JPS6295469A - 光集積スペクトル分析器 - Google Patents
光集積スペクトル分析器Info
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- JPS6295469A JPS6295469A JP23571085A JP23571085A JPS6295469A JP S6295469 A JPS6295469 A JP S6295469A JP 23571085 A JP23571085 A JP 23571085A JP 23571085 A JP23571085 A JP 23571085A JP S6295469 A JPS6295469 A JP S6295469A
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、表面弾性波（以下ＳＡＷと呼ぶ）と光の相
互作用を利用して高周波１気信号（以下ＲＦ倍信号呼ぶ
）のスペクトル分析をする光集積スペクトル分析器に係
わり、特に導波発散光を平行にしたり回折光を集光する
反則形回折格子レンズの構成に関するものである。
互作用を利用して高周波１気信号（以下ＲＦ倍信号呼ぶ
）のスペクトル分析をする光集積スペクトル分析器に係
わり、特に導波発散光を平行にしたり回折光を集光する
反則形回折格子レンズの構成に関するものである。
第２図はＴ 、 ５ｕｈａｒａらにより文献１ ） Ｉ
ＥＥＥ Ｊｕａｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅｌ
ｅｃｔｒｏｎｉｃｓ １ＶｏＬ ＱＥ−１８。
ＥＥＥ Ｊｕａｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅｌ
ｅｃｔｒｏｎｉｃｓ １ＶｏＬ ＱＥ−１８。
ＮＯ，７，Ｊｕｌｙ １９８２ Ｐ１０５７〜１０５９
に報告されている従来のこの種装置を示している。第
２図において（１〕は誘τ体基板、（２）は光導波路、
（３）は半導体装置ザ、（４）は発散光、（５）は第１
の反射上回折格子レンズ、（６）は平行光、（７）は第
２の反射上回折格子レンズ、（８）は収束光、（９）は
光検出器アレー〇〇はＳＡｗトランスジューサ、鋤はＳ
ＡＷ 、（イ）はＳＡＷ吸収物質、０３は第１の端面、
α鴇は第２の端面である。
に報告されている従来のこの種装置を示している。第
２図において（１〕は誘τ体基板、（２）は光導波路、
（３）は半導体装置ザ、（４）は発散光、（５）は第１
の反射上回折格子レンズ、（６）は平行光、（７）は第
２の反射上回折格子レンズ、（８）は収束光、（９）は
光検出器アレー〇〇はＳＡｗトランスジューサ、鋤はＳ
ＡＷ 、（イ）はＳＡＷ吸収物質、０３は第１の端面、
α鴇は第２の端面である。
次に動作について説明する。半導体レーザ（３）からの
光は、第１の端面α３により光導波路（２）内に結合さ
れ光導波路（２）内を伝搬する発散光（４）となる。
光は、第１の端面α３により光導波路（２）内に結合さ
れ光導波路（２）内を伝搬する発散光（４）となる。
上記発散光（４）は第２の端面０柔より出射し、第１の
反則形回折格子レンズ（５）に入射する。第１の反射形
回析格子レンズ（５）の格子の周期は一定ではなく場所
によって異っており、奔放光を平行光に変換するような
周期構造になっている。上記第１の反射形回析格子レン
ズ（５）に入射した発散光は平行光に変換されるととも
に光路が折り返えされ、再び上記第２の端面０．Ｉ）か
ら光導波路（２１内に入射し、上記光２１波路（２）内
を伝搬する平行光ｆＱ）となる。上記平行光＋１５１は
光導波路（２）内を伝搬したのち、上記第１の端面■よ
り出射し第２の反射上回折格子レンズ（７）に入射する
。上記第２の反射上回折格子レンズ（７）も上記第１の
反射上回折格子レンズと同様の周期構造をもっているが
、第２の反射上回折格子レンズ（７）では平行光が収束
光に変換される。上記第２の回折格子レンズ〔７）によ
って収束光となった光は再び第１の端面０３より上記光
導波路（２）に入射し、光導波路（２１内を伝搬する収
束光（８）となり光検出器アレー（９）上の点Ａに集光
する。
反則形回折格子レンズ（５）に入射する。第１の反射形
回析格子レンズ（５）の格子の周期は一定ではなく場所
によって異っており、奔放光を平行光に変換するような
周期構造になっている。上記第１の反射形回析格子レン
ズ（５）に入射した発散光は平行光に変換されるととも
に光路が折り返えされ、再び上記第２の端面０．Ｉ）か
ら光導波路（２１内に入射し、上記光２１波路（２）内
を伝搬する平行光ｆＱ）となる。上記平行光＋１５１は
光導波路（２）内を伝搬したのち、上記第１の端面■よ
り出射し第２の反射上回折格子レンズ（７）に入射する
。上記第２の反射上回折格子レンズ（７）も上記第１の
反射上回折格子レンズと同様の周期構造をもっているが
、第２の反射上回折格子レンズ（７）では平行光が収束
光に変換される。上記第２の回折格子レンズ〔７）によ
って収束光となった光は再び第１の端面０３より上記光
導波路（２）に入射し、光導波路（２１内を伝搬する収
束光（８）となり光検出器アレー（９）上の点Ａに集光
する。
次に、ＳＡＷ ）−ランスジューサＣ１ｄに、印加手段
は図示していないが高周波男気信号（ＲＦ倍信号を印加
すると、光導波路（２１内に８ＡＷ （１１１が励起さ
れ上記ＲＦ倍信号対するＳＡＷの波長ｄを周期とする一
種の回折格子が上記光導波路（２１内に形成される。こ
の回折格子に上記平行光（６）が入射すると、その一部
は回折されて回折光Ｑ！１９に変換される。この回折光
αＱは上記光導波路（２）内を伝搬したのち第２の反射
上回折格子レンズ（７）に入則し、収束光ａａに変換さ
れて光検出器アレー（９）上の点Ｂに集光する。この集
光点Ｂの位置は上記ＲＦ倍信号周波数によ。
は図示していないが高周波男気信号（ＲＦ倍信号を印加
すると、光導波路（２１内に８ＡＷ （１１１が励起さ
れ上記ＲＦ倍信号対するＳＡＷの波長ｄを周期とする一
種の回折格子が上記光導波路（２１内に形成される。こ
の回折格子に上記平行光（６）が入射すると、その一部
は回折されて回折光Ｑ！１９に変換される。この回折光
αＱは上記光導波路（２）内を伝搬したのち第２の反射
上回折格子レンズ（７）に入則し、収束光ａａに変換さ
れて光検出器アレー（９）上の点Ｂに集光する。この集
光点Ｂの位置は上記ＲＦ倍信号周波数によ。
て変化するので光検出器アレー（９）の出力を、観測手
段は図示していないが、観測すれば上記ＲＦ倍信号スペ
クトルを分析することができる。
段は図示していないが、観測すれば上記ＲＦ倍信号スペ
クトルを分析することができる。
第３図はＳＡＷによる光の回折を説明するための図で、
ちる。ＳＡＷによって生じる回折格子の周期をｄ、光の
入射角度をθＢ、光の波長を人、実効屈折率をｎとする
と、回折平行光＠は第（１）式で与えられる回折角度θ
Ｂにおいて最大強度になる。
ちる。ＳＡＷによって生じる回折格子の周期をｄ、光の
入射角度をθＢ、光の波長を人、実効屈折率をｎとする
と、回折平行光＠は第（１）式で与えられる回折角度θ
Ｂにおいて最大強度になる。
また、光導波路内のＳＡＷの伝搬速度をＶ、上記ＲＦ倍
信号固液？ｌをＦとするとＳＡＷの波長すなわち回折格
子の周期ｄは第（２）式で与えられる。
信号固液？ｌをＦとするとＳＡＷの波長すなわち回折格
子の周期ｄは第（２）式で与えられる。
ｄ＝ｖ／Ｆ ・・・・・・
（２１第（２）式を第（１）式に代入すると となる。ここで第（３）式の右辺のカッコの中は１より
十分少さいので、結局 と近似することができる。第４式より回折角黒はＲＦ倍
信号周波数に比例することがわかる。
（２１第（２）式を第（１）式に代入すると となる。ここで第（３）式の右辺のカッコの中は１より
十分少さいので、結局 と近似することができる。第４式より回折角黒はＲＦ倍
信号周波数に比例することがわかる。
たとえば、半導体レーザの真空中での波長式＝０．８５
１Ｘｎ、誘熔体基板としてＬｉｘｌｂｏ３結晶を用い、
光導波路をＴｉの拡散によって作５！Ｊシたとすると、
先導波路中を伝搬する碑波光のＴ効屈析率ｎはｎ爬２．
２１７ 胛度になる。他方、この結晶中ケ伝搬オるＳＡ
Ｗの伝搬速度は４０００ｒｒＩ／’ｑ 程度であり、上
記ＲＦ倍信号最大周波数をＦ＝ Ｉ Ｇｌ−［、とする
と、第４式より回折角度の最大値θＢ ｍ ａ ｘは２
．７５°と見Ｆ ることかできる。
１Ｘｎ、誘熔体基板としてＬｉｘｌｂｏ３結晶を用い、
光導波路をＴｉの拡散によって作５！Ｊシたとすると、
先導波路中を伝搬する碑波光のＴ効屈析率ｎはｎ爬２．
２１７ 胛度になる。他方、この結晶中ケ伝搬オるＳＡ
Ｗの伝搬速度は４０００ｒｒＩ／’ｑ 程度であり、上
記ＲＦ倍信号最大周波数をＦ＝ Ｉ Ｇｌ−［、とする
と、第４式より回折角度の最大値θＢ ｍ ａ ｘは２
．７５°と見Ｆ ることかできる。
上記第２の反射上回折格子レンズ（７）に対して、入射
光がこの程度傾斜してもＲＦｌオ号のｌ、＋、１波数に
対する分解能が低下させないためには、２つの反則形回
折格子レンズには回折限界のＳ↓光特性を有することが
要求される。
光がこの程度傾斜してもＲＦｌオ号のｌ、＋、１波数に
対する分解能が低下させないためには、２つの反則形回
折格子レンズには回折限界のＳ↓光特性を有することが
要求される。
次に、従来の装置で用いられている反射上回折格子レン
ズの間１点および光導波路との結合における問題点につ
いて説明する。反射上回折格子レンズは、金属基板もし
くは誘！１体基板上に１円筒波を平面波に変換するよう
な場所によって格子周期が異なる直線上の格子パターン
を彎子ビームリソグラフィもしくはフォトリソグラフィ
によって描画し、エツチング等によりレリーフ形口析格
子を作製し、さらに反射率を上げるため、表面に高反射
膜を蒸着等により作製することによって製作される。前
記方法により！す作てれた反射上回折格子レンズにおい
て、格子断面形状が矩形の場合その回折効率の最大値は
高々４０．５ ％であり、効率を改善するために格子
断面の形状をイオンビーム加工や型子ビームレジストの
露光特性を利用して、三角形升のブレーズ化したエシエ
レットグレーティングとした場合でも回折効率７０％芹
度のもσ）が得られているにすぎず、効率が低いという
欠点がある。さらに、光導波路との結合において１波路
内を伝りしてきた光は、一度導波路外に出射プれ、上記
反射上回折格子レンズと結合する構成となっているので
、端面出射における反射損失が側視できない。誘電体基
板としてＬｉＮｂｏ３ 結晶を用いた場合、端面におけ
るフレネル反射損失は１面につき約１４％となり、上記
反射上回折格子レンズとの結合ブは出射・入射と２面反
射面があることになるので１端面につき２８％の反射損
失がある。従来装置では上記反射形回析格子レンズを２
便用いているので反射損失は約５６％となり、光の利用
効率カ低いという欠点があるとともに、反射によるバッ
クグラウンド光がＩｚし、ダイナミックレンジを低下さ
せるという欠点がある。また、上記反射上回折格子レン
ズは誘電体基板（１）とは分離された構成となっている
ので、上記誘電体基板（１）に対する位置合せや精変の
よい保持が難しいという欠点をもっていた。
ズの間１点および光導波路との結合における問題点につ
いて説明する。反射上回折格子レンズは、金属基板もし
くは誘！１体基板上に１円筒波を平面波に変換するよう
な場所によって格子周期が異なる直線上の格子パターン
を彎子ビームリソグラフィもしくはフォトリソグラフィ
によって描画し、エツチング等によりレリーフ形口析格
子を作製し、さらに反射率を上げるため、表面に高反射
膜を蒸着等により作製することによって製作される。前
記方法により！す作てれた反射上回折格子レンズにおい
て、格子断面形状が矩形の場合その回折効率の最大値は
高々４０．５ ％であり、効率を改善するために格子
断面の形状をイオンビーム加工や型子ビームレジストの
露光特性を利用して、三角形升のブレーズ化したエシエ
レットグレーティングとした場合でも回折効率７０％芹
度のもσ）が得られているにすぎず、効率が低いという
欠点がある。さらに、光導波路との結合において１波路
内を伝りしてきた光は、一度導波路外に出射プれ、上記
反射上回折格子レンズと結合する構成となっているので
、端面出射における反射損失が側視できない。誘電体基
板としてＬｉＮｂｏ３ 結晶を用いた場合、端面におけ
るフレネル反射損失は１面につき約１４％となり、上記
反射上回折格子レンズとの結合ブは出射・入射と２面反
射面があることになるので１端面につき２８％の反射損
失がある。従来装置では上記反射形回析格子レンズを２
便用いているので反射損失は約５６％となり、光の利用
効率カ低いという欠点があるとともに、反射によるバッ
クグラウンド光がＩｚし、ダイナミックレンジを低下さ
せるという欠点がある。また、上記反射上回折格子レン
ズは誘電体基板（１）とは分離された構成となっている
ので、上記誘電体基板（１）に対する位置合せや精変の
よい保持が難しいという欠点をもっていた。
この発明は、上記のような間頌点を解消するためになさ
れたもので、プレーナ技術で上記Ｍ ９体基板（１）上
に平面的に回折格子反射鏡を作製することにより信頼性
の高い高性能の光集積スペクトル分析器を得ることを目
的としている。
れたもので、プレーナ技術で上記Ｍ ９体基板（１）上
に平面的に回折格子反射鏡を作製することにより信頼性
の高い高性能の光集積スペクトル分析器を得ることを目
的としている。
この発明に係る光集積スペクトル分析器では、第１の光
導波路反射鏡と第２の光導波路反射（境として、光導波
路媒質の屈折率を周期的に変化させた屈析率変調形の回
折格子反射鏡を用いるようにしたものである。
導波路反射鏡と第２の光導波路反射（境として、光導波
路媒質の屈折率を周期的に変化させた屈析率変調形の回
折格子反射鏡を用いるようにしたものである。
この発明における光集積スペクトル分析器では、プレー
ナ技術で誘電体基板上に平面的に作製できる回折格子反
射鏡を用いており、回折限界の集光スポットが得られる
とともに、回折効率が高く、しかも従来装置のように端
面における反射損失を生じないようになっている。
ナ技術で誘電体基板上に平面的に作製できる回折格子反
射鏡を用いており、回折限界の集光スポットが得られる
とともに、回折効率が高く、しかも従来装置のように端
面における反射損失を生じないようになっている。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図において、ａ力は第１の回折格子反射鏡、（至）
は第２の回折格子反射鏡である。
は第２の回折格子反射鏡である。
第１の回折格子反射鏡α力は次のようにして作製できる
。第１図における第１の端面（至）上の点Ｃを中心とす
る発散円筒波（４）と平行光束（６）との干渉縞を上記
＠１の回折格子反射鏡αηが設置される位置で計算し、
上記干渉縞によってできる明暗パターンを求め、上記明
暗パターンに従って、暗部のみを遮へいするようなマス
クパターンをフォトリソグラフィもしくは彎子線リソグ
ラフィーによって予め光導波路（２）を有する誘電体基
板（１）の表面につけ、そののちＪ 、 Ｌ 、 Ｊａ
ｃｋｅｌらにより文献２）Ａｒｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉ
ｃｓ Ｌｅｔｌｅｒｓ ４ （７１，１００ｃｔｏｂｅ
ｒ（１９８２） Ｐ６０７〜６０８に報告されている方
法にまり、上記明暗パターンに従って屈折率を変化させ
、しかるのち上記マスクを除去して、屈析率変調形の回
折格子反射鏡を得ることができる。
。第１図における第１の端面（至）上の点Ｃを中心とす
る発散円筒波（４）と平行光束（６）との干渉縞を上記
＠１の回折格子反射鏡αηが設置される位置で計算し、
上記干渉縞によってできる明暗パターンを求め、上記明
暗パターンに従って、暗部のみを遮へいするようなマス
クパターンをフォトリソグラフィもしくは彎子線リソグ
ラフィーによって予め光導波路（２）を有する誘電体基
板（１）の表面につけ、そののちＪ 、 Ｌ 、 Ｊａ
ｃｋｅｌらにより文献２）Ａｒｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉ
ｃｓ Ｌｅｔｌｅｒｓ ４ （７１，１００ｃｔｏｂｅ
ｒ（１９８２） Ｐ６０７〜６０８に報告されている方
法にまり、上記明暗パターンに従って屈折率を変化させ
、しかるのち上記マスクを除去して、屈析率変調形の回
折格子反射鏡を得ることができる。
第２の回折格子反射鏡０８は第２の端面０４）上の点Ａ
を中心とする収束円筒法（８）と平行光束（６）とによ
ってできる干渉縞の明暗パターンをマスクパターンとす
ることにより、上記第１の回折格子反射鏡αηと同様の
方法により作！９することができる。
を中心とする収束円筒法（８）と平行光束（６）とによ
ってできる干渉縞の明暗パターンをマスクパターンとす
ることにより、上記第１の回折格子反射鏡αηと同様の
方法により作！９することができる。
゛以上のように作製された上記第１および第２の回折格
子反射鏡は型押の反射位相型体劇ホログラムと見なすこ
とができるので、第１の回折格子反射鏡αηは上記発散
光（４）が入ｎ・１シたときには無収差で平行光（６）
に変換し、第２の回折格子反射鏡側は上記平行光（６）
を収束光（８）に変換し、無収差で上記光検出器アレー
（９）上の点Ａに集光することができる。また上記回折
光（至）の上記平行光（６）に対する回折角度は高々２
．８°稈度であるので収束光αＧで発生する収差は小さ
く、はぼ年収差で光検出器アレー（９）上の点Ｂに集光
することができる。
子反射鏡は型押の反射位相型体劇ホログラムと見なすこ
とができるので、第１の回折格子反射鏡αηは上記発散
光（４）が入ｎ・１シたときには無収差で平行光（６）
に変換し、第２の回折格子反射鏡側は上記平行光（６）
を収束光（８）に変換し、無収差で上記光検出器アレー
（９）上の点Ａに集光することができる。また上記回折
光（至）の上記平行光（６）に対する回折角度は高々２
．８°稈度であるので収束光αＧで発生する収差は小さ
く、はぼ年収差で光検出器アレー（９）上の点Ｂに集光
することができる。
ざらに、前述のように上記第１および第２の回折格子反
射鏡は反射位相型体穆ホログラムと見なすことができの
で、その回折効率は理論上１００％とすることができ、
高効率とすることが可能である。また、従来装置のよう
に竿１および第２の回折格子反射鏡部分において、上記
光導波路（２）を伝搬してくる２４波光は端面から出射
し、また入射するということがないので、端面における
反射損失を生じないという利点を有している。
射鏡は反射位相型体穆ホログラムと見なすことができの
で、その回折効率は理論上１００％とすることができ、
高効率とすることが可能である。また、従来装置のよう
に竿１および第２の回折格子反射鏡部分において、上記
光導波路（２）を伝搬してくる２４波光は端面から出射
し、また入射するということがないので、端面における
反射損失を生じないという利点を有している。
なお、上記実施例ではＬ ｉ Ｎｂ ０！結晶を用いた
場合について説明したが、イオン交換等により屈折率差
が得られる物面で圧！効果を有するものであればよく、
上記実施例と同様の効果を奏する。
場合について説明したが、イオン交換等により屈折率差
が得られる物面で圧！効果を有するものであればよく、
上記実施例と同様の効果を奏する。
以上のように、この発明によれば、反射位相型体積ホロ
グラムとみなすことができる第１および第２の回折格子
反射鏡をイオン交換等に止り屈折率変調型の回折格子と
しているので、収差が小さく、ハト光スポットが回折限
界の値になっており、ＲＦ倍信号周波数が墓くなっても
分解能が低下することがないという利点を有するととも
に、反射損失を生ぜずかつ高効率とすることができると
いう利点を有している。さらに、この構成の回折格子反
射鏡は、プレーナ技術を用いて平面上に作製できるので
、形状ｍ変が高く、位置精誓も良くかつ大工生産に向い
ているので安価なものが得られる利点を有している。
グラムとみなすことができる第１および第２の回折格子
反射鏡をイオン交換等に止り屈折率変調型の回折格子と
しているので、収差が小さく、ハト光スポットが回折限
界の値になっており、ＲＦ倍信号周波数が墓くなっても
分解能が低下することがないという利点を有するととも
に、反射損失を生ぜずかつ高効率とすることができると
いう利点を有している。さらに、この構成の回折格子反
射鏡は、プレーナ技術を用いて平面上に作製できるので
、形状ｍ変が高く、位置精誓も良くかつ大工生産に向い
ているので安価なものが得られる利点を有している。
第１図はこの発明の一実地例番でよる光集梼スペクトル
分析器の構成図、第２図は従来の装置の構成図、第３図
はＳＡＷによる光の回折を説明するための図である。 図中、（１）は巽電体古（板、（２）は光導波路、（３
）は半導体レーザ、（４）は発散光、（５）は第１の反
則形回折格子レンズ、１６）は平行光、（７）は第２の
反則形回折格子レンズ、（８）は収束光、（９）は光検
出器アレー、αＯはＳＡＷ ｌ−ランスジューサ、αη
はＳＡＷ、０２はＳＡＷ吸収物質、０３は第１の端面、
０毛は第２端面、０９は回折光、αＧは収束光、ａ７１
＋、を第１の回折格子反射鏡、α乃は第２の回折格子反
射鏡である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
分析器の構成図、第２図は従来の装置の構成図、第３図
はＳＡＷによる光の回折を説明するための図である。 図中、（１）は巽電体古（板、（２）は光導波路、（３
）は半導体レーザ、（４）は発散光、（５）は第１の反
則形回折格子レンズ、１６）は平行光、（７）は第２の
反則形回折格子レンズ、（８）は収束光、（９）は光検
出器アレー、αＯはＳＡＷ ｌ−ランスジューサ、αη
はＳＡＷ、０２はＳＡＷ吸収物質、０３は第１の端面、
０毛は第２端面、０９は回折光、αＧは収束光、ａ７１
＋、を第１の回折格子反射鏡、α乃は第２の回折格子反
射鏡である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 二次元光導波路と、この二次元光導波路に形成された第
１の光導波路反射鏡と第２の光導波路反射鏡と、上記第
１と第２の光導波路反射鏡の間に位置し上記第１の光導
波路反射鏡で反射され、第２の光導波路反射鏡に到達す
る導波光の進行を防げない位置に１個もしくは複数個の
表面弾性波を励振するトランスジューサと、このトラン
スジューサによって励振され上記導波光を斜交した表面
弾性波を吸収するダンパをそなえた誘電体基板と、上記
第１の光導波路反射鏡に対向する上記誘導体基板の端面
に半導体レーザを備え、上記第２の光導波路反射鏡に対
向する上記誘電基板のもう一方の端面に直接的にあるい
は結像レンズ系を介して間接的に接続される光検出器ア
レーとを備え、上記トランスジューサに入力される電機
信号の周波数を光検出間アレー上に集光される上記半導
体レーザからの光の集光位置の違いから分析する光集積
スペクトル分析器において、上記第１の光導波路反射鏡
と第２の光導波路反射鏡として二次元光導波路の屈折率
を略周期的に変化させた部分を有する屈析率変調形の回
折格子反射鏡としたことを特徴とする光集積スペクトル
分析器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23571085A JPS6295469A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 光集積スペクトル分析器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23571085A JPS6295469A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 光集積スペクトル分析器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6295469A true JPS6295469A (ja) | 1987-05-01 |
Family
ID=16990083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23571085A Pending JPS6295469A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 光集積スペクトル分析器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6295469A (ja) |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23571085A patent/JPS6295469A/ja active Pending
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