JPS6292860A - サ−マルヘツド - Google Patents
サ−マルヘツドInfo
- Publication number
- JPS6292860A JPS6292860A JP60232572A JP23257285A JPS6292860A JP S6292860 A JPS6292860 A JP S6292860A JP 60232572 A JP60232572 A JP 60232572A JP 23257285 A JP23257285 A JP 23257285A JP S6292860 A JPS6292860 A JP S6292860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- thickness
- thermal
- film
- thermal head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 36
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 24
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 3
- 229910004479 Ta2N Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010041349 Somnolence Diseases 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感熱又は熱転写記録に用いられるサーマルヘッ
ド、特に薄膜型サーマルヘッドに関する。
ド、特に薄膜型サーマルヘッドに関する。
本発明はサーマルヘッドにおいて、絶縁性基板と発熱抵
抗体層０間に熱Ｏ反射率が高いＴｏ０２層を形成するこ
とによって、エネルギー効率を向ましいわゆるラフ紙へ
の印字を可能にしたものである。
抗体層０間に熱Ｏ反射率が高いＴｏ０２層を形成するこ
とによって、エネルギー効率を向ましいわゆるラフ紙へ
の印字を可能にしたものである。
サーマルヘッドには厚＠型と薄膜型があり、それぞれの
特徴を生かして普及してきたが、近年印字品質の高度化
■較求から高乱・変化が可能な薄膜型が主流となってき
た。
特徴を生かして普及してきたが、近年印字品質の高度化
■較求から高乱・変化が可能な薄膜型が主流となってき
た。
薄膜型サーマルヘッドは一般的には＠２図に示す様に絶
縁性基板１の上にグレーズガラス２を形成し、さらに発
熱抵抗体３とこれに通電するための亀原４．発熱抵抗本
の酸ｆヒを防ぐための酸ｆヒ防止膜５及び耐摩粍性保護
膜６から形成されている。
縁性基板１の上にグレーズガラス２を形成し、さらに発
熱抵抗体３とこれに通電するための亀原４．発熱抵抗本
の酸ｆヒを防ぐための酸ｆヒ防止膜５及び耐摩粍性保護
膜６から形成されている。
発熱抵抗体はパルス通電に耐え、感熱紙を発色させるか
、転写紙のインクを宕融させるだけ■熱駄を発生し、次
りパルス状電力印加までには速やかに冷却される心安が
ある。こ■要求金満たす材料としては、Ｔａ２Ｎ、 Ｔ
ｃＬｓｉｏ２等の薄膜が用いられている。この発熱抵抗
体層に通ｍする電股膜としては、０ｒ−Ａ１Ｌ膜、Ｗ膜
等が用いられている。岐ｆヒ防止嘆としては、ＳｉＯ２
が主に用いらｈており、耐摩粍性保護膜としては、Ｔｃ
ＬｚＯｓ ＊ ５ＺＣＩ ＳＺ３”４ 等■硬質薄膜が
用いられている１図２に示すように、発熱抵抗体にパル
ス電圧が印加され、電流が流れると、抵抗体が発熱する
。熱流はＱＰとなりて耐摩粍層を通して感熱記録紙側へ
ゆく部分と、熱流ＱＢとなって基板側へゆく部分、さら
に電圧や連続している耐摩粍層の隣りのドツト部への熱
流ＱＳＯ３敗分がある。一般的には、基板にグレーズド
ガラス・アルミナ基板を使用したヘッドドツトの場合で
、ＱＰが約２０％、 ＱＢが約４０％、 ＱＳが約４０
％■’１ｉｌＪ会で熱流が分配される。
、転写紙のインクを宕融させるだけ■熱駄を発生し、次
りパルス状電力印加までには速やかに冷却される心安が
ある。こ■要求金満たす材料としては、Ｔａ２Ｎ、 Ｔ
ｃＬｓｉｏ２等の薄膜が用いられている。この発熱抵抗
体層に通ｍする電股膜としては、０ｒ−Ａ１Ｌ膜、Ｗ膜
等が用いられている。岐ｆヒ防止嘆としては、ＳｉＯ２
が主に用いらｈており、耐摩粍性保護膜としては、Ｔｃ
ＬｚＯｓ ＊ ５ＺＣＩ ＳＺ３”４ 等■硬質薄膜が
用いられている１図２に示すように、発熱抵抗体にパル
ス電圧が印加され、電流が流れると、抵抗体が発熱する
。熱流はＱＰとなりて耐摩粍層を通して感熱記録紙側へ
ゆく部分と、熱流ＱＢとなって基板側へゆく部分、さら
に電圧や連続している耐摩粍層の隣りのドツト部への熱
流ＱＳＯ３敗分がある。一般的には、基板にグレーズド
ガラス・アルミナ基板を使用したヘッドドツトの場合で
、ＱＰが約２０％、 ＱＢが約４０％、 ＱＳが約４０
％■’１ｉｌＪ会で熱流が分配される。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかしなが
ら、従来ｐサーマルプリンタはインパクトタイプのプリ
ンタと比べて、いわゆるラフ紙ＮＧという点で、決定的
に劣っているため、サーマルプリンタには、ノンインパ
クトの静音記録であるというオリ点があるにもかかわら
ず、インパクトタイプのプリンタを代替するまでには到
ってＩＡｌへ いわゆるラフ紙対応ができない最大の理由ｌ−ｊ、、耐
久性を保持したままでエネルギー密度を十分にとること
ができないためである。
ら、従来ｐサーマルプリンタはインパクトタイプのプリ
ンタと比べて、いわゆるラフ紙ＮＧという点で、決定的
に劣っているため、サーマルプリンタには、ノンインパ
クトの静音記録であるというオリ点があるにもかかわら
ず、インパクトタイプのプリンタを代替するまでには到
ってＩＡｌへ いわゆるラフ紙対応ができない最大の理由ｌ−ｊ、、耐
久性を保持したままでエネルギー密度を十分にとること
ができないためである。
そこで本発明は従来Ｏこのような問題を解決するため、
絶縁性基板を発熱抵抗体層の間に熱反射率の高いＴｉＯ
２１−を形５３１：することにより、発熱記録紙側へゆ
く熱流ＱＰＯ熱量が増加させ、これによりエネルギー密
度を高くして、ラフ紙対応ができるサーマルヘッド？提
供することを目的とする。
絶縁性基板を発熱抵抗体層の間に熱反射率の高いＴｉＯ
２１−を形５３１：することにより、発熱記録紙側へゆ
く熱流ＱＰＯ熱量が増加させ、これによりエネルギー密
度を高くして、ラフ紙対応ができるサーマルヘッド？提
供することを目的とする。
本発明のサーマルヘッドは、絶縁性基板と発熱抵抗ｊ−
の間に、熱Ｏ反射率０高Ｖｈ ＴｚＬｌ ２ ＋傷を形
成したことを待漱とする。
の間に、熱Ｏ反射率０高Ｖｈ ＴｚＬｌ ２ ＋傷を形
成したことを待漱とする。
Ｔｚ（Ｊ、層の膜厚は、１００χ〜ｌμＯ間に限定され
る。限定理由としては、ＴｉＯ２０嗅厚が１μを超える
とクラックが入り易くなり、また基板側へゆく熱流ＱＢ
Ｏ熱置装かなり小さくなる。これにより連続記録の場合
発熱ドツト近傍部に熱が蓄積され、印字に尾引き現象を
生じるので、熱膜ＱＢＩｊむやみに小さくすることはで
きない９発熱ドツト■良否は、熱応答性と印加電力の小
さいこと′ｖ２点に基本があるが、膜厚が１μｍを超え
ると、印加電力が小さいことは満足できるが、熱応答性
の面で問題が起こり、高速性、高印字品質の面に悪影４
８１をおよぼす１次にＴｚＯ２ｊｄの膜厚が％１００Ａ
未満の場合であるがこの膜厚では、熱の反射の効果が少
いので、ＴｉＯ２卓の＠犀は少くとも１００Ａ以上の値
が要求される１本発明でのＴｉＯ２層の膜厚は、ｔｏｏ
Ｘ〜１μ要求されるが、好ましくは、２００〜ｘｏｏｏ
Ｘの膜厚である。
る。限定理由としては、ＴｉＯ２０嗅厚が１μを超える
とクラックが入り易くなり、また基板側へゆく熱流ＱＢ
Ｏ熱置装かなり小さくなる。これにより連続記録の場合
発熱ドツト近傍部に熱が蓄積され、印字に尾引き現象を
生じるので、熱膜ＱＢＩｊむやみに小さくすることはで
きない９発熱ドツト■良否は、熱応答性と印加電力の小
さいこと′ｖ２点に基本があるが、膜厚が１μｍを超え
ると、印加電力が小さいことは満足できるが、熱応答性
の面で問題が起こり、高速性、高印字品質の面に悪影４
８１をおよぼす１次にＴｚＯ２ｊｄの膜厚が％１００Ａ
未満の場合であるがこの膜厚では、熱の反射の効果が少
いので、ＴｉＯ２卓の＠犀は少くとも１００Ａ以上の値
が要求される１本発明でのＴｉＯ２層の膜厚は、ｔｏｏ
Ｘ〜１μ要求されるが、好ましくは、２００〜ｘｏｏｏ
Ｘの膜厚である。
第１表に、Ａ、／！、、０３． Ｔｚ’０２．の熱膨張
率、熱伝導率、および眠気抵抗を示す、第１六から、Ａ
７’１０３、 ＴｉＯ２とも熱膨張率では、同じ酢の直
を示している■で、サーマルヘッドが亮温に達した時、
熱膨張Ｑ差による絶縁性基板とＴｏｏ、層の間の破壊は
、考えられない。
率、熱伝導率、および眠気抵抗を示す、第１六から、Ａ
７’１０３、 ＴｉＯ２とも熱膨張率では、同じ酢の直
を示している■で、サーマルヘッドが亮温に達した時、
熱膨張Ｑ差による絶縁性基板とＴｏｏ、層の間の破壊は
、考えられない。
＠１氏（各種物註直の比較）
次に本発明を実施列に従って説明する。
第１図は本発明の一実施例によるサーマルヘッドの発熱
体部近傍を示している。ｌは絶縁性基板７ｔ１５００
Ａｌ９ｊＯ’ｈ：０２１’Ｊ、 ２ｔｆクレ−ス、 ３
ｔｉＯ，２１Ｊ／ｒＩＬ厚の７．２ＮＯ薄膜抵抗層、
４ｔｔｌ ｎｍ１ｊ２）Ｗｔ隠５は１μｍ厚の＋Ｂｏ、
酸化防止層、６は４μｍ厚のＴａ２０５層で耐摩粍性保
護層である。
体部近傍を示している。ｌは絶縁性基板７ｔ１５００
Ａｌ９ｊＯ’ｈ：０２１’Ｊ、 ２ｔｆクレ−ス、 ３
ｔｉＯ，２１Ｊ／ｒＩＬ厚の７．２ＮＯ薄膜抵抗層、
４ｔｔｌ ｎｍ１ｊ２）Ｗｔ隠５は１μｍ厚の＋Ｂｏ、
酸化防止層、６は４μｍ厚のＴａ２０５層で耐摩粍性保
護層である。
Ｔｚ’Ｏ，Ｉｄと薄膜抵抗層は、スパッタ法で形我シ、
フォトリングラフ技術を用いて発熱体形状を形成した。
フォトリングラフ技術を用いて発熱体形状を形成した。
エツチングは、ＴＡＵ、層と薄膜抵抗ｊ−の２層を同時
にドライエツチングしＴｉ０２層は上部の薄膜抵抗層を
同じ形状になる。Ｗ電圧は蒸着法で形成し、やはりフォ
トリソグラフを用いて電画形状を形成した。酸化防止層
と耐摩粍性保護層はスパッタ法で形成した。
にドライエツチングしＴｉ０２層は上部の薄膜抵抗層を
同じ形状になる。Ｗ電圧は蒸着法で形成し、やはりフォ
トリソグラフを用いて電画形状を形成した。酸化防止層
と耐摩粍性保護層はスパッタ法で形成した。
本実施例におけるＴｚＯ２層のスパッタ条件は次Ｏ通り
である。基板温度２５０℃、Ａｒ分圧５．５×１０−”
ＴＯ？Ｔ、本スパッタは２Ａ、３６０Ｖの条件におい
て、 １００Ａ／ｗｉｎ Ｇり堆積速度が得られた。
である。基板温度２５０℃、Ａｒ分圧５．５×１０−”
ＴＯ？Ｔ、本スパッタは２Ａ、３６０Ｖの条件におい
て、 １００Ａ／ｗｉｎ Ｇり堆積速度が得られた。
本実施例によるサーマルヘッドＶ）％性を比較する列と
して、第２図に示すような構造の一般的なサーマルヘラ
下を！！造した。１は絶縁性基板、２はグレーズガラス
、３は０．２μｍ厚のＴａ２Ｂ１ の薄膜抵抗層、４
は２μｍ厚のｗｔｆｆ；、５は１μｍ厚のｓｈｏ 、■
酸化防止＠、６は１０μ毒厚の’Ｉ’ｃＬｚＯｓの耐摩
粍性保護膜である。実施例と比較例のサーマルヘッドに
ついて、熱転写方式で平滑度５秒のラフ紙への印字テス
トを行なった。嘉２表に印字テスト条件を、真３表に印
字できるまでの印加電力とその条件で駆動した時の耐摩
粍性保護膜のクラック発生までのパルス数の結果を示す
、范３表の結果から、本発明によるサーマルにヘッドは
、平滑度５秒のラフ紙に印字しても耐久性が十分ある。
して、第２図に示すような構造の一般的なサーマルヘラ
下を！！造した。１は絶縁性基板、２はグレーズガラス
、３は０．２μｍ厚のＴａ２Ｂ１ の薄膜抵抗層、４
は２μｍ厚のｗｔｆｆ；、５は１μｍ厚のｓｈｏ 、■
酸化防止＠、６は１０μ毒厚の’Ｉ’ｃＬｚＯｓの耐摩
粍性保護膜である。実施例と比較例のサーマルヘッドに
ついて、熱転写方式で平滑度５秒のラフ紙への印字テス
トを行なった。嘉２表に印字テスト条件を、真３表に印
字できるまでの印加電力とその条件で駆動した時の耐摩
粍性保護膜のクラック発生までのパルス数の結果を示す
、范３表の結果から、本発明によるサーマルにヘッドは
、平滑度５秒のラフ紙に印字しても耐久性が十分ある。
第２表（印字テスト条件）
第３表（印加電力とクラック発生状況）上の結果から、
本発明によるサーマルヘッドと従来のサーマルヘッドは
耐久性の点で大きな差力ぶある。ｉ来ｚサーマルヘッド
は５秒のラフ紙に印字するための印加電力が１．５Ｗ／
ドツトと高くなりすぎて、クラックが容易に発生し、ま
た放熱が悪いため、印字の際いわゆる尾引きが生ずるの
で、実質的にはラフ紙への印字は不可能である。
本発明によるサーマルヘッドと従来のサーマルヘッドは
耐久性の点で大きな差力ぶある。ｉ来ｚサーマルヘッド
は５秒のラフ紙に印字するための印加電力が１．５Ｗ／
ドツトと高くなりすぎて、クラックが容易に発生し、ま
た放熱が悪いため、印字の際いわゆる尾引きが生ずるの
で、実質的にはラフ紙への印字は不可能である。
次に、上記７）２隠類Ｏへ・ラドを用いて、平滑度２０
０秒０印字用紙に熱転写方式で、漢字を印字した時の最
高印字速度を第４表に示す。
０秒０印字用紙に熱転写方式で、漢字を印字した時の最
高印字速度を第４表に示す。
釘４表（最高印字速度）
本実施しリでは、従来のサーマルヘッドをはるかにしの
ぐ印字速度が借られた。
ぐ印字速度が借られた。
本実施例では、ＴｚＯ２１習の膜厚を５０ＯＡとしたが
こ■膜厚が、熱応答性、印加電力が小さいという面から
考えると、この２つの条件を満たしている最も適した膜
厚である１本発明でＧＤ Ｔｊｏ ２層の膜厚は、１ｏ
ｏｘ〜１μｍの範囲で印字が可能となるが、Ｔｉ口２１
−の膜厚が１００λ未満であると、との膜厚では熱の反
射の効果が少いので、Ｔ（０２層のｉ厚は少くとも１０
０Ａｔ−超えた直が要求される。またＴ６ｏ 、層■膜
厚力５１ムｍを超えると、印加電力が小さいことは満足
できるが、いわゆる尾引き現象が起こり、熱応答性が慈
〈なり、高速性、高印字品質の面に悪影＃ｊ／、をおよ
ぼす。
こ■膜厚が、熱応答性、印加電力が小さいという面から
考えると、この２つの条件を満たしている最も適した膜
厚である１本発明でＧＤ Ｔｊｏ ２層の膜厚は、１ｏ
ｏｘ〜１μｍの範囲で印字が可能となるが、Ｔｉ口２１
−の膜厚が１００λ未満であると、との膜厚では熱の反
射の効果が少いので、Ｔ（０２層のｉ厚は少くとも１０
０Ａｔ−超えた直が要求される。またＴ６ｏ 、層■膜
厚力５１ムｍを超えると、印加電力が小さいことは満足
できるが、いわゆる尾引き現象が起こり、熱応答性が慈
〈なり、高速性、高印字品質の面に悪影＃ｊ／、をおよ
ぼす。
Ｔｈｏ １層０膜ＩＩＬは以上■理由から、１００五〜
１μｍ■膜厚が必要であり、好ましくは２００Ａ〜１０
００Ａ■換厚である。
１μｍ■膜厚が必要であり、好ましくは２００Ａ〜１０
００Ａ■換厚である。
本発明は、以と説明したように、絶縁性基板と発熱抵抗
体層の間に、熱の反射率が高ＩＡＴｉ０２層を形収した
ことにより以下に上ける効果が得られた。
体層の間に、熱の反射率が高ＩＡＴｉ０２層を形収した
ことにより以下に上ける効果が得られた。
←）エネルギー効率がよくなり、低干滑紙へＯ印字が低
エネルギーでも可能になりた。
エネルギーでも可能になりた。
（ロ）エネルギー密度が上がり、高速印字ができるよう
になった。
になった。
（ハ）エネルギー効率がよく、なり発熱体を通す印加電
力が低エネルギーですむので、材質に負托がかからず材
質■耐久性がよくなり高い＠勅性が得られた。
力が低エネルギーですむので、材質に負托がかからず材
質■耐久性がよくなり高い＠勅性が得られた。
巣１図は本発明のサーマルヘッドの発熱抵抗体付近■断
面図、第２図は従来■サーマルヘッドの発熱抵抗体付近
の断面図である。 ｌ・・＃？２Ｒ注基板 ２−・・グレーズガラス ３・・・発熱抵抗体 ４・・・電極 ５・・・酸化防止膜 ６・・・耐摩粍性保ｉ嗅 ７・・・Ｔｉｏ ２層 以 上
面図、第２図は従来■サーマルヘッドの発熱抵抗体付近
の断面図である。 ｌ・・＃？２Ｒ注基板 ２−・・グレーズガラス ３・・・発熱抵抗体 ４・・・電極 ５・・・酸化防止膜 ６・・・耐摩粍性保ｉ嗅 ７・・・Ｔｉｏ ２層 以 上
Claims (1)
- 絶縁性基板上にグレーズガラスと発熱抵抗体層と、これ
に通電する電極膜を有し、さらにその上に耐摩粍性保護
膜を形成してなるサーマルヘッドにおいて、グレーズガ
ラスと発熱抵抗体層の間に０．０１〜１μｍ厚のＴｉＯ
＿２層を形成したことを特徴とするサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60232572A JPS6292860A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | サ−マルヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60232572A JPS6292860A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | サ−マルヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292860A true JPS6292860A (ja) | 1987-04-28 |
Family
ID=16941444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60232572A Pending JPS6292860A (ja) | 1985-10-18 | 1985-10-18 | サ−マルヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292860A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03208671A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-11 | Alps Electric Co Ltd | サーマルヘッド |
| JPH03297663A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Alps Electric Co Ltd | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
-
1985
- 1985-10-18 JP JP60232572A patent/JPS6292860A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03208671A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-11 | Alps Electric Co Ltd | サーマルヘッド |
| JPH03297663A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Alps Electric Co Ltd | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03506006A (ja) | 改善された多層保護構造を有する加熱素子用のバブルジェットプリントヘッド | |
| JPS6295239A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JPS6292860A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JPH04288244A (ja) | サーマルヘッド | |
| JP2815146B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド用基体及びインクジェット記録ヘッド並びに該記録ヘッドを具備するインクジェット記録装置 | |
| JPH02292058A (ja) | 厚膜型サーマルヘッド | |
| JPS62255161A (ja) | サ−マルヘツド | |
| US5387460A (en) | Thermal printing ink medium | |
| JPS6072750A (ja) | 感熱記録ヘツド | |
| JP2837963B2 (ja) | サーマルヘッド | |
| JPS60178068A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JP2895317B2 (ja) | 記録媒体の摺接部品 | |
| JPH1191148A (ja) | 端面型・エッジ型サ−マルヘッド | |
| JPH07223317A (ja) | インクジェット記録装置 | |
| JPH01299058A (ja) | 薄膜型サーマルヘッド | |
| JPS5857975A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JP2731453B2 (ja) | サーマルヘッド用基板およびその製造方法 | |
| JP3313953B2 (ja) | サーマルヘッド | |
| JPH01286863A (ja) | サーマルヘッド | |
| JPS6054868A (ja) | サ−マルプリントヘツド | |
| JPS63144058A (ja) | サ−マルヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH0437552A (ja) | インクジェット記録装置 | |
| JPS60206677A (ja) | 直接熱転写記録方法及び直接熱転写記録ヘツド | |
| JPH0582823B2 (ja) | ||
| JPH0250848A (ja) | サーマルヘッド |