JPS6289660A - 4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製法 - Google Patents

4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製法

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JPS6289660A
JPS6289660A JP23068585A JP23068585A JPS6289660A JP S6289660 A JPS6289660 A JP S6289660A JP 23068585 A JP23068585 A JP 23068585A JP 23068585 A JP23068585 A JP 23068585A JP S6289660 A JPS6289660 A JP S6289660A
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cyclohexanedione
oxo
acetate
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長尾 恵四郎
Akio Suzui
明男 鈴井
Masazumi Nakagawa
正澄 中川
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は抗不整脈作用を有するピンドロールやプシロシ
ン、ブシロシビン等広範な4−置換インドール系医薬品
の合成中間体として有用な4−ヒドロキシインドールの
前駆体でめる4−オキソ−4,5,6,7−チトラヒド
ロインドールの製法に関する。
(従来技術) 従来知られている4−オキソ−4,5,6゜7−チトラ
ヒドロインドールの合成法の代表的なものとしては下記
のものがある。
(1)1.3−シクロヘキサンジオンとブロムピルビン
酸エステルを縮合させて得られる4−、オキソ−4,5
,6,7−チトラヒドロペンゾフランー3−カルボン酸
をアンモニア、尿素。
酢酸アンモニウム等と加熱する方法[Ann。
Chem、655.20 (1962)、特開昭59−
5159号公報1 (2)1.3−シクロヘキサンジオンとアミノアセトア
ルデヒドジメチルアセタールを縮合させる方法[J、O
rq、Chem、43゜3541   (1978)] (3)1.3−シクロヘキサンジオンとエチルビニルエ
ーテルを電極酸化し、次いで生成物を炭酸アンモニウム
と処理する方法[Chem。
Letters  1603 (1980)コ(4)1
.3−シクロヘキサンジオンとクロロアセトアルデヒド
を水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等の塩基の存在下
に縮合させ、次いで酸処理により4−オキソ−4,5,
6,7−チトラヒドロペンゾフランとした後これをアン
モニアと反応させる方法[特開昭59−27869号公
報] (5>4− (2−ピロリル)酪酸を閉環させる方法[
フランス特許第1540484号明細書、Ch in、
Ther、5.279 (1970)](6)N−3−
オキソ−シクロへキシリデンエタノールアミンを脱水素
閉環させる方法[特開昭59−144757号公報、特
開昭59−144758号公報コ上号公報法のうち、(
1)、(2)、(3)の方法は1.3−シクロヘキサン
ジオンと反応さぜるC2単位として高価な試薬を必要と
するか試薬を大過剰に用いねばならない。(4)の方法
は高価な試薬を用いないという点では有利であるが、1
,3−シクロヘキサンジオンとクロロアセトアルデヒド
の縮合反応に長時間を要し、しかも比較的大量の溶媒を
必要とする。
(5)の方法は高価なピロールから数工程を経て4−(
2−ピロリル)酪酸を合成した上で環化せねばならず操
作が煩雑である。(6)の方法は脱水素に回収不可能な
高価な負金属化合物を用いねばならず、また気相脱水素
反応の条件が難しい、等それぞれ難点がある。また4−
オキソ−4,5,6,7−チトラヒドロペンゾフランを
経由する(1)、(3)、(4)の方法では、これにア
ンモニアを反応させて4−オキソ−4,5,6,7−チ
トラヒドロインドールを得る反応に0.5〜2日間要す
るという欠点がある。
(発明の目的) 本発明は、容易に入手しうる原料を用いて一段階反応で
短時間に、しかも好収率で目的とする4−オキソ−4,
5,6,7−チトラヒドロインドールを製造する方法を
提供するものである。
(発明の構成) 本発明は、1.3−シクロヘキサンジオンと下記一般式
(II>又は一般式(In>で表わされるハロアセトア
ルデヒド又はその誘導体XCH2CHO(II> (但し、上記一般式(II)、  (In)において、
Xはハロゲン原子、Yはハロゲン原子又は炭素数1〜3
の低級アルコキシ基もしくは低級アシルオキシ基、AC
はアセチル基を表わす)をアンモニアの存在下120℃
〜200°Cで反応させることを特徴とする4−オキソ
−4,5,6゜7−チトラヒドロインドールの製法であ
る。
本発明は下記反応式に示されるように、1゜3−シクロ
ヘキサンジオン(I>にハロアセトアルデヒド(ff)
又はその誘導体(m)をアンモニアの存在下に反応させ
て4−オキソ−4゜5.6.7−チトラヒドロインドー
ル(IV)を得る方法である。
[ (I)      (II)        (III
)(IV) 上記反応式を更に詳述すると、本発明の反応条件下では
下記式(A>を主体とした反応経路で上記式(B)にお
いては、化合物(I)の酸性度とアルコキシドの塩基性
からステップ(C)及び(d)はいずれも可逆反応と考
えられ、式(B)の律速段階はステップ(e)と考えら
れる。一方式(A>の律速段階は明らかにステップ(a
>である。式(B)のステップ(e)は分子内反応であ
るため活性化エネルギーは式(A)のステップ(a>よ
りはるかに小ざく、従って低温下の反応では式(B)の
反応が優先するものと考えられる。よって式(A>の反
応を行うには十分な反応熱が必要であると予想され、果
たして本発明の如く、アンモニアの存在下120℃以上
の温度で化合物(I>、  (II)を反応させること
によって予想以上の高収率で目的物(IV)を得ること
ができたものである。本発明において反応開始後1時間
程度の初期の段階では、前記式(B)の化合物(V)t
3よび(VI)は全く生成していないことが本発明者ら
によって確認された。前述したようにこの化合物(VI
)とアンモニアとの反応から目的物(IV)を得るには
かなりの長時間を要することから、本発明の目的物であ
る化合物(IV)は上記化合物(V)及びF)を経て生
成しているのではないことは明らかである。
本発明において加えられるアンモニアはステップ(b)
の試剤であると共に、ステップ(a)に必要な塩基とし
て作用している。この際化合物(II)の代りにアンモ
ニアと反応して化合物(II)を与える前記化合物(I
II)を用いると更に良い収率が得られることも判った
本発明に用いられる原料化合物(II)としては、工業
的に入手可能なりロロアセトアルデヒドやブロムアセタ
ール又は後記原料化合物(III>の一つである1、2
−ジブロムエチルアセテートから容易に得られるブロム
アセトアルデヒドがあり、特にブロムアセトアルデヒド
が反応性及び収率の点で優れている。化合物(II>は
純粋な状態で取扱うことが難しく、いずれも水溶液とし
て使用するのが好ましい。
本発明に用いられる原料化合物(m)とじては、酢酸ビ
ニルより既知の方法で容易に合成できる1、2−ジハロ
ゲノエチルアセテート、1−アルコキシ−2−ハロゲン
エチルアセテート、1−アシルオキシ−2〜八〇ゲノエ
チルアセテートが挙げられ、これらのハロゲンとしては
塩素原子又は臭素原子がよく、1,2−ジハロゲノエチ
ルアセテートの場合ハロゲンは互に同一である方が好ま
しい。アルコキシ又はアシルオキシとしては炭素数1〜
3の低級アルコキシ又は炭素数1〜3の低級アシルオキ
シが好ましい。
本発明において原料化合物(m)としては、合成上の容
易さと収率及び刺激性の点から1,2−ジハロゲノエチ
ルアセテートがよく、殊に、1.2−ジハロゲノエチル
アセテートと1−アシルオキシ−2−ハI」ゲノエチル
アセテートとの混合物が特に好ましい。上記1.2−ジ
ハロゲノエチルアセテートとして好ましいものはハロゲ
ンが臭素である1、2−ジブロモエチルアセテートであ
る。また上記混合物の場合の好ましい例は、1.2−ジ
ブロモエチルアセテートと2−ブロム−1,1−エタン
ジオールジアセテートの混合物であり、これらモル比が
1:2〜2:1のものが特に好ましい。
原料化合物(1)としては、酢酸ビニル以外のビニルエ
ステルから得られる同様の化合物群も用いることができ
る。
本発明において、原料化合物(II>又は(I[I)の
使用量は、1,3−シクロヘキサンジオンに対して1〜
5当邑、好ましくは1.1〜1.5当量の範囲が適当で
ある。
本発明に用いられるアンモニアはアンモニアガス、Sア
ンモニア水のいずれも使用できるが、アンモニアガスを
用いる方が反応の初期温度及び溶媒量を任意に決定でき
るので有利である。
アンモニアの使用量は1.3−シクロヘキサンジオンに
対して5〜30当量、好ましくは5〜10当量の範囲が
適当である。
本発明を実施するに際しては、原料化合物(I>及び(
II>又は(III)を水又は水とアルコール類、エー
テル類、炭化水素類等の均−又は二層系溶媒に加え、ア
ンモニア存在下で加熱することによって達成される。
上記溶媒のアルコール類としてはメタノール。
ブタノール等、エーテル類としてはテトラヒドロフラン
、ジオキサン等、炭化水素類としてはトルエン、ヘキサ
ン等がある。特に水又は水−アルコール類の溶媒が反応
の円滑性、収率の点で優れている。本発明においては水
を用いない反応系、例えばアルコール類のみの溶媒で行
うと収率が著しく低下する傾向がある。溶媒としてケト
ン類(アセトン等)、エステル類(酢酸エチル等)、ハ
ロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等)を用いると副
反応が多くなり、またカルボン酸類(酢酸等)では反応
系を酸性に傾けるため好ましくない。
本発明において目的物の収率は前記反応機構から推測さ
れるように反応温度に大きく左右される。反応の初期温
度が高いことは好ましく、また加温速度が早い方が好収
率を与える。しかしながら、あまり高い温度では化合物
(II)の分解を促進するため収率の低下は免れない。
本発明における好適な反応温度は120〜200’C1
特に135〜150’Cの範囲である。
反応はアンモニアの揮散を防ぐため密封容器中加圧下に
行うのがよく、反応時間は通常1〜7時間で十分である
反応に際して、アンモニアと共に炭酸アンモニウムや酢
酸アンモニウム等のアンモニアの有機酸塩又は無機酸塩
を併用したり、他の塩基、例えば水酸化ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム。
トリエチルアミン等を副生するハロゲン化水素酸や酢酸
等の除酸剤として用いることができる。
反応後目的物である4−オキンー4.5,6゜7−チト
ラヒドロインドールは、反応物の溶媒抽出によって高純
度で単離できる。更に再結晶、クロマトグラフィー等の
慣用の精製手段によって純粋の4−オキソ−4,5,6
,7−チトラヒドロインドールとすることができる。
(発明の効果) 本発明は原料として容易に入手可能な化合物を用いて一
段階反応でしかも短時間で目的物を好収率に得ることが
できるので工業的製法として非常に有利である。
(実施例) 実施例1 容量 200dlの耐圧ガラス管中に1,3−シクロヘ
キサンジオン1.120をとり、25重母%アンモニア
水7mlとメタノール5dを加えて溶かした。これに1
.2−ジブロムエチルアセテート2.95Clを加えて
密封しスターラー付油浴で加熱攪拌しながら145℃で
7時間反応させた。反応後反応液からメタノールを減圧
下で留去させ、残漬を温酢酸エチルで抽出し、該溶媒を
減圧下に留去して目的物4−オキソ−4,5,6,7−
チトラヒドロインドール0.98C]を得た(収率72
.4%)。このものはガスクロマトグラフィー分析(カ
ラム:0V−225(5%)/クロモソルブW  AW
−DMC3、以下GC分析という)により純度92.4
%であることが分った。また水から再結晶したものは融
点189.8〜191.0℃であり既知標品と一致した
実施例2 容Wi INのオートクレーブに1,3−シクロヘキサ
ンジオン56.OC]、水5007 、メタノール25
Mを入れ、更に1,2−ジブロムエチルアセテート14
7.5 qを加えて密封し、135℃の油浴に浸けて加
熱攪拌した。内温が80℃になった時アンモニアガスを
導入しオートクレーブの内圧を5.0〜5.5気圧に保
持した。5分後に内温か135℃に達してから該温度で
30分間アンモニアガスの導入を続けこの間オートクレ
ーブの内圧を6.0気圧に保った。その後アンモニアガ
スの導入を断ち、同温度で2時間30分間反応を継続さ
せた。アンモニアの全導入量は51.2Qであった。反
応後反応液を冷却し減圧下に濃縮してこれを60℃の温
酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、
該食塩水中に溶出した生成物を酢酸エチルで抽出回収し
、これら抽出液を脱水後活性倹約10を加えて濾過した
。濾液を減圧下に濃縮して目的物4−オキソ−4゜5.
6.7−チトラヒトロインドール48.3qを得た(収
率71.6%)。GC分析によりこのものの純度は97
.4%であった。
実施例3 1g 4号フラスコ中に酢酸ビニル148mf!と氷酢
酸35(7!をとり、5〜10℃で臭素78ml1を滴
下した。更に室温で1時間攪拌後、水400W11−四
塩化炭素40M中に反応液を投入し層分離した後、水層
から四塩化炭素50dによる抽出を3回行った。四塩化
炭素層を合わせ、水(100dX 2回)、飽和重曹水
(100m1X 1回)、飽和食塩水(50戒×1回)
の順による洗浄を行った後脱水し濾過した。濾過後の四
塩化炭素を減圧下に留去させ、残漬を減圧上蒸留して1
.2−ジブロムエチルアセテートと2−ブロム−1,1
−エタンジオールジアセテートの混合物(モル比1.5
  :  1   )  274.74CIを19Iこ
 (bp80〜125°C/35Torr>。
上記混合物から83.OC]を採取して各辺1でのオー
トクレーブに入れ、これに1,3−シクロヘキサンジオ
ン38.65 Q、水3907及びメタノール130m
1を加えて密封し、135℃の油浴に浸けて加熱攪拌し
た。内温か80℃になった時アンモニアガスを導入しオ
ートクレーブの内圧を5.0〜5.5気圧に保った。3
分後に内温か135℃に達してから該温度で45分間ア
ンモニアガスの導入を続はオートクレーブの内圧を5.
5気圧に保った。その後アンモニアガスの導入を断ち、
同温度で4時間15分間反応を継続した。アンモニアの
全導入量は36.2 gであった。
反応後反応液を冷却し実施例2と同様の後処理を行い4
−オキソ−4,5,6,7−チトラヒドロインドール3
5.36gを得た(収率75.9%)。
GO分析による純度は97.7%であった。
実施例4 容量 200allの耐圧ガラス管中に1,3−シクロ
ヘキサンジオン1.12qをとり40重量%クロロアセ
トアルデヒド水溶液2.4d、25重量%アンモニア水
4,2ml、メタノール5dを順次加えて密封し攪拌し
ながら145℃で7時間反応させた。
反応後の処理は実施例1と同様にして目的物0.68C
lを得た(収率50.4%)。GC分析による純度は8
1.3%であった。
実施例5 容量200dの耐圧ガラス管中に25重四%アンモニア
水21m1をとり、60℃以下で1,2−ジブロムエチ
ルアセテート8.85 CIを加えて溶かしブロムアセ
トアルデヒドのアンモニア水溶液とした。これに1.3
−シクロヘキサンジオン3.36にlとメタノール15
dを加えて密封し135℃で5時間反応させた。反応後
の処理は実施例1と同様にして目的物2.41 Gを得
た(収率59.5%)。GC分析による純度は92.7
%であった。
実施例6 還流器付フラスコにブロムアセタール94.6CJ及び
水10heの混合物と酸性イオン交換樹脂(「ダイヤイ
オンPK−2284三菱化成社製)10gを加えて4時
間還流した。冷却後樹脂を濾別し、更に水300m1で
洗浄した。濾液を1,3−シクロヘキサンジオン44.
8qとメタノール20Mを含む容量1gのオートクレー
ブに加えて密封し135°Cの油浴につけて加熱攪拌し
た。
内温か90℃になった時アンモニアガスを導入しオート
クレーブの内圧を5.0〜5.5気圧に保持した。7分
後に内温が135°Cに達してから該温度で30分間ア
ンモニアガスの導入を続はオートクレーブの内圧を6.
0気圧に保った。その後アンモニアガスの導入を断ち、
同温度で2時間30分間反応を継続した。アンモニアの
全導入量は40.30であった。反応後反応液を冷却し
、実施例2と同様の後処理を行って4−オキソ−4゜5
.6.7−チトラヒドロインドール30.99 CIを
得た(収率57.4%)。GC分析による純度は92.
2%であった。
実施例7 1.2−ジブロムエチルアセテート2.95CJの代り
に1,2−ジクロロエチルアセテート1.88gを用い
た以外は実施例1と同様にして目的物0.730を得た
(収率54,1%)。GO分析による純度は73.8%
であった。
実施例8〜10 1.2−ジブロムエチルアセテートの代りに表1の一般
式(DI)の化合物を用い、反応を135℃、5時間行
った以外は実施例1と同様にして表1の結果を得た。
一ニ 註 Me:メチル基、Pr:プロピル基比較例1 反応温度を100℃とした以外は実施例4と同様に行っ
たところ目的物0.27q (収率20%)が得られ、
このものの純度は79.3%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1,3−シクロヘキサンジオンと下記一般式(II)又は
    一般式(III)で表わされるハロアセトアルデヒド又は
    その誘導体をアンモニアの存在下120℃〜200℃で
    反応させることを特徴とする4−オキソ−4,5,6,
    7−テトラヒドロインドールの製法。 一般式(II) XCH_2CHO 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、上記一般式(II)、(III)において、Xはハ
    ロゲン原子、Yはハロゲン原子又は炭素数1〜3の低級
    アルコキシ基もしくは低級アシルオキシ基、ACはアセ
    チル基を表わす)
JP23068585A 1985-10-16 1985-10-16 4−オキソ−4,5,6,7−テトラヒドロインド−ルの製法 Granted JPS6289660A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010122584A (ja) * 2008-11-21 2010-06-03 Ricoh Co Ltd コロナ帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2010210969A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
US7937025B2 (en) 2008-09-12 2011-05-03 Ricoh Company, Ltd. Scorotron corona charger, process cartridge, and image forming apparatus
US8059992B2 (en) 2007-12-10 2011-11-15 Ricoh Company, Ltd. Corona charger, and process cartridge and image forming apparatus using same

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