JPS6290907A - 薄膜抵抗体の抵抗値調整方法 - Google Patents

薄膜抵抗体の抵抗値調整方法

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Publication number
JPS6290907A
JPS6290907A JP60231584A JP23158485A JPS6290907A JP S6290907 A JPS6290907 A JP S6290907A JP 60231584 A JP60231584 A JP 60231584A JP 23158485 A JP23158485 A JP 23158485A JP S6290907 A JPS6290907 A JP S6290907A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film resistor
resistance value
adjust
resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP60231584A
Other languages
English (en)
Inventor
小嶋 由紀夫
細川 善右エ門
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザトリミング法を用いて表面が境面を有す
る薄膜抵抗体の抵抗値を調整する薄膜抵抗体の抵抗値調
整方法に関するものである。
従来の技術 表面が鏡面を有する薄膜抵抗体は、面積抵抗が低いこと
や雑音特性が良いことが知られており、薄膜抵抗体の抵
抗値調整方法は数多く知られている。(例えば、特公昭
57−121201号公報。
特公昭5B−127302号公報、特公昭58−301
06号公報)。
発明が解決しようとする問題点 しかし、これらの抵抗値修正方法はマスクパターンを利
用する方法が多く、精度の高い抵抗値調整を行なうこと
ができなかった。また、前記の中にはレーザ光を用いて
抵抗値調整を行ない、精度を高くしているものもあるが
、レーザ光が限定されてしまう。また、表面が鏡面を有
する薄膜抵抗体に直接にレーザ光を照射すると鏡面のた
めにレーザ光が反射されてしまいエネルギー効率の高い
抵抗値調整ができなく、レーザ光のエネルギーを高めた
場合には、高エネルギーのために薄膜抵抗体のパターン
に荒れが生じ、雑音特性などが悪くなるという開運があ
った。
本発明はこのような問題点を解決するもので、表面が鏡
面を有する薄膜抵抗体を高精度に、かつ、エネルギー効
率を高くして抵抗値調整を行なうことを目的とするもの
である。
問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点を解決するために、絶縁体上に形成
されかつ表面が鏡面を有する薄膜抵抗体上を、不透明な
ガラスあるいは樹脂で覆い、前記ガラスあるいは樹脂上
よりレーザ光を照射してトリミングすることを特徴とす
る薄膜抵抗の抵抗値調整方法を提供するものである。
作用 この構成により、レーザ光は薄膜抵抗体に密着した不透
明なガラスあるいは樹脂に照射され、前記ガラスあるい
は樹脂が蒸発するとともに、薄膜抵抗体が蒸発しトリミ
ングされることとなる。
実施例 以下、本発明の一実施例を添付図面にもとづいて説明す
る。
第1図において、1は表面粗さが0.1μmのアルミナ
絶縁体であり、この絶縁体1上に、スパッタリングによ
りNi−0r合金糸の薄膜抵抗体2を100人の膜厚で
形成した。薄膜抵抗体2の表面は鏡面を有している。
3は銀ペーストで形成した電極であり、セリミンク時に
はここに抵抗値測定端子があてられて抵抗値を測定しな
がらトリミングされる。
4ば、不透明な黒色の樹脂であり、薄膜抵抗体2に密着
して形成されている。上記樹脂4上より、レーザ光5を
照射して、樹脂4と薄膜抵抗体2を蒸発させトリミング
して抵抗値調整を行なった。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば、表面が鏡面、
を有する抵抗体を各種のレーザ光により高精度に抵抗値
調整することが可能であり、実用的にきわめて有用であ
る。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例による方法を説明するための断面
図である。 1・・・・・・絶縁体、2・・・・・・薄膜抵抗体、3
・・・・・・電極、4・・・・・・樹脂、6・・・・・
・レーザ光。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 絶縁体上に形成されかつ表面が鏡面を有する薄膜抵抗体
    上を不透明なガラスあるいは樹脂で覆い、前記ガラスあ
    るいは樹脂上よりレーザ光を照射してトリミングするこ
    とを特徴とする薄膜抵抗体の抵抗値調整方法。
JP60231584A 1985-10-17 1985-10-17 薄膜抵抗体の抵抗値調整方法 Pending JPS6290907A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6293240B1 (en) 2000-03-28 2001-09-25 Fuji Oozx Inc. Valve spring retainer and a valve operating mechanism
US6311661B1 (en) 2000-03-28 2001-11-06 Fuji Oozx Inc. Valve spring retainer and a valve operating mechanism

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6293240B1 (en) 2000-03-28 2001-09-25 Fuji Oozx Inc. Valve spring retainer and a valve operating mechanism
US6311661B1 (en) 2000-03-28 2001-11-06 Fuji Oozx Inc. Valve spring retainer and a valve operating mechanism
US6341588B2 (en) 2000-03-28 2002-01-29 Fuji Oozx, Inc Valve spring retainer and a valve operating mechanism

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