JPS6295204A - デイスクメモリ−の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光ディスクメモリー、光磁気ディスクメモリ
ー等のディスクメモリーの製造法に関する。

（従来の技術） 光ディスクメモリー、光磁気ディスクメモリー等のディ
スクメモリーは、案内溝や情報用の信号として凸凹を形
成したスタンパ上にレプリ　、力用樹脂を塗布し、ガラ
ス等のディスク用基板を密着して重ね含せレプリカ用樹
脂を硬化させた後、スタンパをレプリカ用樹脂から剥離
し、レプリカ用樹脂の凹凸面にテルル酸化物等の記録薄
膜を形成させ、更に必要に応じて保珈層を設けて製造し
ている。この時ディスク用基板とレプリカ樹脂との密層
力を同上させる為に、通常、プライマーを予め光ディス
ク用基板に塗布している。

（発明が解決しようとする問題点ノ ディスク用基板に、プライマー全塗布する方法は、プラ
イマーによって基板の表面を改良し、レプリカ用樹脂と
の密着力を向上させようとするものであるが、多少の改
善は、あるものの根本的な解決には至っておらず、又、
ブライマーの塗布方法は、成膜の均一性の点から、スピ
ンコード法が用いらｎており、この方法は、プライマー
に溶剤が含ま几でいる場合は、設備の防及び衛生対策が
必要であり、かつ、スピンコード時間及びプライマー乾
燥時間が長いとい５問題点がある。

本発明は、光ディスク用基板にプライマーを塗布するこ
となく、レプリカ用レジンとの密層力を向上させるディ
スクメモリーのＩＩＡ造法全提供するものである。

（問題点を解決するための手段）　　　　′本発明にデ
ィスク用基板に、波長２５５７Ａ以下の紫外線を照射し
た後、レプリカ用梢脂層に密着重ね合せることを特徴と
する。

すなわち、本発明は、２５５７Ａ以下、好まの紫外線を
ディスク用基板の表面に数秒から数百秒の時間照射し、
基板表面を改質して、レプリカ用樹脂との密着力を向上
させるものである。

本発明で使用さｎるディスク用基杼としてに、ガラス、
ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂
、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が代表的に
挙げら几るが、本発明はこｎらに限定さ几るものではな
い。

レプリカ樹脂としては、アクリル系、エポキシ系樹脂等
通常のものが使用さＩしる。

レプリカ用樹脂を硬化させるのは、ＵＶ照射、加熱等で
行い得る。記録薄膜としては光ディスクメモＩＪ−１光
磁気ディスクメモリー等のディスクメモリーの記録薄膜
として通常便用さＩＬるものが使用さｎる。

（実施例） エポキシ樹脂製光ディスク用基板に紫外線照射装置（ウ
シオ電気社製ＦｏＴｏＬＥｘ、ＵＦＣ−２０１８Ｂ）を
用い、２０秒間の紫外線照射を行った。

次ニＮ　ｉ製スタンパ上にレプリカ用樹脂を滴下し、そ
の上へ上記エポキシ樹脂製光ディスク用基板を密着し、
基板側から高圧水銀ランプによシ、紫外線を５０秒間照
射した。その後に、スタンパと光ディスク用基板全剥離
したところ、レプリカ用樹脂に光ディスク用基板に全て
接層しており、その接着力をクロスカットで測定した結
果は１００／１ｏｏ　　と良好であった。記録薄膜を形
成した後、保護層を形成し光ディスクメモリーを製造し
た。

（発明の効果） 本発明の方法によｆＬは次の効果が達成さｎる。

（１）　　プライマー塗布工程が不要になる。

（２）ディスク用基板とレプリカ用樹脂との密層力が向
上する。

（６）　　コンベア式の紫外線照射装置によりディスク
用基板の連続的な表面改質ができる。

（４）　　ディスク用基板がプラスチックであり、ハー
ドコートが必要な場合も基板とハードコート材との密着
力が向上する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、凹凸が形成されたスタンパ上にレプリカ用樹脂を介
   してディスク用基板を密着し、レプリカ用樹脂を硬化さ
   せた後、スタンパとレプリカ用樹脂を剥離し、レプリカ
   用樹脂の凸凹面に記録薄膜を形成させるディスクメモリ
   ーの製造法に於て、ディスク用基板面を波長２５３７Å
   以下の紫外線を照射した後レプリカ用樹脂に密着させる
   ことを特徴とするディスクメモリーの製造法。 ２、光ディスク用基板の材質が、ガラス、熱可塑性樹脂
   、熱硬化性樹脂である特許請求の範囲第１項記載のディ
   スクメモリーの製造法。