JPS629518A - 磁気記録体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録体及びその製造方法Info
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- JPS629518A JPS629518A JP14861385A JP14861385A JPS629518A JP S629518 A JPS629518 A JP S629518A JP 14861385 A JP14861385 A JP 14861385A JP 14861385 A JP14861385 A JP 14861385A JP S629518 A JPS629518 A JP S629518A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、データを磁気的に記録する磁気記録体に関し
、特に垂直磁気記録によりデータを記録する磁気記録体
に関し、詳しくは高トラツク密度で問題となるトラ、ク
キング精度に係わるオフトラック特性を改善した磁気記
録体及びその製造方法に関する。
、特に垂直磁気記録によりデータを記録する磁気記録体
に関し、詳しくは高トラツク密度で問題となるトラ、ク
キング精度に係わるオフトラック特性を改善した磁気記
録体及びその製造方法に関する。
（従来技術とその問題点）
磁気記録装置の記録密度の向上は斯界の変わらぬ趨勢で
ある。従来磁気記録装置で用いられる磁気記録体は一般
に記録媒体の長手方向に磁化し記録再生を行なうが、密
度の増大とともに反磁界の影替により記録密度に限界が
あり、より高密度化が可能となる記録媒体の媒体面に垂
直に磁化する′垂直磁気記録方式が提案され従来の記録
密度の１桁以上の値を達成している。
ある。従来磁気記録装置で用いられる磁気記録体は一般
に記録媒体の長手方向に磁化し記録再生を行なうが、密
度の増大とともに反磁界の影替により記録密度に限界が
あり、より高密度化が可能となる記録媒体の媒体面に垂
直に磁化する′垂直磁気記録方式が提案され従来の記録
密度の１桁以上の値を達成している。
ここで用いられる垂直磁気記録媒体としては、スパッタ
法、蒸着法によって形成したＣｏＣｒ単層垂直媒体及び
パーマロイ（ＮｉＦｅ）を下地膜としたＣｏＣｒ／Ｎｉ
Ｆｅ２層膜媒体がある。なかでも２層膜垂直媒体は、磁
束のリターンパスを具備した単磁極型の垂直ヘッドの組
み合せにより理想的な垂直記録が可能であり高密度記録
が達成されている。
法、蒸着法によって形成したＣｏＣｒ単層垂直媒体及び
パーマロイ（ＮｉＦｅ）を下地膜としたＣｏＣｒ／Ｎｉ
Ｆｅ２層膜媒体がある。なかでも２層膜垂直媒体は、磁
束のリターンパスを具備した単磁極型の垂直ヘッドの組
み合せにより理想的な垂直記録が可能であり高密度記録
が達成されている。
このように垂直磁気記録方式においては、媒体に垂直磁
気異方性を持たせることにより記録媒体面上トラック方
向の線密度を大幅に向上させることが可能であるが、こ
れをさらに光ディスク並に密度を向上させるためには、
トラ、り密度を１桁以上増大させる必要がある。トラッ
ク密度の増大にともなって十分なトラ、キング精度が得
られないことにより消去残りによるノイズの発生、また
隣接トラックのトラ、キングづれによるクロストークの
ノイズによる８７Ｎ比（Ｓ：信号、Ｎ：雑音）の低下の
問題が生じてくる。
気異方性を持たせることにより記録媒体面上トラック方
向の線密度を大幅に向上させることが可能であるが、こ
れをさらに光ディスク並に密度を向上させるためには、
トラ、り密度を１桁以上増大させる必要がある。トラッ
ク密度の増大にともなって十分なトラ、キング精度が得
られないことにより消去残りによるノイズの発生、また
隣接トラックのトラ、キングづれによるクロストークの
ノイズによる８７Ｎ比（Ｓ：信号、Ｎ：雑音）の低下の
問題が生じてくる。
（発明の目的）
本発明の目的は、上記問題点を解決し、基板上形成され
た軟磁性膜の表面に垂直に磁気異方性を有する磁性膜を
形成し、データトラック下の軟磁性膜の残留磁化の大き
さをガートバンドトラック下の軟磁性膜の残留磁化の値
よりも大きくすることにより、ノイズが防止され、Ｓ／
Ｎ比が向上する磁気記録媒体およびその製造方法を提供
することにある。
た軟磁性膜の表面に垂直に磁気異方性を有する磁性膜を
形成し、データトラック下の軟磁性膜の残留磁化の大き
さをガートバンドトラック下の軟磁性膜の残留磁化の値
よりも大きくすることにより、ノイズが防止され、Ｓ／
Ｎ比が向上する磁気記録媒体およびその製造方法を提供
することにある。
（発明の構成）
本発明は、基体上に５０Ｏｅ以下の保磁力の軟磁性膜が
形成され、該軟磁性膜上に膜面に垂直に磁気異方性を有
する磁性膜が形成された磁気記録体において、前記軟磁
性膜のデータトラック下の部分の残留磁化の大きさが前
記データトラック間のガートバンドトラック下の部分の
残留磁化の大きさよりも大きいことｔ％徴とする。
形成され、該軟磁性膜上に膜面に垂直に磁気異方性を有
する磁性膜が形成された磁気記録体において、前記軟磁
性膜のデータトラック下の部分の残留磁化の大きさが前
記データトラック間のガートバンドトラック下の部分の
残留磁化の大きさよりも大きいことｔ％徴とする。
本発明の磁気記録体の製造方法は、基体上に軟磁性膜を
形成する軟磁性膜形成手段と、該軟磁性膜上に膜面に垂
直に磁気異方性を有する磁性膜を形成する磁性膜形成手
段と、少くとも前記軟磁性膜が形成された前記基体のデ
ータトラックに相当する領域に光を照射して加熱する加
熱手段とを含んで構成される。
形成する軟磁性膜形成手段と、該軟磁性膜上に膜面に垂
直に磁気異方性を有する磁性膜を形成する磁性膜形成手
段と、少くとも前記軟磁性膜が形成された前記基体のデ
ータトラックに相当する領域に光を照射して加熱する加
熱手段とを含んで構成される。
（実施例）
次に本発明について図面を用いて説明する。
第１図、第２図はそれぞれ本発明の一実施例の磁気ディ
スクの一部を切断して模式的に示す斜視図とその製造方
法を示す斜視図である。
スクの一部を切断して模式的に示す斜視図とその製造方
法を示す斜視図である。
無電解または電解メッキによりアルミ合金等の基体６の
表面に比較的低温（１５０〜２００℃）のアニールで磁
性が出現もしくは大きくなる二。
表面に比較的低温（１５０〜２００℃）のアニールで磁
性が出現もしくは大きくなる二。
ケルリン膜４を軟磁性膜として形成し、二、ケルリン膜
４上に垂直に磁気異方性を有する磁性膜°３を形成した
のち、もしくは磁性膜３の形成に先立ち、データトラッ
クＩＫ相当する領域に第２図に示すようにレーザー光を
照射し加熱することにより、ニッケルリン膜４のデータ
トラック１の下の部分を結晶させ、残留磁化を増大させ
かつ軟磁化させた高残留磁化領域５を設ける。
４上に垂直に磁気異方性を有する磁性膜°３を形成した
のち、もしくは磁性膜３の形成に先立ち、データトラッ
クＩＫ相当する領域に第２図に示すようにレーザー光を
照射し加熱することにより、ニッケルリン膜４のデータ
トラック１の下の部分を結晶させ、残留磁化を増大させ
かつ軟磁化させた高残留磁化領域５を設ける。
この第１図に示す実施例に主磁極励磁型の垂直ヘッドを
用いた場合、データトラックｌにおいてはニッケルリン
膜４の高残留磁化領域５の軟磁性化により、記録、再生
感度が大幅に増大し高出力が得られ、かつ高密度記録が
可能となる。
用いた場合、データトラックｌにおいてはニッケルリン
膜４の高残留磁化領域５の軟磁性化により、記録、再生
感度が大幅に増大し高出力が得られ、かつ高密度記録が
可能となる。
これによりトラッキング偏倚によりデータトラック１間
のガートバンドトラック２への記録からの出力はデータ
トラック１からの出力に較べて十分小さくでき、隣接ト
ラックでのトラッキング偏倚による記録領域からのクロ
ストーク等も抑制することができ、Ｓ／Ｎの大きい信号
が得られる。
のガートバンドトラック２への記録からの出力はデータ
トラック１からの出力に較べて十分小さくでき、隣接ト
ラックでのトラッキング偏倚による記録領域からのクロ
ストーク等も抑制することができ、Ｓ／Ｎの大きい信号
が得られる。
第１図に示す実施例では、アルミ合金の基板６上に無電
解メッキ法によりニッケルリン膜４を１０μｍ形成した
。形成したニッケルリン膜４の残留磁化は３ Ｑ ｅｍ
ｕ／ｃｃであった。ニッケルリン膜４を核種した基板は
、研磨により通常磁気ディスク基板として使用される表
面粗さに加工仕上げを行ったＯ 研磨仕上けを行った基板上にＣｏＣｒをターゲットとし
てスパッタにより膜厚０．２μｍの磁性膜３を形成した
。この磁性膜３の残留磁化Ｍｓは３０Ｏｅｍｕ／ＣＣ＊
垂直の保磁力ＨＣＬは５００Ｏｅでありた。
解メッキ法によりニッケルリン膜４を１０μｍ形成した
。形成したニッケルリン膜４の残留磁化は３ Ｑ ｅｍ
ｕ／ｃｃであった。ニッケルリン膜４を核種した基板は
、研磨により通常磁気ディスク基板として使用される表
面粗さに加工仕上げを行ったＯ 研磨仕上けを行った基板上にＣｏＣｒをターゲットとし
てスパッタにより膜厚０．２μｍの磁性膜３を形成した
。この磁性膜３の残留磁化Ｍｓは３０Ｏｅｍｕ／ＣＣ＊
垂直の保磁力ＨＣＬは５００Ｏｅでありた。
次に第２図に示すように基板を回転させ、予め決められ
たトラック密度に対応するデータトラック１上にＣＯ：
レーザー照射装置８からのレーザー光７をレンズ９によ
り集光して照射し、加熱した。
たトラック密度に対応するデータトラック１上にＣＯ：
レーザー照射装置８からのレーザー光７をレンズ９によ
り集光して照射し、加熱した。
同一条件のレーザー光で加熱した領域のニッケルリン膜
の残留磁化は２００ ｅｍｕ／ｅｅに増加し、保磁力は
１０Ｏｅであった◎ 効果を確認するために、第１図に示す実施例のデータト
ラック１とガートバンドトラック２の記録再生特性を主
磁極から媒体への磁束のリターンパス構造を有した主憔
極励磁屋の垂直磁気ヘッドを用いて測定した。主磁極膜
には膜厚０．３μｍのＣｏＺｒＮｂ膜を用いた。その結
果は、第３図（曲線１０がデータトラック１９曲線１１
がガートバンドトラック２の特性を示す）に示すように
データトラック１上では孤立波出力のｌ／２となる出力
の記録密度Ｄｓｏは５ｏＫＦＲＰＩであり、一方ガード
バンドトラック２上では弧立波出力の１／２となる出力
の記録密度Ｉ）ｉｏは５０ＫＦ几ＰＩであった。また出
力はデータトラック１上ではガートバンドトラック２上
より２．３倍大きかった。
の残留磁化は２００ ｅｍｕ／ｅｅに増加し、保磁力は
１０Ｏｅであった◎ 効果を確認するために、第１図に示す実施例のデータト
ラック１とガートバンドトラック２の記録再生特性を主
磁極から媒体への磁束のリターンパス構造を有した主憔
極励磁屋の垂直磁気ヘッドを用いて測定した。主磁極膜
には膜厚０．３μｍのＣｏＺｒＮｂ膜を用いた。その結
果は、第３図（曲線１０がデータトラック１９曲線１１
がガートバンドトラック２の特性を示す）に示すように
データトラック１上では孤立波出力のｌ／２となる出力
の記録密度Ｄｓｏは５ｏＫＦＲＰＩであり、一方ガード
バンドトラック２上では弧立波出力の１／２となる出力
の記録密度Ｉ）ｉｏは５０ＫＦ几ＰＩであった。また出
力はデータトラック１上ではガートバンドトラック２上
より２．３倍大きかった。
したがってデータトラック１上で５ｏＫＦＲＰＩ以上の
記録密度ではガートバンドトラック２からの再生出力は
データトラックｌの出力に較べて十分小さくでき、デー
タトラックｌを媒体面で規定することにより良好なオフ
トラック特性を得ることが出来た。
記録密度ではガートバンドトラック２からの再生出力は
データトラックｌの出力に較べて十分小さくでき、デー
タトラックｌを媒体面で規定することにより良好なオフ
トラック特性を得ることが出来た。
また第１図に示す実施例の記録再生出力は、軟磁性膜４
の保磁力にも依存し、第４図に示すように軟磁性膜４の
保磁力が５０Ｏｅ以下で増大した。
の保磁力にも依存し、第４図に示すように軟磁性膜４の
保磁力が５０Ｏｅ以下で増大した。
なお第１図に示す実施例の製造方法では、基板上ニッケ
ルリン膜４に続いて磁性＠３を形成した後レーサー光７
によシ加熱してもよいし、基板６上にニッケル・リン膜
４を形成してレーサー光７により加熱した後に磁性膜３
を形成しても良い。
ルリン膜４に続いて磁性＠３を形成した後レーサー光７
によシ加熱してもよいし、基板６上にニッケル・リン膜
４を形成してレーサー光７により加熱した後に磁性膜３
を形成しても良い。
（発明の効果）
本発明は以上説明したように、軟磁性膜の上に膜面に垂
直に磁気異方性を有する磁性膜を形成し、軟磁性膜のデ
ータトラック下の部分の残留磁化の大きさをガートバン
ドトラック下の部分の残留磁化の大きさよりも大きくす
ることにより、ガードバンドトラックからの再生出力を
十分小さくでき、隣接トラックからのクロストークを抑
制できる効果がある。
直に磁気異方性を有する磁性膜を形成し、軟磁性膜のデ
ータトラック下の部分の残留磁化の大きさをガートバン
ドトラック下の部分の残留磁化の大きさよりも大きくす
ることにより、ガードバンドトラックからの再生出力を
十分小さくでき、隣接トラックからのクロストークを抑
制できる効果がある。
第１図および第２図はそれぞれ本発明の一実施例の一部
を示す斜視図およびその製造方法を示す斜視図、第３図
および第４図はそれぞれ第１図に示す実施例の記録再生
出力の記録密度との関係を示すグラフおよびニッケルリ
ン膜の保磁力との関係を示すグラフである。 １・・・・・・データトラック、２・・・・・・ガート
バンドトラック、３・・・・・・磁性膜、４・・・・・
・ニッケルリン膜、５・・・・・・高残留磁化領域、６
・・・・・・基板、７・・・・・・レーザ光、８・・・
・・・レーザ照射装置、９・・・・・・レンズ。 ！： データトラック ２：ｆ）”−トノＶラド
トラ・ソフ３ ； 掴ヒ直、６岐、り（＄方４ケｆ４ｉ
Ｊ−４：４１にダ久゛留瑳Ｉ乙ニッケＩムＩ））β更５
：關溜纜伽、ｂ：１＋ 笛 ｌ 区 ！ ｌ ： デ°−タトラック 乙 ： 基イ苓 ７：ｐ−ｔｒ一応 ６ Ｓ し−ず°′−照身寸装Ｌ ８２図 紀銖′１ｇ度（ＫＦＲＰＩ ）
を示す斜視図およびその製造方法を示す斜視図、第３図
および第４図はそれぞれ第１図に示す実施例の記録再生
出力の記録密度との関係を示すグラフおよびニッケルリ
ン膜の保磁力との関係を示すグラフである。 １・・・・・・データトラック、２・・・・・・ガート
バンドトラック、３・・・・・・磁性膜、４・・・・・
・ニッケルリン膜、５・・・・・・高残留磁化領域、６
・・・・・・基板、７・・・・・・レーザ光、８・・・
・・・レーザ照射装置、９・・・・・・レンズ。 ！： データトラック ２：ｆ）”−トノＶラド
トラ・ソフ３ ； 掴ヒ直、６岐、り（＄方４ケｆ４ｉ
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Claims (2)
- （１）基体上に５０Ｏｅ以下の保磁力の軟磁性膜が形成
され、該軟磁性膜上に膜面に垂直に磁気異方性を有する
磁性膜が形成された磁気記録体において、前記軟磁性膜
のデータトラック下の部分の残留磁化の大きさが前記デ
ータトラック間のガードバンドトラック下の部分の残留
磁化の大きさよりも大きいことを特徴とする磁気記録体
。 - （２）基体上に軟磁性膜を形成する軟磁性膜形成手段と
、該軟磁性膜上に膜面に垂直に磁気異方性を有する磁性
膜を形成する磁性膜形成手段と、少くとも前記軟磁性膜
が形成された前記基体のデータトラックに相当する領域
に光を照射して加熱する加熱手段とを含むことを特徴と
する磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148613A JPH0766510B2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 磁気記録体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148613A JPH0766510B2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 磁気記録体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629518A true JPS629518A (ja) | 1987-01-17 |
| JPH0766510B2 JPH0766510B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=15456697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60148613A Expired - Lifetime JPH0766510B2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 磁気記録体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766510B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02257427A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 垂直磁気記録媒体 |
| JPH02257426A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 垂直磁気記録媒体 |
| US7361419B2 (en) | 2003-02-04 | 2008-04-22 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Substrate for a perpendicular magnetic recording medium, perpendicular magnetic recording medium, and manufacturing methods thereof |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS523340A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-11 | Nec Corp | Indication plate driving system |
| JPS57133487A (en) * | 1981-02-12 | 1982-08-18 | Nippon Electric Co | Voltage level output circuit |
| JPS58118029A (ja) * | 1982-01-05 | 1983-07-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 垂直磁気記録用両面記録媒体 |
| JPS58122595A (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-21 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置駆動回路 |
| JPS61237231A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-22 | Nec Corp | 磁気記録体及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP60148613A patent/JPH0766510B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US7361419B2 (en) | 2003-02-04 | 2008-04-22 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd. | Substrate for a perpendicular magnetic recording medium, perpendicular magnetic recording medium, and manufacturing methods thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0766510B2 (ja) | 1995-07-19 |
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