属１１の腐食に置き換
えることが出来る。
第１図及び第２図に基づき、まず製造方法の一例を説明
する。
する。
■磁性層８を形成する。
■導体１２を形成する。
■金属１１を形成する。
■ギャップ９を形成する。
■捲線３を形成する。
■絶縁層４を形成する。
■磁性層７を形成する。
上記■及び■の工程は、本発明のために追加された工程
である。
である。
導体１２はアルミニューム、銅或いは磁性層８と同一材
質（例えばパーマロイ）で形成され、金属１１と磁性層
８を接続する。磁性Ｎ７と８は接続されているため、ど
ちらに接続しても効果は同じである。
質（例えばパーマロイ）で形成され、金属１１と磁性層
８を接続する。磁性Ｎ７と８は接続されているため、ど
ちらに接続しても効果は同じである。
金属１１は磁性層７及び８の材質（通常パーマロイが使
用される）よりイオン化傾向の大きい材質、即ちパーマ
ロイを構成するニッケル及び鉄よりもイオン化傾向の大
きいアルミニューム、亜鉛、クロム等で形成されるが、
製造の簡略化のために、４体１２と同質の材質を使用し
、例えばアルミニュームで形成され、磁極２の面１０と
同様に面１３により記録媒体と対向する。
用される）よりイオン化傾向の大きい材質、即ちパーマ
ロイを構成するニッケル及び鉄よりもイオン化傾向の大
きいアルミニューム、亜鉛、クロム等で形成されるが、
製造の簡略化のために、４体１２と同質の材質を使用し
、例えばアルミニュームで形成され、磁極２の面１０と
同様に面１３により記録媒体と対向する。
面１０と１３とは同一空気中にさらされているため、金
属１１と磁極２とは電池を構成し、面ｌＯに局部電池の
生成されることを阻止し、イオン化傾向の大きい金属１
１が腐食して、面１０の腐食は発生しない。
属１１と磁極２とは電池を構成し、面ｌＯに局部電池の
生成されることを阻止し、イオン化傾向の大きい金属１
１が腐食して、面１０の腐食は発生しない。
本実施例は一つの薄膜磁気ヘッドに一つの金属を設けて
いるが、複数の薄膜磁気ヘッドが同一取付は機構に存在
する場合、各薄膜磁気ヘッドの磁性層を接続して、同一
取付は機構内の一個所又は数個所に設けた金属に接続す
ることで、同一効果を得ることが出来る。
いるが、複数の薄膜磁気ヘッドが同一取付は機構に存在
する場合、各薄膜磁気ヘッドの磁性層を接続して、同一
取付は機構内の一個所又は数個所に設けた金属に接続す
ることで、同一効果を得ることが出来る。
以上説明した如く、本発明は研磨された磁極の面の腐食
を防止することが出来る。
を防止することが出来る。
第１図は本発明の一実施例を説明する図、第２図は薄膜
磁気ヘッドの一例を説明する図である。 図において、 １．７．８は磁性層、 ２は磁極、 ３は捲線、 ４は絶縁層、５．６は端子、
９はギャップ、１０、１３は面、
１１は金属、シ粁４≦、４月う 〜）−）に牙で〒σ１
１ まＩ像べ弓４７ Ｔ １ハｊ７＋ｊ）ｍｌ 簿−ハ炎石は恢へ・千の− 七ン図 １ｂＯ説明む１？
磁気ヘッドの一例を説明する図である。 図において、 １．７．８は磁性層、 ２は磁極、 ３は捲線、 ４は絶縁層、５．６は端子、
９はギャップ、１０、１３は面、
１１は金属、シ粁４≦、４月う 〜）−）に牙で〒σ１
１ まＩ像べ弓４７ Ｔ １ハｊ７＋ｊ）ｍｌ 簿−ハ炎石は恢へ・千の− 七ン図 １ｂＯ説明む１？
Claims (1)
- 薄膜磁気ヘッドを構成する磁性層（７）（８）の材質よ
りイオン化傾向が大きい金属（１１）を該磁性層（７）
（８）に接続し、該磁性層（７）（８）が記録媒体に対
向する面（１０）と離れた位置で、且つ該面（１０）と
同一空気中に前記金属（１１）をさらして成ることを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23032485A JPS6289210A (ja) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23032485A JPS6289210A (ja) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6289210A true JPS6289210A (ja) | 1987-04-23 |
Family
ID=16906044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23032485A Pending JPS6289210A (ja) | 1985-10-16 | 1985-10-16 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6289210A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102710A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Canon Electron Inc | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH04312846A (ja) * | 1991-04-11 | 1992-11-04 | Nankai Plywood Kk | 化粧板の製造方法 |
| JP2009113961A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Abe Tekkosho:Kk | 密閉式振動垂直輸送機 |
-
1985
- 1985-10-16 JP JP23032485A patent/JPS6289210A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01102710A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Canon Electron Inc | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH04312846A (ja) * | 1991-04-11 | 1992-11-04 | Nankai Plywood Kk | 化粧板の製造方法 |
| JP2009113961A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Abe Tekkosho:Kk | 密閉式振動垂直輸送機 |
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